【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】天线
本专利技术是有关具备不平衡供电件或共振用导体、接地用导体、辐射用导体的天线。
技术介绍
现有的天线,图15揭示的日本国特开2012-195713号公报的天线100中,其包含如同轴电缆的具有外侧导体及内侧导体的不平衡供电件、及平面形状成形H字形的板状无供电元件。如图15所示,天线100包含不平衡供电件111、共振用导体112、接地用导体113及供电元件114。共振用导体112由与供电部118平行且朝不平衡供电件111的轴方向前方延伸的第1及第2共振用导体120a、120b所构成。接地用导体113由电性连接不平衡供电件111的固定部125、及与无供电部119平行且由第1及第2共振用导体120a、120b朝轴方向后方延伸的第1及第2接地用导体126a、126b所构成。供电元件114具有规定面积且朝轴方向前方延伸,并电性连接构成供电部118的不平衡供电件111的中心导体115。该日本国特开2012-195713号公报揭示的天线100,其能够获得宽频带且高的增益,并能够自由的微调整使用频带的高低。具体而言,天线100中,使用频率约2.0GHz~约4.0GHz,且VSWR(电压驻波比)2以下。然而,该日本国特开2012-195713号公报揭示的天线100中,在一边维持其小型化一边维持宽频带的状态下,无法使低限截止频率降低为低的频带(例如,700MHz),且全频带中无法使VSWR形成2以下。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种在使用可能的频率频带(相对频带)内的全部的频带中,能够传送或接收电波,且能够使用于宽频带(wideband)的天线。本专利技术的另一目的是 ...
【技术保护点】
一种天线,其特征是:介电体基板,该介电体基板具有规定的介电率,且具有借助使宽度尺寸分成两部分的中心轴线所区划的第1及第2领域;不平衡供电件,该不平衡供电件位于该中心轴线上,且具有朝轴方向延伸的规定长度的无供电部,及由该无供电部朝轴方向前方延伸的供电部;共振用导体,该共振用导体成形为具有规定面积的板状,且固定在该介电体基板的一侧的面;接地用导体,该接地用导体一体的连接在该共振用导体;及辐射用导体,该辐射用导体成形为具有规定面积的板状,且固定在该介电体基板的一侧的面,以电性连接该供电部;该共振用导体具有连接区域、第1共振区域及第2共振区域,该连接区域电性连接该不平衡供电件,该第1共振区域连接该连接区域且位于该介电体基板的第1领域,而由该不平衡供电件朝宽度方向外侧隔离规定尺寸且朝轴方向延伸,该第2共振区域连接该连接区域且位于该介电体基板的第2领域,而由该不平衡供电件朝宽度方向外侧隔离规定尺寸且朝轴方向延伸;该接地用导体具有第1接地区域及第2接地区域,该第1接地区域位于该介电体基板的第1领域,由该不平衡供电件朝宽度方向外侧隔离规定尺寸,且由该第1共振区域朝轴方向后方延伸,该第2接地区域位于该介 ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.01.24 JP 2013-011365;2014.01.22 JP 2014-009281.一种天线,其特征在于,包括:介电体基板,该介电体基板具有规定的介电率,且具有借助使宽度尺寸分成两部分的中心轴线所区划的第1及第2领域;不平衡供电件,该不平衡供电件位于该中心轴线上,且具有朝轴方向延伸的规定长度的无供电部,及由该无供电部朝轴方向前方延伸的供电部;共振用导体,该共振用导体成形为具有规定面积的板状,且固定在该介电体基板的一侧的面;接地用导体,该接地用导体一体的连接在该共振用导体;及辐射用导体,该辐射用导体成形为具有规定面积的板状,且固定在该介电体基板的一侧的面,以电性连接该供电部;其中,该共振用导体具有连接区域、第1共振区域及第2共振区域,该连接区域电性连接该不平衡供电件,该第1共振区域连接该连接区域且位于该介电体基板的第1领域,而由该不平衡供电件朝宽度方向外侧隔离规定尺寸且朝轴方向延伸,该第2共振区域连接该连接区域且位于该介电体基板的第2领域,而由该不平衡供电件朝宽度方向外侧隔离规定尺寸且朝轴方向延伸;该接地用导体具有第1接地区域及第2接地区域,该第1接地区域位于该介电体基板的第1领域,由该不平衡供电件朝宽度方向外侧隔离规定尺寸,且由该第1共振区域朝轴方向后方延伸,该第2接地区域位于该介电体基板的第2领域,由该不平衡供电件朝宽度方向外侧隔离规定尺寸,且由该第2共振区域朝轴方向后方延伸;该辐射用导体具有呈朝轴方向的长方形的第1辐射区域及第2辐射区域,该第1辐射区域位于该第1及第2共振区域之间,由该共振用导体的连接区域朝轴方向前方延伸,且后端部连接在该供电部,该第2辐射区域由该第1辐射区域的前端部朝轴方向前方延伸,且宽度尺寸比该第1辐射区域的宽度尺寸大;在面对该第1共振区域的前端部的该第2辐射区域的第1后端部,随着由该中心轴线朝向宽度方向外侧,形成朝轴方向前方阶段性凹陷的数个辐射阶梯状部分,在面对该第2共振区域的前端部的该第2辐射区域的第2后端部,随着由该中心轴线朝向宽度方向外侧,形成朝轴方向前方阶段性凹陷的数个辐射阶梯状部分。2.如权利要求1所述的天线,其特征是:形成在该第2辐射区域的第1后端部的辐射阶梯状部分,及形成在该第2辐射区域的第2后端部的辐射阶梯状部分,其具有第1辐射阶梯状部分、第2辐射阶梯状部分及第3辐射阶梯状部分;该第1辐射阶梯状部分位于该中心轴线旁边,且由该第1及第2后端部朝轴方向前方凹陷;该第2辐射阶梯状部分位于该第1辐射阶梯状部分的宽度方向外侧,且由该第1辐射阶梯状部分朝轴方向前方凹陷;该第3辐射阶梯状部分位于该第2辐射阶梯状部分的宽度方向外侧,且由该中心轴线逐渐隔离的形成倾斜。3.如权利要求1或2所述的天线,其特征是:在该第1共振区域的前端部,随着由该中心轴线朝向宽度方向外侧,形成朝轴方向后方阶段性凹陷的数个共振阶梯状部分;在该第2共振区域的前端部,随着由该中心轴线朝向宽度方向外侧,形成朝轴方向后方阶段性凹陷的数个共振阶梯状部分。4.如权利要求3所述的天线,其特征是:形成在该第1共振区域的前端部的共振阶梯状部分,及形成在该第2共振区域的前端部的共振阶梯状部分,其具有第1共振阶梯状部分、第2共振阶梯状部分及第3共振阶梯状部分;该第1共振阶梯状部分位于该中心轴线旁边,且由该些共振区域的前端部朝轴方向后方凹陷;该第2共振阶梯状部分位于...
【专利技术属性】
技术研发人员:久保崇将,石田武志,宇野亨,山崎太郎,森下久,作间正雄,野岛昭彦,庆野浩规,弓场庆吾,
申请(专利权)人:株式会社诺伊兹研究所,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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