光学玻璃、热成型品及其制造方法、以及光学元件及其制造方法技术

本发明专利技术的一个方式涉及如下的光学玻璃，所述光学玻璃作为必要成分包含P2O5、B2O3及稀土类氧化物，在以氧化物为基准的玻璃组成中，P2O5含量在超过0质量％且不足0.79质量％的范围内，B2O3含量在20～40质量％的范围内，稀土类氧化物和选自由Ta2O5、WO3、TiO2、Nb2O5及Bi2O3构成的组的氧化物的合计含量在35～70质量％的范围内，折射率nd在1.72～1.83的范围内，阿贝数νd在45～55的范围内，且玻璃化转变温度Tg为640℃以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利说明】光学玻璃、热成型品及其制造方法、从及光学元件及其制造 方法 对应申请的相互参照 本申请要求2013年2月6日申请的日本特愿2013-021338号的优先权，在此特别 引用其全部记载作为公开。
本专利技术设及光学玻璃、热成型品及其制造方法、W及光学元件及其制造方法。
技术介绍
近年来，由于数码相机的出现，迅速推进了使用光学系统的设备的高集成化、高功 能化。在该样的情况下，对光学系统的高精度化、轻量化/小型化的要求越来越强烈。因此， 为了实现该要求，使用非球面透镜的光学设计正在成为主流。 作为构成光学系统的透镜的制造方法，已知有对玻璃材料进行冷加工或者对进行 再加热压制成型而得到的玻璃成型品进行冷加工的方法。另外，冷加工是指研磨、抛光等机 械加工。作为供冷加工使用的光学玻璃，在日本特开2007-269584号公报（在此特别引用 其全部记载作为公开）公开了棚酸盐类光学玻璃。 相对于上述的冷加工，将从流出的烙融玻璃分离适量的烙融玻璃而制成烙融玻璃 块、在该玻璃块冷却而固化之前进行成型而得到光学元件的预成型体（预制件）的方法称 为热成型法。此外，将不经过研磨、抛光等机械加工而通过对预制件进行压制成型来形成透 镜的光学功能面的方法称为精密压制成型法。该些热成型法和精密压制成型法主要用于W 低成本大量地稳定供给使用了高功能性玻璃的非球面透镜。作为适合于该些成型法的光学 玻璃，在日本特开2002-249337号公报（在此特别引用其全部记载作为公开）公开了示出 高折射率低色散特性的稀±棚酸盐类光学玻璃。
技术实现思路
可是，具有高折射率低色散特性的光学玻璃适合作为构成光学系统的透镜。为了 提高该些光学玻璃的品质，重要的是减少玻璃烙解时的挥发造成的条纹产生、减少光学特 性变动和抑制由来自烙解相蜗材料的污染造成的着色。现有技术在该方面还有改善的余 地。[000引因此，本专利技术的一个方式提供具有高折射率低色散特性的高品质的光学玻璃。 进而，本专利技术的一个方式提供由上述光学玻璃构成的热成型品及其制造方法、W 及光学元件及其制造方法。 即，本专利技术的一个方式设及一种光学玻璃（W下，记为"玻璃A")， 作为必要成分包含P2〇e、日2〇3及稀±类氧化物， 在W氧化物为基准的玻璃组成中，P2〇5含量在超过0质量％且不足0. 79质量％的范围内，Ba化含量在20~40质量％的范围内， 稀±类氧化物和选自由132〇5、胖〇3、1'1〇2、佩2〇5及^2〇3构成的组的氧化物的合计含 量在35~70质量％的范围内， 折射率nd在1. 72~1. 83的范围内， 阿贝数vd在45~55的范围内，且 [001引玻璃化转变温度Tg为640°CW下； 还设及一种光学玻璃（W下，记为"玻璃B")，包含： 超过0质量％且不足0. 79质量％的口2〇5， 20 ~40 质量％的82〇3， 35~60质量％的稀±类氧化物，[002引折射率nd在1.72~1.83的范围内， 阿贝数vd在45~55的范围内，且 玻璃化转变温度Tg为640°CW下。 本专利技术人为了得到上述的光学玻璃而反复进行了认真研究。其结果是新发现通过 在稀±棚酸盐类光学玻璃中导入极微量的P，从而能够使液相线温度大幅降低。液相线温度 低的光学玻璃能够防止玻璃烙解时的挥发、由进行烙解的相蜗材料造成的污染，因此能够 减少条纹产生，减少光学特性变动，抑制着色。 根据上述的一个方式，能够提供具有高折射率低色散特性的稀±棚酸盐类光学玻 璃。进而，根据一个方式，还可提供由上述的光学玻璃构成的热成型品和光学元件。【附图说明】[002引 图1是DSC图的一个例子。【具体实施方式】 本专利技术的一个方式的光学玻璃包括上述的玻璃A和玻璃B。