新型光臂放大式二维线性测头制造技术

技术编号:12751349 阅读:132 留言:0更新日期:2016-01-21 19:33
本实用新型专利技术公开了一种新型光臂放大式二维线性测头,包括用于发射两条激光束的两个激光源;用于反射每束激光束的测头基座,测头基座设有至少两个反射面以及测杆和测球;用于接收两条反射激光束的两个光电探测器;用于使测头基座,或光电探测器与测头基座一起,做直线运动的平移部件,以改变测头基座反射面上的两条激光束反射点位置的平移部件;用于将测头基座回复至初始位置的回复部件;用于计算获得测球位移变化值的处理系统。该二维线性测头通过两个光电探测器能够得到在两个不同直线方向的位移量,以补偿被测工件定位时的测量偏差,获得更为准确的测量坐标,提高了测量精度,简化了结构,降低了生产成本,易于批量加工制造。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种精密测量
,特别涉及一种新型光臂放大式二维线测 头。
技术介绍
测头是精密量仪的关键部件之一,作为传感器提供被测工件的几何位置信息,测 头的发展水平直接影响着精密量仪的测量精度与测量效率。精密测头通常分为接触式测头 与非接触式测头两种,其中接触式测头又分为机械式测头、触发式测头和扫描式测头;非接 触式测头分为激光测头和光学视频测头。 机械式测头是精密量仪使用较早的一种测头。该测头通过测头测端与被测工件直 接接触进行位置测量,主要用于手动测量。该类测头结构简单、操作方便,其缺点在于精度 不高,测量效率低,目前很少用于工业测量领域。当前工业领域广泛使用的精密测头是触发 式测头。触发式测头的测量原理是当测头测端与被测工件接触时精密量仪发出采样脉冲信 号,并通过仪器的处理系统锁存此时测端球心的坐标值,以此来确定测端与被测工件接触 点的坐标。该类测头具有结构简单、使用方便、及较高触发精度等优点,是三维测头中应用 最广泛的测头。但该类测头的缺点在于:存在各向异性(三角效应),或者接触式测头在接 触被测工件时因为阻力而产生微小位移从而导致测头的位移偏差,限制了其测本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种新型光臂放大式二维线性测头,其特征在于,包括:两个激光源,用于发射两条激光束,即激光源一(11)发射激光束一(21),激光源二(12)发射激光束二(22);测头基座(4),包括至少两个反射面,用于反射每个所述激光源发射的激光束,所述测头基座上设有用于检测的测杆(6)和测球(7);两个光电探测器,即光电探测器一(31)、光电探测器二(32),分别用于接收所述测头基座(4)上反射面反射的激光束一(21)、激光束二(22);平移部件,用于使所述测头基座(4)做直线运动,或用于使所述测头基座(4)与光电探测器共同做直线运动,以改变所述测头基座(4)反射面上的所述激光束一(21)、激光束二(22)的...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张白康学亮
申请(专利权)人:北方民族大学
类型:新型
国别省市:宁夏;64

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