滤光片的调整装置制造方法及图纸

一种滤光片的调整装置，该调整装置于基座内设有相邻的滑移空间、容置空间，且滑移空间表面设有透孔，而近容置空间的基座外侧壁面设有收纳空间，可于基座的容置空间组装驱动部的支架杆座，则支架杆座上组装的滑移座板延伸至滑移空间位置，且滑移座板上固设有滤光片，可供滑移座板于滑移空间横向位移以对位或离开透孔位置，另于支架杆座电性连设有定位于基座外侧收纳空间内的供电模块，即可于基座的滑移空间、容置空间上方罩覆盖体，供盖体的窗口孔对位于滑移空间的透孔上方，达到缩小基座体积、易于装设在电子产品内部的目的。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术提供了一种滤光片的调整装置，尤其指可缩小基座体积供滤光片快速移动的调整装置，是于基座内部设置相邻的滑移空间、容置空间，并分别组装驱动部的滑移座板及支架杆座、上方再罩覆盖体，而可有效减缩基座的宽度，达到利用较小体积基座方便组装在电子产品内部的目的。
技术介绍
随着电子科技的进步，而许多有关影像拍摄、录制等作业，可通过相机、摄录像机或手机等影像摄录机具进行，以摄取各种影像、景物或动态等的各种照片或影片，惟因摄录像像或照片等，受到时间、地点或天气等影响，对于光线的强弱会产生明显的变化，例如白天或在大量灯光照明的环境中，会有光线较强烈现象，但于夜晚或柔和灯光的环境中，则光线也不致过于强烈，所以在光线较强烈的环境、场所欲进行摄录像像或拍照时，在影像摄录机具的镜头处，即必须通过滤光片将肉眼无法看见的光线(如紫外线或红外线等)予以滤除，以避免因强烈光线造成摄录或拍照的影像发生曝光、过亮等情况，则可供影像摄录机具的镜头撷取适当亮度的影像及光线；且当处于夜晚或光线柔和本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种滤光片的调整装置，包括基座、驱动部及盖体，其特征是：该基座内部具有相邻呈高、低落差的滑移空间、容置空间，并于滑移空间表面设有贯穿的透孔；该驱动部组装于基座内部及一外侧，设有供定位于基座的容置空间内的支架杆座，且支架杆座包括杆体、组装于杆体二侧的线圈、活动穿设于杆体上的磁性体及设置磁性体的滑移座板，该杆体及二侧线圈供装设于基座的容置空间，而杆体上活动穿设磁性体的滑移座板则延伸至滑移空间处，则于滑移座板上设有于滑移空间横向往复位移对位或离开的透孔位置的滤光片；及该盖体罩覆于基座的滑移空间、容置空间上方，再于盖体表面设有对位于滑移空间的透孔上方的窗口孔。

【技术特征摘要】
1.一种滤光片的调整装置，包括基座、驱动部及盖体，其特征是：
该基座内部具有相邻呈高、低落差的滑移空间、容置空间，并于滑移空间
表面设有贯穿的透孔；
该驱动部组装于基座内部及一外侧，设有供定位于基座的容置空间内
的支架杆座，且支架杆座包括杆体、组装于杆体二侧的线圈、活动穿设于
杆体上的磁性体及设置磁性体的滑移座板，该杆体及二侧线圈供装设于基
座的容置空间，而杆体上活动穿设磁性体的滑移座板则延伸至滑移空间
处，则于滑移座板上设有于滑移空间横向往复位移对位或离开的透孔位置
的滤光片；及
该盖体罩覆于基座的滑移空间、容置空间上方，再于盖体表面设有对
位于滑移空间的透孔上方的窗口孔。
2.根据权利要求1所述滤光片的调整装置，其特征是：该基座内部
设有相邻的滑移空间、容置空间，并供滑移空间位于容置空间一侧上方，
再于近容置空间的基座外侧壁面设有向内凹陷的收纳空间，而驱动部的二
线圈分别电性连设有提供电源的供电模块，则供电模块固设于基座外侧的
收纳空间内。
3.根据权利要求2所述滤光片的调整装置，其特征是：该驱动部的
供电模块设有与杆体二侧线圈分别电性连接的传输线，并利用供电模块设
有电性连接...

【专利技术属性】
技术研发人员：锺金昌，
申请(专利权)人：追速科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾;71