当前位置: 首页 > 专利查询>DIC株式会社专利>正文

滤色器用颜料组合物和滤色器制造技术

技术编号:12031992 阅读:142 留言:0更新日期:2015-09-10 19:17
本发明专利技术的目的在于提供滤色器用途中的、微细且分散稳定性良好、并且能获得高光学浓度的滤色器用有机颜料组合物,以及含有该组合物的滤色器。发现通过将化学结构内具有苯并咪唑酮基和偶氮基的有机颜料以及具有邻苯二甲酰亚胺基的有机色素衍生物进行微细化处理,能够获得即使是微细的粒子分散稳定性也良好、遮光性特别显著地高的滤色器。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及滤色器用颜料组合物和使用该组合物的滤色器,其是用于形成彩色液 晶显示装置的滤色器的滤色器用颜料组合物和滤色器,通过与特定的有机色素衍生物共同 进行微细化处理,所述滤色器用颜料组合物兼顾微细化和分散稳定性,遮光性比以往更高。
技术介绍
在液晶显示装置领域,导入了将滤色器基板和TFT阵列基板一体化而成的阵列上 的滤色器(ColorFilterOnArray,COA)的液晶面板备受瞩目。若使用COA,贝丨」不需要在 使用上述两种基板时进行精密的位置对齐,同时,能够使滤色器的红、蓝、绿各像素微细化 至极限,因此,能够实现液晶面板的高精细化。 对于这样的C0A用的树脂黑矩阵而言,需要高的遮光性,因此要求厚膜化。可是, 随着树脂黑矩阵的膜厚的增大,曝光部分的相对于膜厚方向的交联密度之差增大,因此难 以实现高灵敏度化并获得形状良好的黑色图案。此外,作为高遮光化的方法,正在尝试大量 使用遮光材料,但是,当使用碳等导电性材料作为遮光材料时,存在黑矩阵的相对介电常数 变高、体积电阻降低、从而使显示装置的可靠性降低的问题。 为了消除这样的缺点,最近正在积极尝试使用黑色有机颜料组合物(有机黑矩 阵)作为遮光材料来代替炭黑,该黑色有机颜料组合物是使具有色彩的有机颜料以成为黑 色的方式进行混合而得到。 专利文献1中,虽然关于在某特定波长区域中规定了最高光透射率的树脂黑矩 阵,记载了通过含有某种特定有机颜料而形成的遮光性感光性树脂组合物,但与炭黑相比 遮光性不充分。专利文献2中,虽然记载了遮光幕形成用着色树脂组合物,该遮光幕形成用 着色树脂组合物含有由在可见光区域具有光透射性的有机颜料中的黄色颜料、蓝色颜料和 紫色颜料的组合或黄色颜料、红色颜料和蓝色颜料的组合构成的通过拟黑色化而成的混色 有机颜料,但光学浓度(0D)低,遮光性不充分。专利文献3中,提出了含有粒径为特定的比 表面积以下的蓝色、黄色、红色各有机颜料的黑矩阵用颜料组合物,但同样0D值低,无法获 得充分的遮光性。如此,虽然已提出若干通过颜料的混合而进行的专利技术,但仍存在无法获得 如下那样的滤色器的问题:该滤色器包含的滤色器黑矩阵为高绝缘性、低介电常数并且能 够满足高光学浓度。 现有技术文献 专利文献 专利文献1:日本特开2009-69822号公报 专利文献2:日本特开平9-302265号公报 专利文献3:日本特开2012-32697号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题 本专利技术所要解决的课题在于,提供一种微细且分散稳定性良好、并且可获得高光 学浓度的滤色器用有机颜料组合物,以及含有该组合物的滤色器。 用于解决课题的方法 本专利技术人鉴于上述实际情况进行了深入研宄,结果发现,通过将具有特定化学结 构的有机颜料和含有邻苯二甲酰亚胺基的有机色素衍生物进行微细化处理,能够获得即使 为微细的粒子分散稳定性也高、遮光性高的滤色器,从而完成了本专利技术。 本专利技术提供一种滤色器用有机颜料组合物,其特征在于,相对于含有下述通式(1) 和通式⑵的化学结构的有机颜料每100份,含有1~15份的含有邻苯二甲酰亚胺烷基的 有机色素衍生物,并且颜料的一次粒径为20nm~100nm。 (式中,R1~R3各自为氢原子、卤原子、碳原子数1~5的烷基、碳原子数1~5 的條基。) 此外,本专利技术提供一种滤色器用有机颜料组合物,其特征在于,上述有机颜料为选 自C.I.颜料橙36、60、62、64、72中的至少一个的橙色颜料。 此外,本专利技术提供一种滤色器用有机颜料组合物,其特征在于,上述有机色素衍生 物为选自邻苯二甲酰亚胺烷基化喹吖啶酮或邻苯二甲酰亚胺烷基化酞菁中的至少一个的 有机色素衍生物。 进一步,本专利技术提供一种滤色器,其特征在于,含有上面记载的滤色器用有机颜料 组合物。 专利技术的效果 包含本专利技术的滤色器用有机颜料组合物和一并使用的其他蓝色和红色等有机颜 料组分的黑矩阵实现了分散稳定性优异并且0D值高、遮光性优异的特别显著的技术效果。【具体实施方式】 以下,对本专利技术的详细情况进行说明。 关于本专利技术的滤色器用颜料组合物,通过对具有特定化学结构的有机颜料和特定 的有机色素衍生物进行溶剂盐磨(solventsaltmilling),能够形成微细的粒子,通过并 用蓝色、黄色、红色等有机颜料,从而构成黑色的滤色器用有机颜料组合物。含有所获得的 黑色的滤色器用有机颜料组合物的黑矩阵是分散稳定性优异并且0D值高、遮光性优异的 黑矩阵。 本专利技术的滤色器用有机颜料组合物中,有机颜料具有下述通式(1)和通式(2)的 化学结构。 (式中,R1~R3各自为氢原子、卤原子、碳原子数1~5的烷基、碳原子数1~5 的條基。) 作为具有上述化学结构的有机颜料,是具有包括苯并咪唑酮基和偶氮基的橙色系 色相的有机颜料,具体而言可以列举C.I.颜料橙36、60、62、64、72。此外,各有机颜料可以 单独使用,也可以混合使用,至少选自上述有机颜料中的一种。 本专利技术中使用的有机色素衍生物只要是具有邻苯二甲酰亚胺基的有机色素衍生 物就可以具有任何化学结构。具有邻苯二甲酰亚胺基的有机色素衍生物用于有机颜料的微 细化工序的情况很多,主要是使有机颜料变得微细的作用,这是公知的事实。本专利技术中使用 的主要有机颜料具有橙色的色相,因此优选同色系的有机色素衍生物,但可以使用色相不 同的有机色素衍生物。具体而言,有偶氮结构、苯并咪唑酮结构、喹吖啶酮结构、二酮吡咯并 吡咯结构、酞菁结构、二噁嗪紫结构等,其中优选的是邻苯二甲酰亚胺烷基化喹吖啶酮和邻 苯二甲酰亚胺烷基化酞菁。 关于有机色素衍生物,以每100份有机颜料为1~20份的范围含有该有机色素衍 生物。考虑到色相、生产率,进一步优选以1~15份的范围含有该有机色素衍生物。关于 添加有机色素的时机,可在本专利技术中实施的使有机颜料微细化的工序中添加,也可以在微 细化工序后、对有机颜料进行洗涤并精制后添加。不过,考虑到与具有邻苯二甲酰亚胺基的 有机色素衍生物有关的微细化和分散稳定性,优选在微细化工序中使之与有机颜料均匀混 合。在制造本专利技术的滤色器用有机颜料组合物时,也可以在有机色素衍生物以外添加各种 添加剂。具体而言,可以列举光或热固性树脂、表面活性剂、分散剂、松香等。 经微细化的有机颜料的一次粒径优选为20~150nm,为了赋予高的遮光性,进一 步优选为20~100nm。已经判明,若颜料的一次粒径超过150nm则分散稳定性变差,其结果 是容易发生光散射。 本专利技术中的有机颜料的一次粒径是指,使有机颜料组合物分散于环己酮等溶剂, 将该分散液涂布在胶体膜上,拍摄扫描型电子显微镜(TEM)的图像。测量所得拍摄图像的 1000个粒子尺寸,将其平均值作为有机颜料的一次粒径。 这样的比以往更微细的有机颜料大体分为通过干式粉碎、湿式粉碎那样的粉碎方 法进行微细化处理,优选如本专利技术中实施的那样的通过相对于有机颜料为高的无机盐倍率 进行长时间混炼而进行的溶剂盐磨。这是能够兼顾粒子的均匀性和直径微小化的有用的制 造方法。通过溶剂盐磨处理的磨碎混合物经洗涤、精制、干燥工序,成为本专利技术的有机颜料 组合物。 该溶剂盐磨的意思是,将有机颜料与水溶性无机盐和亲水性有机溶剂进行混炼。 具体而言,将有机颜料、水溶性无机盐、本文档来自技高网
...

【技术保护点】
一种滤色器用有机颜料组合物,其特征在于,相对于含有下述通式(1)和通式(2)的化学结构的有机颜料每100份,含有1~15份的含有邻苯二甲酰亚胺烷基的有机色素衍生物,并且颜料的一次粒径为20nm~100nm,式中,R1~R3各自为氢原子、卤原子、碳原子数1~5的烷基、碳原子数1~5的烯基,

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:浅见亮介清都育郎
申请(专利权)人:DIC株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1