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文档序号:12325381
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本实用新型公开了一种真空炉;本实用新型的目的是提供一种生产效率高且热处理后散热快的真空炉;它包括机架、储物室、加热室、真空泵、控制柜;所述的储物室设置在机架的一端,该储物室为开口向外的腔体,在腔体的开口处设有密封门;所述的真空泵与储物室连接...
该专利属于浙江恩鸿电子有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过浙江恩鸿电子有限公司授权不得商用。
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