调色剂、显影剂、图像形成设备、和图像形成方法技术

技术编号:12663031 阅读:152 留言:0更新日期:2016-01-07 00:28
调色剂包括含有包含分别由结晶性和非结晶性树脂得到的结构单元的共聚物树脂的粘合树脂。通过脉冲NMR测量的所述调色剂在50℃的自旋-自旋弛豫时间(t50)为≤0.05毫秒,当从50℃加热至130℃时在130℃的自旋-自旋弛豫时间(t130)为≥15毫秒,并且当从130℃冷却至70℃时在70℃的自旋-自旋弛豫时间(t’70)为≤1.00毫秒。通过将通过轻敲模式AFM观察到的所述调色剂的相位图像基于所述相位图像中的最大和最小相位差之间的中间值进行二值化而获得的二值化图像包括由大的相位差部分构成的第一相位差图像和由小的相位差部分构成的第二相位差图像。第一相位差图像分散在第二相位差图像中。第一相位差图像的分散直径为150nm或更小。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及调色剂、显影剂、图像形成设备、和图像形成方法
技术介绍
常规地,将由电子照相图像形成设备以电方式或者磁方式形成的潜像用电子照相调色剂(下文中,可简称为“调色剂”)显影。例如,在电子照相中,在感光体上形成静电荷图像(潜像),然后将所述潜像用调色剂显影,从而形成调色剂图像。通常,将所述调色剂图像转印至转印材料例如纸,然后定影在所述转印材料例如纸上。在将所述调色剂图像定影在转印纸上的定影步骤中,一般使用热定影方法例如加热辊定影方法和加热带定影方法,因为这些方法是高能效的。近来,市场上对高速且节能的图像形成设备的需求在日益增加,并且因此,期望具有优异的低温定影性并且能够提供高品质图像的调色剂。作为用于实现调色剂的低温定影性的方法,存在降低调色剂中包含的粘合树脂的软化点的方法。然而,当粘合树脂的软化温度低时,所谓的偏移(offset)(下文中也称作热偏移)变得更容易出现,其中在定影期间调色剂图像的一部分沉积到定影部件的表面上,然后被转印至复印纸。除此之外,调色剂的耐热存储稳定性也劣化,并且因此调色剂粒子特别是在高温环境中彼此熔合,这是所谓的粘连。此外,还在显影装置中,出现如下问题:调色剂熔融并且粘附至显影装置内部以及载体以将它们污染,或者感光体的表面变得更容易被调色剂成膜。对于用于解决前述问题的技术,已经知晓使用结晶性树脂作为调色剂的粘合树脂。由于结晶性树脂具有在其达到熔点时从其结晶化状态快速软化的特性,因此其可大幅降低调色剂的定影温度,同时在温度等于或低于熔点的温度下保持耐热存储稳定性。即,结晶性树脂可以高的水平实现低温定影性和耐热存储稳定性两者。然而,如下的结晶性树脂是软的并且容易经历塑性变型,尽管其具有优异的韧性:所述结晶性树脂具有这样的熔点,在该熔点处其表现出低温定影性。因此,当所采取的唯一措施是使用结晶性树脂作为粘合树脂时,调色剂在机械耐久性方面将非常差并且将导致各种各样的问题例如在图像形成设备中调色剂变形、凝集和凝固,所述设备中的部件被调色剂所污染,等等。因此,作为其中使用结晶性树脂作为粘合树脂的调色剂,已经常规地提出了其中将结晶性树脂和非结晶性树脂组合使用的许多调色剂(参见例如PTL1-PTL5)。与仅由非结晶性树脂制成的常规调色剂相比,这些调色剂在实现低温定影性和耐热存储稳定性两者方面是优异的。然而,如果将结晶性树脂暴露在调色剂的表面上方,则会由于显影装置中的搅拌应力而出现调色剂粒子凝集,这可导致转印空白(空隙,void)。因此,该提出的技术一直不能充分利用结晶性树脂的优点,因为必须抑制结晶性树脂的添加量。此外,已经提出了使用其中结晶性链段和非结晶性链段化学键合的树脂的许多调色剂。例如,提出了使用其中结晶性聚酯和聚氨酯键合的树脂作为粘合树脂的调色剂(参见例如PTL6和PTL7)。此外,提出了使用其中结晶性聚酯和无定形乙烯基聚合物键合的树脂的调色剂(参见例如PTL8)。此外,提出了使用其中结晶性聚酯和非结晶性聚酯键合的树脂作为粘合树脂的调色剂(参见例如PTL9-PTL11)。此外,提出了将无机细粒子添加至主要组分为结晶性树脂的粘合树脂的技术(参见例如PTL12)、和使用含有磺酸基团的具有通过不饱和键形成的交联结构的结晶性树脂的调色剂的技术(参见例如PTL13)。所有所提出的这些技术在实现低温定影性和耐热存储稳定性两者方面是优异的,但是无法根治归因于结晶性链段的软的特性,并且一直不能解决涉及调色剂机械耐久性的问题。此外,使用结晶性树脂的调色剂的一个主要问题是图像的耐摩擦性。在调色剂已经通过热定影而在定影介质上熔融之后,使调色剂中的结晶性树脂重结晶需要时间,并且因此在图像表面上调色剂无法快速恢复其硬度。因此,由于在定影之后的排纸步骤中与排纸辊、输送部件等的接触和滑动摩擦,调色剂将在图像表面上产生伤痕或者改变图像的光泽度。因此,目前,需要这样的调色剂:其能够以高的水平实现低温定影性和耐热存储稳定性两者,防止由于在显影装置中出现调色剂粒子的凝集而引起的转印空白,并且具有优异的耐摩擦性。引文列表专利文献PTL1日本专利(JP-B)No.3,949,553PTL2JP-BNo.4,155,108PTL3日本专利申请特开(JP-A)No.2006-071906PTL4JP-ANo.2006-251564PTL5JP-ANo.2007-286144PTL6日本专利申请公布(JP-B)No.04-024702PTL7JP-BNo.04-024703PTL8JP-ANo.63-027855PTL9JP-BNo.4,569,546PTL10JP-BNo.4,218,303PTL11JP-ANo.2012-27212PTL12JP-BNo.3,360,527PTL13JP-BNo.3,910,338
技术实现思路
技术问题本专利技术目标在于解决上述常规问题和实现以下目的。即,本专利技术的目的是提供这样的调色剂:其能够以高的水平实现低温定影性和耐热存储稳定性两者,防止由于在显影装置中出现调色剂粒子的凝集而引起的转印空白,并且具有优异的耐摩擦性。问题的解决方案用于解决所述问题的手段如下。即,本专利技术的调色剂为至少包含粘合树脂的调色剂,其中所述粘合树脂包含包括由结晶性树脂得到的结构单元和由非结晶性树脂得到的结构单元的共聚物树脂,其中通过脉冲NMR测量的所述调色剂在50℃的自旋-自旋弛豫时间(t50)为0.05毫秒或更短,当从50℃加热至130℃时所述调色剂在130℃的自旋-自旋弛豫时间(t130)为15毫秒或更长,和当从130℃冷却至70℃时所述调色剂在70℃的自旋-自旋弛豫时间(t’70)为1.00毫秒或更短,和其中通过将通过轻敲模式AFM观察到的所述调色剂的相位图像基于所述相位图像中的相位差的最大值和最小值之间的中间值进行二值化而获得的所述调色剂的二值化图像包括由具有大的相位差的部分构成的第一相位差图像和由具有小的相位差的部分构成的第二相位差图像,第一相位差图像分散在第二相位差图像中,并且第一相位差图像的分散直径为150nm或更小。专利技术的有益效果本专利技术可提供这样的调色剂:其能够解决上述常规问题,能够以高的水平实现低温定影性和耐热存储稳定性两者,防止由于在显影装置中出现调色剂粒子的凝集而引起的转印空白,并且具有优异的耐摩擦性。本文档来自技高网
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调色剂、显影剂、图像形成设备、和图像形成方法

【技术保护点】
调色剂,其包括:粘合树脂,其中所述粘合树脂包含包括由结晶性树脂得到的结构单元和由非结晶性树脂得到的结构单元的共聚物树脂,其中通过脉冲NMR测量的所述调色剂在50℃的自旋‑自旋弛豫时间(t50)为0.05毫秒或更短,当从50℃加热至130℃时所述调色剂在130℃的自旋‑自旋弛豫时间(t130)为15毫秒或更长,并且当从130℃冷却至70℃时所述调色剂在70℃的自旋‑自旋弛豫时间(t’70)为1.00毫秒或更短,和其中通过将通过轻敲模式AFM观察到的所述调色剂的相位图像基于所述相位图像中的相位差的最大值和最小值之间的中间值进行二值化而获得的所述调色剂的二值化图像包括由具有大的相位差的部分构成的第一相位差图像和由具有小的相位差的部分构成的第二相位差图像,第一相位差图像分散在第二相位差图像中,并且第一相位差图像的分散直径为150nm或更小。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.05.14 JP 2013-101950;2013.09.06 JP 2013-185201.调色剂,其包括:
粘合树脂,
其中所述粘合树脂包含包括由结晶性树脂得到的结构单元和由非结晶
性树脂得到的结构单元的共聚物树脂,
其中通过脉冲NMR测量的所述调色剂在50℃的自旋-自旋弛豫时间(t50)
为0.05毫秒或更短,当从50℃加热至130℃时所述调色剂在130℃的自旋-
自旋弛豫时间(t130)为15毫秒或更长,并且当从130℃冷却至70℃时所述调
色剂在70℃的自旋-自旋弛豫时间(t’70)为1.00毫秒或更短,和
其中通过将通过轻敲模式AFM观察到的所述调色剂的相位图像基于所
述相位图像中的相位差的最大值和最小值之间的中间值进行二值化而获得
的所述调色剂的二值化图像包括由具有大的相位差的部分构成的第一相位
差图像和由具有小的相位差的部分构成的第二相位差图像,第一相位差图像
分散在第二相位差图像中,并且第一相位差图像的分散直径为150nm或更
小。
2.根据权利要求1的调色剂,
其中所述共聚物树脂为含有由结晶性聚酯树脂得到的结构单元和由非
结晶性聚酯树脂得到的结构单元的共聚物树脂。
3.根据权利要求2的调色剂,
其中所述由结晶性聚酯树脂得到的结构单元中的结晶性聚酯树脂包括
二羟基脂族醇组分和二价脂族羧酸组分作为构成组分,和
其中所述由...

【专利技术属性】
技术研发人员:真壁启司杉本强齐藤彰法雨森凉香泽田豊志山下裕士中山慎也山本淳史朝比奈大辅关口圣之
申请(专利权)人:株式会社理光
类型:发明
国别省市:日本;JP

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