本实用新型专利技术提供一种光学检测设备，包含有一检测平台、一摄像单元、一平面光源、以及一取像指示器。该检测平台具有一供待测物放置的摆设平面。该摄像单元设置于该摆设平面的一侧。该摄像单元的拍摄方向与该待测物的表面之间的夹角为锐角，以对该待测物的表面取像。该平面光源设置于该摆设平面的相对于该摄像单元的另一侧。该取像指示器系包含有一启动该平面光源并藉由该摄像单元拍摄取得该待测物的第一瑕疵分布的第一取像状态，以及一关闭该平面光源并藉由该摄像单元拍摄取得该待测物的第二瑕疵分布的第二取像状态，藉以过滤出该待测物的瑕疵。
【技术实现步骤摘要】
本技术有关于一种光学检测设备，特别是指一种用以检测镜面瑕疵的光学检测设备。
技术介绍
镜面材质的产品在现代生活中随处可见，例如液晶电视、手机荧幕或是其他光学镜面等，应用范围相当广泛。在镜面材质的制程中，最关键的一环便是检测镜面的瑕疵，因为若未能及时将有瑕疵的镜面物件筛选出来而继续与其他零件进行组装作业，将导致大量的劣质品产生，不仅降低产线的良率，也会造成制造者巨大的财务损失及时间、人力的浪费。所谓的镜面瑕疵，例如灰尘、刮痕、水痕、残胶或亮点等，目前的自动化生产线都会配置瑕疵检测设备，以便减少或取代耗时又费力的人工检测，藉以提升产品的检测速度及制程良率。习知的检测设备，将一待测物放置于一检测台上，并对该待测物提供一上方及下方光源，用以对待测物进行补光，再经由设置于该待测物上方的一摄像机拍摄以取得一瑕疵影像，将该瑕疵影像经过处理分析后取得瑕疵的对应位置，藉以将待测物依据取得的瑕疵种类的不同分为良品、瑕疵品、NG品，对可修复的NG品进行补修作业，藉以提升产品的良率。然而，本技术创作人发现，习知的检测设备于高光环境下对待测物进行拍摄，可能因为不同瑕疵对于高光源的反应不同，导致无法取得所有的瑕疵点，进而出现误判情况而影响产线良率。
技术实现思路
基于本技术创作人发现上述习知技术中存在的问题，本技术的目的在于提供一种光学检测设备，以解决习知技术中于高光环境下对待测物进行拍摄而无法取得所有瑕疵点的问题。为了解决上述问题，本技术公开了一种光学检测设备，其特征在于包含有:—检测平台，具有一供待测物放置的摆设平面；—摄像单元，设置于该摆设平面的一侧，该摄像单元的拍摄方向与该待测物的表面之间的夹角为一锐角以对该待测物的表面取像；—平面光源，包含有至少一由多个发光元件排列而成的发光阵列，以及一设置于该发光阵列一侧使光源大面积均匀照射于该待测物上的导光板，该平面光源设置于该摆设平面的相对于该摄像单元的另一侧；以及—包含有一启动该平面光源并藉由该摄像单元拍摄取得该待测物的第一瑕疵分布的第一取像状态以及一关闭该平面光源并藉由该摄像单元拍摄取得该待测物的第二瑕疵分布的第二取像状态而过滤出该待测物瑕疵的取像指示器。其中，该平面光源不与该待测物重叠设置。其中，更进一步包含有一载置该摄像单元并依据该待测物的大小移动位置以对该待测物的取像的活动载台。其中，更进一步包含有一正向光源，该正向光源设置于该检测平台的上方或下方以照射放置于该检测平台上的该待测物。还公开了一种光学检测设备，其特征在于包含有:—第一检测站，包含有:一第一检测平台，具有一供待测物放置的摆设平面；—第一摄像单元，设置于该第一检测平台的摆设平面的一侧，该第一摄像单元的拍摄方向与该待测物的表面之间的夹角为一锐角以对该待测物的表面取像；—平面光源，包含有至少一由多个发光元件排列而成的发光阵列，以及一设置于该发光阵列一侧使光源大面积均匀照射于该待测物上的导光板，该平面光源设置于该摆设平面的相对于该摄像单元的另一侧；以及—包含有一启动该平面光源并藉由该第一摄像单元拍摄取得该待测物的第一瑕疵分布的第一取像状态而过滤出该待测物瑕疵的第一取像指示器；一第二检测站，包含有:一第二检测平台，具有一供该待测物放置的摆设平面；—第二摄像单元，设置于该第二检测平台的摆设平面的一侧，该第二摄像单元的拍摄方向与该待测物的表面之间的夹角为一锐角以对该待测物的表面取像；以及—藉由该第二摄像单元拍摄取得该待测物的第二瑕疵分布的第二取像状态而过滤出该待测物瑕疵的第二取像指示器。