用于工业制造的构件的清洁设施制造技术

为了将用于工业制造的构件的清洁设施的基面尽可能小地保持而提出：清洁设施的工艺室(4、5、23)和机械手室(3)设置在基板(7)上，基板(7)的基面(8)比工艺室(4、5、23)和机械手室(3)的共同的基面(9)更大，并且在基板(7)中设有用于容纳工艺流体的至少两个在空间上分开的空腔(10、11、20)，所述空腔(10、11、20)分别至少部分地在所述工艺室(4、5、23)的下方并且至少部分地在所述工艺室(4、5、23)和所述机械手室(3)的共同的基面(9)之外延伸，并且在基板(7)上在至少一个空腔(10、11、20)上方设置有液压回路的至少一个液压部件。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于工业制造的构件的清洁设施
本专利技术涉及一种用于工业制造的构件的清洁设施，其具有至少两个在空间上彼此分开的工艺室和相邻的、在空间上与所述工艺室分开的机械手室，所述工艺室和机械手室设置在一个共同的基板上，其中，为每个工艺室设置有自有的液压回路，以将工艺流体输送到工艺室中。
技术介绍
在工业制造工艺中、尤其在切削工艺中，在制成的构件能够被进一步处理之前，必须清洁这些制成的构件。在此，为此所必需的清洁工艺在此是繁复的并且通常需要多个依次进行的清洁步骤，例如预洗、主洗、精洗和干燥，以便能够达到所期望的纯净度。为此附加地也可以使用不同的清洁介质。但是例如为构件去毛刺的工作步骤典型地也属于清洁工艺。为此从现有技术中已知执行这种工作步骤的多个自动的或半自动的清洁设施。DE102005003093A1例如示出一种具有多个并排设置的清洁室的清洁设施，其用于实施由不同的机械手操作的不同的清洁工艺。但是这种设置结构需要相对大的基面并且也需要相对复杂的布管，以便能够用需要的工艺流体供给所有清洁室。WO2010/062894A1示出一种具有一个机械手室和多个工艺室的清洁设施。在机械手室的底部中或者在多个工艺室的多个底部中设有用于容纳相应的工艺流体的空腔。在此，用于输送所述工艺流体所需要的液压部件必须要么设置在旁边、例如正如在此设置在机械手室的后方，但是这造成用于所需布管的高的耗费。要么所需要的部件直接安装在空腔中，但是由此这些空腔非常难以进入以进行维护。
技术实现思路
因此本专利技术的目的是，提出一种清洁设施，所述清洁设施能够实现为具有尽可能小的基面，并且因此尽可能紧凑地构成，并且在该清洁设施中能够将用于输送清洁设施的工艺流体所需要的液压回路的耗费尽可能小得保持。所述目的通过如下方式实现：工艺室和机械手室形成一个共同的基面，并且基板形成基面，其中，基板的基面比工艺室和机械手室的共同的基面更大，在基板中设有用于容纳工艺流体的至少两个在空间上分开的空腔，其中，空腔分别至少部分地在工艺室的下方并且至少部分地在工艺室和机械手室的共同的基面之外延伸，并且在基板上在至少一个空腔的上方设置有液压回路的至少一个液压部件。通过这种设置结构一方面实现的是：能够将必要的液压部件最接近于工艺室设置，并且特别是能够以短的管长设置。在此，这些部件为了维护目的也保持可自由接近。特别是尽管如此，也能够由此将清洁设施的基面尽可能小地保持。当工艺室并排地和相叠相邻地设置时，实现具有非常小的基面的特别紧凑的清洁设施。优选地，工艺室通过双层壁在空间上彼此分开地设置，由此实现相邻的工艺室的良好的热退耦。以这种方式能够减小从一个工艺室到其它工艺室的热输入，进而也减小能量损耗。当工艺室构造有倒圆的内棱边时，能够更简单地清洁这些工艺室，这是因为污物不能够堆积在难以接近的尖锐的角部中。清洁设施能够通过附加的清洁装置以简单的方式补充，如果所述附加的清洁装置设置在机械手室中，其中，附加的清洁装置优选与空腔连接，以便再次减少布管耗费。附图说明下面参考附图1至5来详细阐述本专利技术，所述附图示例性地、示意地并且不局限地示出本专利技术的有利的设计方案。附图中：图1示出根据本专利技术的清洁设施的基础轮廓；图2示出根据本专利技术的清洁设施的底视图；图3示出根据本专利技术的清洁设施的另一实施方式的基础轮廓；图4示出根据本专利技术的清洁设施的工艺室的细节视图；图5示出根据本专利技术的清洁设施的透视图。具体实施方式图1示出用于清洁工业制成的、尤其以切削的制造工艺制成的构件2例如发动机缸体、气缸盖、曲轴等的工业清洁设施1的设计方案。在该实施例中，清洁设施1包括机械手室3，在所述机械手室中设置有用于在清洁设施1中操纵构件2的工业机械手。直接在机械手室3旁边设置有两个工艺室4、5。机械手室3和工艺室4、5例如通过相应的隔墙在空间上彼此分开并且向外封闭。在机械手室3与工艺室4、5之间设置有可打开和可关闭的闸门27(图5)，以便使得构件2能在清洁设施1中运动。此外在工艺室4、5中或在机械手室3上设有至少一个可打开和可关闭的门26，以便能够将构件2移动到清洁设施1中并且从清洁设施1中移出。此外在清洁设施1中也设置有电开关柜16、优选具有带显示器和输入设备的控制台，以便能够操纵清洁设施1。开关柜16在此优选设置在清洁设施1的与机械手室3相对置的端部上。