W下，对其细节进行说 明。只要没有特别记载，下述记载适用于玻璃A和玻璃B该两种玻璃。 W下，对本专利技术的一个方式的光学玻璃的细节进行说明。巧摇紀成 如前所述，在本专利技术中W氧化物为基准表示光学玻璃的玻璃组成。在此，"W氧化 物为基准的玻璃组成"是指通过设玻璃原料在烙融时全部被分解而作为氧化物存在于光学 玻璃中来进行换算而得到玻璃组成。此外，只要没有特别记载，设玻璃组成W质量基准表 /J、- 〇本专利技术中的玻璃组成是通过ICP-AES(InductivelyCoupledPlasma-Atomic EmissionSpectrometry;电感禪合等离子体原子发射光谱法）求出的。此外，通过本分析 方法求出的分析值包含±5%左右的测定误差。 此外，在本说明书和本专利技术中，构成成分的含量为0%意味着实质上不包含该构成 成分，指的是该构成成分的含量为杂质水平程度W下。 上述的光学玻璃包含超过0%且不足0. 79%的P2〇g。通过包含超过0%的P2〇g，从 而能够使具有高折射率低色散特性的稀±棚酸盐类光学玻璃的液相线温度与不包含p的 情况相比大幅降低。另一方面，在P2O5#量为0.79%W上的情况下，可观察到在烙融、固化 后的玻璃析出晶体的现象。该可推定为是P和稀±类元素进行反应而生成的析出物。因 此，为了得到均质的光学玻璃，上述的光学玻璃的P2〇e含量设为不足0.79%。在此，包含超 过0%的P2〇5是指含有超过杂质水平程度的P2〇5。 上述的光学玻璃是稀±棚酸盐类光学玻璃，作为必要成分含有20~40 %的B203。 B2O3是玻璃的网络结构形成氧化物，具有提高包含稀±类氧化物的上述光学玻璃的稳定性 的作用。在其含量不足20 %的情况下玻璃的稳定性会降低，因此导入20 %W上，优选导入 22%W上，更优选导入24%W上。另一方面，当导入超过40%时，会示出折射率和化学耐久 性降低的倾向，因此B203设为40%W下，优选设为37%W下，更优选设为35%W下。[003引稀±类氧化物是具有在维持玻璃的失透稳定性的同时赋予高折射率低色散特性 的作用的成分。玻璃B是稀±棚酸盐类光学玻璃，包含一种W上的稀上类氧化物。在玻璃 B中，在稀±类氧化物的含量不足35%的情况下不能充分得到上述的效果，当超过60%时， 会示出失透稳定性降低的倾向。因此，在玻璃B中作为必要成分包含35~60%的稀±类氧 化物。从兼顾玻璃的失透稳定性和高折射率低色散特性的观点出发，玻璃B中的稀±类氧 化物的含量优选为38%W上，更优选为40%W上，优选为67%W下，更优选为65%W下。 另一方面，玻璃A也作为必要成分包含一种W上的稀上类氧化物。在玻璃A中，从 在维持玻璃的失透稳定性的同时得到高折射率低色散特性的观点出发，稀±类氧化物和作 为可选成分包含的选自由Ta2〇5、W〇3、Ti化、佩2〇5及Bi2〇3构成的组的氧化物的合计含量（稀 上类氧化物+Ta2〇5+W〇3+Ti〇2+Nb2〇5+Bi2〇3)为35%W上，优选为40%W上，更优选为45%W 上。此外，从维持玻璃的失透稳定性的观点出发，玻璃A中的稀±类氧化物和选自上述组的 氧化物的合计含量为70 %W下，优选为65 %W下，更优选为60 %W下。 此外，玻璃A中的稀±类氧化物的含量优选在35~60%的范围内。根据上述理 由，玻璃A中的稀±类氧化物的含量更优选为38%W上，进一步优选为40%W上，更优选为 67%W下，进一步优选为65%W下。 从良好地得到上述本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学玻璃，其中，作为必要成分包含P2O5、B2O3及稀土类氧化物，在以氧化物为基准的玻璃组成中，P2O5含量在超过0质量％且不足0.79质量％的范围内，B2O3含量在20～40质量％的范围内，稀土类氧化物和选自由Ta2O5、WO3、TiO2、Nb2O5及Bi2O3构成的组的氧化物的合计含量在35～70质量％的范围内，折射率nd在1.72～1.83的范围内，阿贝数νd在45～55的范围内，且玻璃化转变温度Tg为640℃以下。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：安仁屋政宪，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP