在193nm处具有超高透明度的烷烃的包装制造技术

公开了容纳液体烷烃的包装，其在约１９３ｎｍ波长处显示出高透明度和光化学稳定性。容纳液体烷烃的包装可在数月或更长时间段储存而不损失或基本上不损失透明度和稳定性。还公开了制备该包装的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及在193 nm波长具有超低光谱吸收的用于储存液体烷烃 的包装以及制造该包装的方法。该包装可在数月期间内维持所期望的烷 烃性质。
技术介绍
在同时待审的美国专利申请60/575982和60/614747中/^开了在193 nm波长具有0.01-1.0 cm"吸收的烷烃及其制备方法。这种低吸收烷烃非 常适用于在浸没式光刻技术的新领域中作为浸没液。其中公开的方法结 合了蒸馏、与各种吸附剂接触以及在氧气最小化的环境中进行处理，这 些需要实现其中所提供的烷烃的空前高水平的透明度。作为 一般性原则，电子芯片的制造商不希望形成原位化学纯化性 能。因此，如果使之有用的非常高透明度水平无法在运输和在接续的消 费者的制造设备的储存中维持，制备用于电子制造和其他关键用途的高 透明度烷烃是不够的。H. Hirata等，JP (Kokai) 56-74439公开了在所述燃料的储存容器中 使用与烃燃料——基本上包括烷烃——接触的吸附剂，吸附剂的目的是 维持所述燃料的纯度和燃烧值。吸附剂的目的是去除氧化产物。没有提 到环境。没有试图排除空气。Rohwer等，J. High Res. Chrom., 16, pp. 561 ff, (1993)公开了通过分 馏塔分馏制备的"超高纯度"己烷。在确定储存条件对维持己烷纯度的 影响的研究中，其得出结论"以惰性气体吹扫未明显改变储存期限，，， 且由于带来污染的可能性而令人沮丧。在Technical Bulletin AL-134 ， Aldrich Chemical Company讨论了使 用排除氧气的特殊密封瓶处理空气敏感性试剂硼烷配合物、有机硼 烷、氢硼化物、Grignard试剂和有机铝、锂以及锌。在填装前用氮气吹 洗。用于挥发性和反应性试剂(包括对空气敏感的那些)的容器在本领域 中是众所周知的。Aldrich Chemical Company的Technical Bulletin AL-136 描述了 "Sure/Pac(TM)"气缸系统，用来储存高反应性有机金属的黄铜 或不锈钢容器。Cottingham,美国专利4,362,250公开了用于储存反应性 或挥发性材料的容器，其具有双颈密封。还被公开的是普通商业用途中 的Aldrich Sure-seal(TM)玻璃瓶。
技术实现思路
本专利技术的一个方面是包装，其包括密封容器，所述容器具有内表 面，和与所述内表面接触的其中所含的液体烷烃。液体烷烃在193nm 具有小于1 cm"的光谱吸收，且氧气浓度低于约2 ppm。材料内表面选 自玻璃、金属和塑料及其组合；内表面基本上没有烷烃可溶的污染物。本专利技术的另一方面是用于包装烷烃的方法，该方法包括提供具有内 表面的可密封容器，向容器加入在193nm处具有小于1 cm"的光谱吸收 且氧气浓度低于约2 ppm的液体烷烃，使得液体烷烃接触容器的内表 面，然后密封容器。通过下面的说明和所附的权利要求，本专利技术的这些和其他方面对于 本领域技术人员来说将是显而易见的。具体实施方式本专利技术中，除非另行说明，术语"烷烃"应被理解成特别专门指基 本上由非环状或环状烷烃、支链的或非支链的、或其混合物组成的液 体。适用于实施本专利技术的环状烷烃可包含一种或多种带或不带支链的环 丁烷或更大的环，且可以任何方式相互连接，包括线性、稠合、二环、 多环和螺环排列。对于本专利技术来说，术语"基本上由......组成"应指不存在足够浓度以导致烷烃脱离本文定义的性质范围的物质。如本文下面所解释的，各 种不同水平的污染物在实施本专利技术中是可接受的，取决于它们特殊的化学身份。适用于实施本专利技术的液体基本上由非环状或环状烷烃、支链的或非 支链的、或其混合物组成。