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为了将用于工业制造的构件的清洁设施的基面尽可能小地保持而提出：清洁设施的工艺室(4、5、23)和机械手室(3)设置在基板(7)上，基板(7)的基面(8)比工艺室(4、5、23)和机械手室(3)的共同的基面(9)更大，并且在基板(7)中设有用...该专利属于特莫式启钥制造方案工程有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过特莫式启钥制造方案工程有限公司授权不得商用。
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