【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术公开了一种真空灭弧室底涂工装，包括底座，底座上转动设置有切换真空灭弧室操作工位的水平旋转的公转转盘，公转转盘上端设置有至少两个沿公转转盘周向均匀分布的定位机构单元，每个定位机构单元包括用于承托真空灭弧室并对其定位的自转转盘和用于对真空灭弧室进行限位的限位升降架，自转转盘包括转动设置在公转转盘上端的托盘、设置在托盘上的定位结构和驱动托盘自转的驱动机构，限位升降架固定设置在公转转盘上端，自转转盘和限位升降架共同作用使真空灭弧室的重心在自转转盘带动其自转时始终与其自转轴线重合。本技术的真空灭弧室底涂工装在保证了底涂涂覆均匀度的同时又能完成底涂和晾干的连续操作，省时省力，提高生产效率。【专利说明】一种真空灭弧室底涂工装
本技术涉及一种真空灭弧室底涂工装。
技术介绍
真空灭弧室包封前要先进行真空灭弧室磁壳的清洗，涂上硅烷偶联剂以利于真空灭弧室磁壳与硅橡胶的紧密结合。目前国内外关于真空灭弧室包封硅橡胶前处理的清洗、底涂涂覆一般采用手工操作，把真空灭弧室放置在桌面上，手动转动真空灭弧室进行酒精擦洗，擦洗之后放置不少于15分钟后，再进行底...
【技术保护点】
一种真空灭弧室底涂工装，其特征在于：包括底座，底座上转动设置有用于切换真空灭弧室操作工位的水平旋转的公转转盘，所述的公转转盘上端设置有至少两个沿公转转盘周向均匀分布的定位机构单元，每个定位机构单元包括用于承托真空灭弧室并对其定位的自转转盘和用于对真空灭弧室进行限位的限位升降架，所述的自转转盘包括转动设置在公转转盘上端的用于承托真空灭弧室的托盘、设置在托盘上用于对真空灭弧室定位的定位结构和驱动托盘自转的驱动机构，所述的限位升降架固定设置在公转转盘上端，所述的自转转盘和限位升降架共同作用使真空灭弧室的重心在自转转盘带动其自转时始终与其自转轴线重合。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：刘随军，王茂玉，张国跃，甘新华，郭国领，李競，
申请(专利权)人：天津平高智能电气有限公司，
类型：新型
国别省市：天津;12
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