液体烷烃的特征在于在193nm波长处具 有小于1 cm"的吸收，优选0.01-1 cm",更优选0.01-0.5 cm",最优选 0.01-0.1 cm人4吏用Urbach方法，i口^^开于F. Urbach,尸/z;wca/ 92, 1324, (1953),以及M. E. Innocenzi, R. T. Swimm, M. Bass, R. H. French, A.B. Villaverde, M. R. Kokta， "Room Temperature Optical Absorption in Undoped國A1203", /owr""/ o/y^p/zedP/^wb, 67， 12, 7542-46 (1990),已 评估到一些烷烃在193 nm处的固有吸收约0.001 cm:虽然本专利技术的范 围并非意图限制于此，而是期望本文所教导的方法的应用，可在原理上 达到明显低于本文所述的优选范围且接近烷烃固有吸收的在193 nm处 的吸收。为了获取期望的高水平透明度，任何来源的光谱吸收杂质均被更大 程度地去除，相对于本领域迄今所尝试过的。然而，在193nm处无光 谱吸收的杂质能够以高达几十个百分比的浓度存在。优选地，任何所述 无吸收杂质的挥发性不高于主要烷烃组分以避免气泡产生，并且可完全 溶于烷烃组分中以防止光散射。无吸收杂质远高于几十个百分比的浓度 也会不期望地降低烷烃的折射率。本文描述的包装保持液体烷烃的高透 明度达几个月或更长的时间。一些有机杂质如芳香环、烯烃、取代环烷烃、支链烷烃、氧化产物 如过氧化物和酮等，甚至可存在于来自商业来源的所谓高纯烷烃中。有 些有机杂质的吸收比其他有机杂质高数个数量级，例如环丁烷。例如， 适用于实施本专利技术的烷烃可能被一或两个百分比的环丁烷污染，然而其 相当透明，具有高蒸气压和低折射率。另一方面，由于更高吸收的污染 物，如烯烃和羰基化合物，优选地，光语吸收污染物在烷烃中的总浓度 小于100 ppm(按重量计)。在一些特定严格的情况中，低达1 ppm的浓 度可能是有害的。根据本专利技术，容器内表面基本上没有烷烃可溶的污染物。如上所 述，可接受的污染程度取决于所讨论的特定污染物。从本专利技术的可操作 性的立足点来看，术语"基本上没有"应该理解成意指作为与容器内表面 接触的结果，液体烷烃的污染程度不应该超过在193nm处的吸收增加 大于0.1 cm"、优选大于0.01 cm"所要求的程度。优选的烷烃包括环戊烷、环己烷、环庚烷、环辛烷、十氬化萘、双 环己基、正戊烷、正己环、正庚烷、正辛烷、正壬烷、 正癸烷、正十二烷、正十四烷、正十六烷、2-曱基戊烷、3-甲基戊烷、 2,3-二甲基丁烷、2,2-二甲基丁烷、正辛基环己烷、2-乙基降莰烷(2國 ethylnorbomnane)、外型(exo)-四氬双环戊二烯及其混合物。环己烷、环 戊烷、环辛烷、十氢化萘、双环己基和外型-四氢双环戊二烯是最优选的。适用于实施本专利技术的许多烷烃可以不同的纯度商业化得到。特别是环己烷和环戊烷可以高纯度99.9%或更高纯度商业化获得。在本专利技术之 前，用于在193nm曝光波长的浸没式光刻技术的即4吏高纯商业级别的 这些材料的使用是未被预期的，因为以即使在可获得的高纯形式，吸收 也太高，如环己烷，其吸收为4.78cm人适用于实施本专利技术的烷烃，进一步的特征在于 溶于烷烃液相的氧气浓度低于2 ppm(百万分之)，优选低于0.1 ppm, 更4尤选4氐于0.01 ppm。在实施本专利技术中已发现，具本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种物品，其包括密封的容器，所述容器具有内表面，和其中所含的液体烷烃，其与所述内表面接触，所述液体烷烃的特征在于：在１９３ｎｍ处的光谱吸收小于１ｃｍ↑［－１］且氧气浓度低于约２ｐｐｍ，所述内表面选自玻璃、金属或塑料或其结合；所述内表面基本上没有可溶于烷烃的污染物。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：RC惠兰，CR芬切尔，RH弗伦奇，P圣，W邱，
申请(专利权)人：纳幕尔杜邦公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]