其中，该平面光源不与该待测物重叠设置。其中，更进一步包含有一载置该第一摄像单元并依据该待测物的大小移动位置以对该待测物的取像的第一活动载台。其中，更进一步包含有一载置该第二摄像单元并依据该待测物的大小移动位置以对该待测物的取像的第二活动载台。其中，更进一步包含有一正向光源，该正向光源系设置于该第二检测平台的上方或下方以照射放置于该第二检测平台上的该待测物。是以，本技术比习知技术具有以下的优势功效:1.本技术系藉由对于不同照度环境下的待测物进行取像，进而过滤出待测物所有瑕疵的位置。2.本技术以大面积的平面光源对待测物进行侧向补光，可克服检测过程中摄像单元因反射光线干扰及拍摄到多余影像而导致误判瑕疵的问题。【附图说明】图1，本技术的光学检测设备的第一实施例示意图。图2，本技术的光学检测设备的第一实施例的方块示意图。图3，本技术的光学检测设备的第二实施例示意图。图4，本技术的光学检测设备的第二实施例的方块示意图。【具体实施方式】有关本技术的详细说明及
技术实现思路
，现就配合图式说明如下。再者，本技术中的图式，为说明方便，其比例未必照实际比例绘制，该等图式及其比例并非用以限制本技术的范围，在此先行叙明。以下系针对本技术的技术举一较佳实施态样进行说明。请一并参阅「图1」及「图2」，本技术提供一种光学检测设备100，得以应用于各种生产面板、光学镜面等产线，以下系针对本技术所述的光学检测设备100进行详细的说明:所述的光学检测设备100，包含有一检测平台10、一摄像单元Cl、一平面光源20、以及一取像指示器P。该检测平台10具有一供待测物Tl放置的摆设平面11。该摄像单元Cl设置于该摆设平面11的一侧。该摄像单元Cl的拍摄方向与该待测物Tl的表面之间的夹角为一锐角α 1，以对该待测物Tl的表面取像。该平面光源20包含有至少一由多个发光元件21排列而成的发光阵列23，以及一设置于该发光阵列23 —侧使光源大面积均匀照射于该待测物Tl上的导光板22，该平面光源20设置于该摆设平面11的相对于该摄像单元Cl的另一侧。该取像指示器P包含有一启动该平面光源20并藉由该摄像单元Cl拍摄取得该待测物Tl的第一瑕疵分布的第一取像状态，以及一关闭该平面光源20并藉由该摄像单元Cl拍摄取得该待测物Tl的第二瑕疵分布的第二取像状态，藉以过滤出该待测物Tl的瑕疵。于本技术中「所述的平面光源20不与该待测物Tl重叠设置」，系指该平面光源20的设置不与该待测物Tl重叠且该平面光源20直接照射该待测物Tl的位置，以避免该待测物Tl的瑕疵受到该平面光源20照射产生阴影当前第1页1 2 3 本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种光学检测设备，其特征在于包含有：一检测平台，具有一供待测物放置的摆设平面；一摄像单元，设置于该摆设平面的一侧，该摄像单元的拍摄方向与该待测物的表面之间的夹角为一锐角以对该待测物的表面取像；一平面光源，包含有至少一由多个发光元件排列而成的发光阵列，以及一设置于该发光阵列一侧使光源大面积均匀照射于该待测物上的导光板，该平面光源设置于该摆设平面的相对于该摄像单元的另一侧；以及一包含有一启动该平面光源并藉由该摄像单元拍摄取得该待测物的第一瑕疵分布的第一取像状态以及一关闭该平面光源并藉由该摄像单元拍摄取得该待测物的第二瑕疵分布的第二取像状态而过滤出该待测物瑕疵的取像指示器。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：李建志，
申请(专利权)人：汉克科技有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾;71
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