【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及二维材料膜制备
,特别是一种。
技术介绍
二维材料可以算是不同与金属、半导体、绝缘体之外的崭新的一类材料,这种材料可以应用于:制造柔性透明电极,场效应管、高敏气体传感器、机电设备和平移马达等。石墨烯是单原子层厚的石墨晶体,属一种理想二维材料,石墨晶体就是由大量的石墨烯叠加一起的三维材料,石墨烯材料是单层或多层石墨烯的总称。由于石墨烯是零能隙半导体,不仅具有优异的力学性能、导电导热性能,而且表现出新颖的物理现象,如弹道传输特性、双极性效应以及室温量子霍尔效应等。在电子元件、气敏元件、透明导电电极、超级电容器以及高性能聚合物复合材料等领域中有十分广阔的应用前景。二维氮化硼晶体具有优秀的热力学稳定性,耐腐蚀性,优良的机械性能,二维氮化硼晶体成为制备耐高温,抗辐射,抗腐蚀材料和光电子器件等方面的优秀材料,在电子,机械,冶金,航空航天等高新科技领域具有巨大的应用前景。目前,使用化学气相法在催化生长基底上制备二维材料薄膜如石墨烯薄膜和氮化硼薄膜是一种极其重要的方法,可以大面积制备二维材料。但是由于二维材料与生长基底有较强的粘附力,在生长完成后,需 ...
【技术保护点】
一种二维材料膜的批量大面积制备方法,其特征是:具有如下步骤:a.首先在生长基底(1)表面生长出二维材料薄膜(2);b.然后将生长有二维材料薄膜(2)的生长基底(1)通过蒸汽进行插层处理;c.然后将聚合物涂覆在二维材料薄膜(2)上,形成聚合物基底(3);d.将二维材料薄膜(2)转移到聚合物基底(3)上;e.将转移至聚合物基底(3)的二维材料薄膜(2)与生长基底(1)分离。
【技术特征摘要】
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