用于防止镜头内部雾化的方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种用于防止镜头内部雾化的方法和一种用于防止镜头内部雾化的装置。该方法包括确定镜头内部的雾化位置；在雾化位置处通入洁净气体以排除镜头的雾化位置处的杂质气体。本发明专利技术的用于防止镜头内部雾化的方法有效地提高了镜头的透明度，使镜头无需经常更换以及清洁维护，一方面提高了光刻制程过程中的产能，另一方面可延长镜头的使用寿命，大大降低了生产成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于液晶显示
，具体涉及用于防止镜头内部雾化的方法及装置。
技术介绍
近年来，中小尺寸的液晶显示器发展迅猛，在阵列层的生产过程中需要经过多道光刻制程，而曝光机的镜头用于发出紫外光，该紫外光将胶片或其他透体上的图像信息转移到涂有感光物质的阵列基板上，从而完成阵列层的多道光刻制程。然而，由于TFT IXD工厂环境中通常含有机物(VOC)颗粒以及铵根正离子(NH4+)颗粒，曝光机镜头保存的环境对VOC浓度的要求需低于200ppb，而目前一般应用的G8.5代次TFT IXD工厂的VOC浓度通常大于lOOOppb，在此浓度下，长时间的生产过程中会在曝光机镜头上形成颗粒堆积，造成玻璃透明度降低，即发生镜头雾化。曝光机的镜头发生雾化一方面可导致灯源寿命减少，造成产能损失；另一方面使灯源的更换以及清洁维护成本大大增加。针对上述技术存在的问题，在本领域中希望寻求一种用于防止镜头内部雾化的方法和一种用于防止镜头内部雾化的装置，以解决现有技术中的不足之处。
技术实现思路
本专利技术针对现有技术的不足之处，提供了一种用于防止镜头内部雾化的方法以及一种用于防止镜头内部雾化的装置。根据本专利技术提供的一种用于防止镜头内部雾化的方法，包括:确定镜头内部的雾化位置；在雾化位置处通入洁净气体以排除镜头的雾化位置处的杂质气体。在现有技术中，由于镜头内部随工作时间的增加而致使内部工作温度逐渐升高，此时需要使用冷却气体对镜头内部进行降温，而目前应用的冷却气体通常为位于工厂厂房内部的含有机物(VOC)颗粒以及铵根正离子(NH4+)颗粒成分较高的气体，该成分气体的进入会导致镜头内部发生雾化，从而降低镜头的光透过率。在本专利技术的用于防止镜头内部雾化的方法中，首先对镜头内部的雾化位置进行确定，随后在雾化位置处通入洁净气体来排除雾化位置处的杂质气体，即使用洁净气体来赶走位于雾化位置处的杂质气体，从而使杂质气体不会在雾化位置处发生反应沉淀而致使镜头的光透过率下降。本专利技术的用于防止镜头内部雾化的方法有效地提高了镜头的透明度，使镜头无需经常更换以及清洁维护，一方面提高了光刻制程过程中的产能，另一方面可延长镜头的使用寿命，大大降低了生产成本。在一些实施方案中，镜头内部的雾化位置通过对镜头的各部分的光透过率进行测试而得到。通过对镜头的各部分的光透过率进行测试来确定镜头内部的具体雾化位置，对确定的雾化位置进行针对性的杂质气体排出，可有效防止镜头的雾化。在一些实施方案中，洁净气体为不会使镜头发生雾化的气体。值得注意的是，本专利技术中的洁净气体主要用于排除使雾化位置处的杂质气体，因此只要能够保证该洁净气体不会使雾化位置发生雾化即可。优选地，该洁净气体可以是不会使镜头发生雾化反应的气体，例如惰性气体等，也可以是杂质颗粒浓度较低的空气。在一些实施方案中，杂质气体包括有机物颗粒和铵根正离子颗粒。能够使镜头发生雾化的杂质气体的主要成分为机物颗粒和铵根正离子颗粒，对这些颗粒进行排除可大大降低镜头雾化反应的发生。在一些实施方案中，洁净气体持续通入至雾化位置处。该方案用于持续排除雾化位置处的杂质气体，从而有效保证雾化位置处的清洁。在一些实施方案中，还包括:在排除杂质气体的雾化位置处设置隔离罩，隔离罩包括进气口和出气口，洁净气体通过进气口进入隔离罩内，并且将隔离罩内的杂质气体继续通过出气口排出。在该方案中，在已经排除了杂质气体的雾化位置处设置隔离罩，隔离罩可对雾化位置进行保护，设置好隔离罩以后，继续向进气口通入洁净气体，从而进一步排出隔离罩内可能存在的杂质气体，以避免杂质颗粒对雾化位置的影响。