在工艺室4、5中设置有迄今已知的清洁装置，例如喷嘴、喷洒器、风扇等，以清洁构件2，对此在这里没有深入研究。工艺室4例如可以构成为预洗室，而工艺室5例如可以构成为精洗和干燥室。在工艺室4、5中的清洁分别以工艺流体实现，所述工艺流体借助于用于输送工艺流体的液压回路经由管道系统被输送给工艺室4、5或其中的清洁装置。工艺室4、5和机械手室3设置在一个共同的基板7上。在此，基板7的基面8(通过图1中的加粗的虚线表示)比工艺室4、5和机械手室3的共同的基面9(在图1中通过第二加粗的虚线表示)更大。因此基板7在俯视图中超出工艺室4、5和机械手室3。在基板7中至少为每个工艺室4、5各设有用于工艺流体的至少一个空腔10、11，如在图2的底视图中示出的那样，其中，空腔10、11例如通过基板7中的相应的隔墙在空间上彼此分开。空腔10、11在此分别至少部分地在工艺室4、5之下延伸并且分别至少部分地在工艺室4、5和机械手室3的共同的基面9之外延伸。由此在基板7上为每个空腔10、11提供一个区域，经由该区域人们直接地并且以最短路径获得到空腔10、11的通道。因此，在基板7的该自由区域中设置有液压部件，例如用于工艺流体的液压回路的泵12、13或过滤器14、15(图1)。同时，由此能够以最短路径将工艺流体从空腔10、11引导到设置于其上的附属的工艺室4、5中，或者从该工艺室中向回引导到附属的空腔10、11中。以这种方式实现所需布管的最小值，这直接体现在节省空间和成本方面。此外，所述液压部件为了维护目的而保持易于接近。图3示出具有三个工艺室4、5、23的清洁设施1。在基板7中设有三个空腔10、11、20，其中，每个空腔10、11、20又至少部分地在一个配属的工艺室4、5、23之下延伸，并且每个空腔10、11、23至少部分地在工艺室4、5、23和机械手室3的共同的基面9之外延伸。如果在两个工艺室中应用相同的工艺流体，那么在基板7中通过以下方式具有两个空腔就足够，即，两个工艺室由相同的空腔供给。在基板7的由此空出的区域上又设置有液压部件，例如用于工艺流体的液压回路的泵12、13、21或过滤器14、15、22。为此，在这里机械手室3的角部在其与工艺室4、5、23相对置的角部上回缩，以便在该区域中在基板7上提供用于液压部件泵12、13和过滤器14、15的空间，并且因此尽可能好地利用可用的空间，并且将清洁设施1所需的基面保持得尽可能小。图3也示例性地示出传送装置25，借助所述传送装置能够将构件2运输到清洁设施1并且从所述清洁设施运走。构件2在此能够要么从上部运输到工艺室4、5、23中要么从侧边经由辊道运输。图4示出沿着线A-A的图3的工艺室4、5、23的剖视图。工艺室4、5、23在此以最佳可能的空间利用方式紧凑地、并排和相叠地设置在壁状的工艺壳体17中。工艺壳体17在此直接邻接于机械手室3。用作为预洗室的工艺室4和用作为精洗室本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于工业制造的构件(2)的清洁设施，该清洁设施具有至少两个在空间上彼此分开的工艺室(4、5、23)和一个相邻的、在空间上与所述工艺室分开的机械手室(3)，所述工艺室和机械手室设置在共同的基板(7)上，其中，为每个工艺室(4、5、23)设有自有的液压回路，以将工艺流体输送到所述工艺室(4、5、23)中，其特征在于，所述工艺室(4、5、23)和所述机械手室(3)形成共同的基面(9)，并且所述基板(7)形成基面(8)，其中，所述基板(7)的基面(8)比所述工艺室(4、5、23)和所述机械手室(3)的共同的基面(9)更大，在所述基板(7)中设有用于容纳工艺流体的至少两个在空间上分开的空腔(10、11、20)，所述空腔(10、11、20)分别至少部分地在所述工艺室(4、5、23)的下方并且至少部分地在所述工艺室(4、5、23)和所述机械手室(3)的共同的基面(9)之外延伸，并且在基板(7)上在至少一个空腔(10、11、20)上方设置有液压回路的至少一个液压部件。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.03.06 DE 202013100959.81.用于工业制造的构件(2)的清洁设施，该清洁设施具有至少两个在空间上彼此分开的且用于清洁构件(2)的工艺室(4、5、23)和一个相邻的、在空间上与所述工艺室分开的机械手室(3)，该机械手室用于容纳用于在清洁设施中操纵构件(2)的机械手，所述工艺室和机械手室设置在共同的基板(7)上，其中，为每个工艺室(4、5、23)设有自有的液压回路，以将工艺流体输送到所述工艺室(4、5、23)中，其特征在于，所述工艺室(4、5、23)和所述机械手室(3)形成共同的基面(9)，并且所述基板(7)形成基面(8)，其中，所述基板(7)的基面(8)比所述工艺室(4、5、23)和所述机械手室(3)的共同的基面(9)更大，在所述基板(7)中设有用于容纳工艺流体的至少两个在空间上分开的空腔...

【专利技术属性】
技术研发人员：R·维腾多尔夫，M·安布鲁斯特，P·恩巴赫，
申请(专利权)人：特莫式启钥制造方案工程有限公司，
类型：发明
国别省市：奥地利;AT