本实用新型专利技术公开了一种真空炉；本实用新型专利技术的目的是提供一种生产效率高且热处理后散热快的真空炉；它包括机架、储物室、加热室、真空泵、控制柜；所述的储物室设置在机架的一端，该储物室为开口向外的腔体，在腔体的开口处设有密封门；所述的真空泵与储物室连接；所述的加热室通过横移组件设置在机架上，该加热室为开口向外的腔体，在腔体的内部设有加热装置，加热室的腔体与储物室的腔体的开口朝向相同，储物室可置于加热室的腔体内；所述的控制柜与加热室连接；它具有结构简单、设计合理和使用方便等特点。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及热处理领域，尤其是一种真空炉。
技术介绍
现有技术的一种真空炉，包括炉架，设置在炉架上的炉体，用于将所述的炉体抽真空的真空栗，所述的炉体上开设有通气孔，通常所述的炉体上滑动地设置有将所述的通气孔堵住的堵块，通过电磁阀的磁力推动所述的堵块堵住通气孔，该真空炉的炉体包括加热装置、加热腔，加热腔与加热装置为一体的，热处理后工件降温缓慢。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术的不足，提供一种生产效率高且热处理后散热快的真空炉。为了达到上述目的，本技术所设计的一种真空炉，它包括机架、储物室、加热室、真空栗、控制柜；所述的储物室设置在机架的一端，该储物室为开口向外的腔体，在腔体的开口处设有密封门；所述的真空栗与储物室连接；所述的加热室通过横移组件设置在机架上，该加热室为开口向外的腔体，在腔体的内部设有加热装置，加热室的腔体与储物室的腔体的开口朝向相同，储物室可置于加热室的腔体内；所述的控制柜与加热室连接。为了便于加热室与储物室的配合，所述的储物室与真空栗的连接口设置在储物室腔体的侧壁上，且距离腔体开口 10_20cm。为了便于加热室的移动，所述的横移组件包括导轨、导轮、电机，所述的导轨设置在机架上，导轮与导轨配合，导轮与加热室连接，电机设置在加热室上，且电机与导轮连接；所述的横移组件也可以包括滑轨、滑块、齿条、电机，所述的滑轨设置在机架上，滑块与滑轨配合，滑块与加热室连接，所述的齿条设置在机架上，所述的电机设置在加热室上，在电机的输出轴上设有齿轮，齿轮与齿条配合。为了便于加热室的加热，所述的加热室内部的加热装置为电阻丝。本技术的真空炉，采用加热室与储物室分离的方式，在将工件加入储物室时便可对加热室进行预热，同时，完成加热后，可将储物室移出加热室，提高降温效率。因此，它具有结构简单、设计合理和生产效率高等特点。【附图说明】图1为本技术的结构示意图。【具体实施方式】下面结合附图对本技术作进一步的描述。如图1所示，本实施例描述的一种真空炉，它包括机架1、储物室2、加热室3、真空栗4、控制柜5 ;所述的储物室2设置在机架I的一端，该储物室2为半开式腔体，在腔体的开口处设有密封门6 ;所述的真空栗4与储物室2连接；所述的加热室3通过横移组件设置在机架I上，该加热室3为开口向外的腔体，在腔体的内壁上设有电阻丝，加热室3的腔体与储物室2的腔体的开口朝向相同，储物室2可置于加热室3的腔体内；所述的横移组件包括导轨7、导轮8、电机，所述的导轨7设置在机架I上，导轮8与导轨7配合，导轮8设置在加热室3上，电机设置在加热室3上，且电机与导轮8连接；述的控制柜5与加热室3连接。【主权项】1.一种真空炉，其特征在于:它包括机架、储物室、加热室、真空栗、控制柜；所述的储物室设置在机架的一端，该储物室为开口向外的腔体，在腔体的开口处设有密封门；所述的真空栗与储物室连接；所述的加热室通过横移组件设置在机架上，该加热室为开口向外的腔体，在腔体的内部设有加热装置，加热室的腔体与储物室的腔体的开口朝向相同，储物室可置于加热室的腔体内；所述的控制柜与加热室连接。2.根据权利要求1所述的一种真空炉，其特征在于:所述的储物室与真空栗的连接口设置在储物室腔体的侧壁上，且距离腔体开口 10-20cm。3.根据权利要求1所述的一种真空炉，其特征在于:所述的横移组件包括导轨、导轮、电机，所述的导轨设置在机架上，导轮与导轨配合，导轮与加热室连接，电机设置在加热室上，且电机与导轮连接。4.根据权利要求1所述的一种真空炉，其特征在于:所述的横移组件包括滑轨、滑块、齿条、电机，所述的滑轨设置在机架上，滑块与滑轨配合，滑块与加热室连接，所述的齿条设置在机架上，所述的电机设置在加热室上，在电机的输出轴上设有齿轮，齿轮与齿条配合。5.根据权利要求1所述的一种真空炉，其特征在于:所述的加热室内壁上的加热装置为电阻丝。【专利摘要】本技术公开了一种真空炉；本技术的目的是提供一种生产效率高且热处理后散热快的真空炉；它包括机架、储物室、加热室、真空泵、控制柜；所述的储物室设置在机架的一端，该储物室为开口向外的腔体，在腔体的开口处设有密封门；所述的真空泵与储物室连接；所述的加热室通过横移组件设置在机架上，该加热室为开口向外的腔体，在腔体的内部设有加热装置，加热室的腔体与储物室的腔体的开口朝向相同，储物室可置于加热室的腔体内；所述的控制柜与加热室连接；它具有结构简单、设计合理和使用方便等特点。【IPC分类】F27B5/05【公开号】CN204757650【申请号】CN201520524853【专利技术人】张丽, 陈志元 【申请人】浙江恩鸿电子有限公司【公开日】2015年11月11日【申请日】2015年7月20日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种真空炉，其特征在于：它包括机架、储物室、加热室、真空泵、控制柜；所述的储物室设置在机架的一端，该储物室为开口向外的腔体，在腔体的开口处设有密封门；所述的真空泵与储物室连接；所述的加热室通过横移组件设置在机架上，该加热室为开口向外的腔体，在腔体的内部设有加热装置，加热室的腔体与储物室的腔体的开口朝向相同，储物室可置于加热室的腔体内；所述的控制柜与加热室连接。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张丽，陈志元，
申请(专利权)人：浙江恩鸿电子有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33
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