在一些实施方案中，进气口朝向镜头内部的雾化位置的边缘。该方案将进气口设置在雾化位置的边缘可使雾化位置处的杂质气体更充分地排出隔离罩。当通入的洁净气体的密度较大时，出气口可相应设置于进气口的上方，此时洁净气体在隔离罩内由下至上，并由雾化位置的边缘向上流动，从而完全排出隔离罩内的杂质气体；当通入的洁净气体的密度较小时，出气口可相应设置于进气口的下方，此时洁净气体在隔离罩内由上至下，并由雾化位置的边缘向下流动，从而完全排出隔离罩内的杂质气体。根据本专利技术提供的一种用于防止镜头内部雾化的装置，包括设置在镜头内部的雾化位置处的隔离罩。隔离罩主要用于对雾化位置与镜头内部的其他部分进行隔离，从而防止镜头内部环境中的杂质气体对雾化位置的影响。在一些实施方案中，隔离罩包括进气口，进气口处设置有过滤器。通过隔离罩的进气口向隔离罩内进一步通入洁净气体可进一步排出雾化位置处的杂质气体，该洁净气体例如可以是经过滤器过滤的冷空气。而该方案中的过滤器一方面可过滤掉能够使雾化位置发生雾化反应的气体，另一方面可对经过其的气体进行降温，从而形成冷却气体以便对镜头内部进行降温。在一些实施方案中，隔离罩还包括:出气口，出气口处延伸有出气管，设置在出气管处的调节减震部件，其中，调节减震部件包括与出气管相套接的弹簧软管，弹簧软管一端与隔离罩相连，另一端与镜头的外罩相连，并且弹簧软管的最小压缩长度大于出气管的长度。在该方案中，调节减震部件一方面用于对隔离罩起固定作用，另一方面其弹簧软管用于对隔离罩起减震作用。出气管套接于弹簧软管内，弹簧软管的最小压缩长度大于出气管的长度，使出气管排出的气体可通过弹簧软管的缝隙排出。与现有技术相比，本专利技术的用于防止镜头内部雾化的方法有效地提高了镜头的透明度，使镜头无需经常更换以及清洁维护，一方面提高了光刻制程过程中的产能，另一方面可延长镜头的使用寿命，大大降低了生产成本。【附图说明】在下文中将基于实施例并参考附图来对本专利技术进行更详细的描述。其中:图1是根据本专利技术的用于防止镜头内部雾化的方法的流程图；图2是镜头内部的气体流通原理图；图3是根据本专利技术的用于防止镜头内部雾化的装置的结构的俯视示意图；图4是图3所示的隔离罩的结构示意图。在附图中，相同的部件使用相同的附图标记。附图并未按照实际的比例绘制。【具体实施方式】下面将结合附图对本专利技术作进一步说明。这里所介绍的细节是示例性的，并仅用来对本专利技术的实施例进行例证性讨论，它们的存在是为了提供被认为是对本专利技术的原理和概念方面的最有用和最易理解的描述。关于这一点，这里并没有试图对本专利技术的结构细节作超出于基本理解本专利技术所需的程度的介绍，本领域的技术人员通过说明书及其附图可以清楚地理解如何在实践中实施本专利技术的几种形式。图1显示了根据本专利技术提供的用于防止镜头10内部雾化的方法的流程图。如图1所示，该方法包括以下步骤:步骤SlOO:确定镜头10内部的雾化位置；步骤S200:在雾化位置处通入洁净气体b以排除镜头10的雾化位置处的杂质气体。结合图2所示，在现有技术中，光源S由其所在图中所示位置朝向镜头10发光，由于镜头10内部随工作时间的增加而致使内部工作温度逐渐升高，此时需要使用冷却气体a对镜头内部进行降温，而目前应用的冷却气体a通常为位于工厂厂房内部的含有机物(VOC)颗粒以及铵根正离子(NH4+)颗粒成分较高的气体，该成分气体的进入会导致镜头10内部发生雾化，从而降低镜头10的光透过率。在本专利技术的用于防止镜头10内部雾化的方法中，首先对镜头10内部当前第1页1 2 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于防止镜头内部雾化的方法，包括：确定镜头内部的雾化位置；在所述雾化位置处通入洁净气体以排除所述镜头的雾化位置处的杂质气体。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：胡德莹，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42