本实用新型专利技术提供一种腐蚀箔清洗节水装置，其包括：多个并排设置的清洗槽、以及与每个清洗槽相配合的导辊组件；所述相邻的上、下游清洗槽之间通过管道相连通，所述管道一端的端口与所述下游清洗槽底的开口相连通，所述管道的另一端的端口靠近所述上游清洗槽的槽口设置，所述管道中水流的流向与所述腐蚀箔的运行方向相反；任一所述导辊组件包括上导辊、以及下导辊，所述上导辊相对设置，所述下导辊位于所述相对设置的上导辊的下方，并靠近所在清洗槽的槽底设置。本实用新型专利技术的腐蚀箔清洗节水装置解决了生产过程中大量使用去离子水的弊病，还使腐蚀箔的清洗效率得到很大的提高，同时大大减少了废水的排放量。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种节水装置，尤其涉及一种腐蚀箔清洗节水装置。
技术介绍
在铝电解电容器电极的生产过程中，电子铝箔经腐蚀后要经过多个去离子水的清洗，以达到清洗掉腐蚀箔表面氯离子和其它杂质的目的。由于清洗槽比较多，传统的做法是在每个清洗槽上加一根去离子水喷淋管，用喷淋状的去离子水来清洗经腐蚀处理的箔带。如此，使得去离子水的使用量非常大，每个清洗槽的去离子水得不到及时的更换。例如，每个清洗槽为0.3立方米，则一条腐蚀生产线至少有7个清洗槽以上，如果每个清洗槽要求20分钟自然更换一次去离子水，那么一条腐蚀生产线每小时需要6.3吨去离子水。如果企业有40条上述生产线，那么每小时则需要250吨去离子水。由此可见，去离子水的用量和由此引起的废水排放量非常大，由从而增加了生产成本。因此，为解决上述问题，有必要提出进一步的解决方案。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种腐蚀箔清洗节水装置，以克服现有技术中存在的不足。为实现上述目的，本技术提供一种腐蚀箔清洗节水装置，其包括:多个并排设置的清洗槽、以及与每个清洗槽相配合的导辊组件；所述相邻的上、下游清洗槽之间通过管道相连通，所述管道一端的端口与所述下游清洗槽底的开口相连通，所述管道的另一端的端口靠近所述上游清洗槽的槽口设置，所述管道中水流的流向与所述腐蚀箔的运行方向相反；任一所述导辊组件包括上导辊、以及下导辊，所述上导辊相对设置，所述下导辊位于所述相对设置的上导辊的下方，并靠近所在清洗槽的槽底设置。作为本技术的腐蚀箔清洗节水装置的改进，所述相邻的上、下游清洗槽之间的管道具有进水口和出水口，所述出水口靠近相应清洗槽的槽口设置，所述进水口与相应清洗槽的槽底的开口向连通。作为本技术的腐蚀箔清洗节水装置的改进，所述进水口靠近所在清洗槽的上游侧，所述出水口靠近所述清洗槽的下游侧。作为本技术的腐蚀箔清洗节水装置的改进，任一所述清洗槽中的管道的进水口和出水口位于相应下导辊的两侧。作为本技术的腐蚀箔清洗节水装置的改进，所述腐蚀箔清洗节水装置还包括水泵。与现有技术相比，本技术的有益效果是:本技术的腐蚀箔清洗节水装置解决了生产过程中大量使用去离子水的弊病，还使腐蚀箔的清洗效率得到很大的提高，同时大大减少了废水的排放量。【附图说明】图1为本技术的腐蚀箔清洗节水装置的一【具体实施方式】的平面示意图，其中，腐蚀箔上方的箭头代表腐蚀箔的运行方向，管道中的箭头代表管道中去离子水的流动方向。【具体实施方式】现在结合附图对本技术作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本技术的基本结构，因此其仅显示与本技术有关的构成。如图1所示的变更以及修改。本项技术的技术性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。如图1所示，图1为本技术的腐蚀箔清洗节水装置的一【具体实施方式】的平面示意图。本技术的腐蚀箔清洗节水装置100包括:多个并排设置的清洗槽10、以及与每个清洗槽相配合的导辊组件20。且所述管道30中水流的流向与所述腐蚀箔200的运行方向相反。如此设置的原因在于，由于清洗要求是收箔前的腐蚀箔表面清洁度已经达到工艺设计要求，所以去离子水是从最后一个清洗槽加入，并依次流经各个清洗槽。其中，所述相邻的上、下游清洗槽之间通过管道30相连通，从而去离子水可在多个并排设置的清洗槽10之间流动，并对清洗槽内的腐蚀箔进行清洗。上述所称上、下游是按照腐蚀箔的运行方向为参照的。具体地，以任一段管道30为例，该段管道30 —端的端口与相应下游清洗槽底的开口相连通，所述管道30的另一端的端口靠近相应上游清洗槽的槽口设置。本实施例中，所述相邻的上、下游清洗槽之间的管道30具有进水口 31和出水口 32，所述出水口 32靠近相应清洗槽的槽口设置，所述进水口 31与相应清洗槽的槽底的开口向连通。从而，去离子水从下游清洗槽的底部流至上游清洗槽的槽口位置，并从上游清洗槽的槽底流出，进入与其相邻的上游清洗槽。优选地，所述进水口 31靠近所在清洗槽的上游侧，所述出水口 32靠近所述清洗槽的下游侧。任一所述导辊组件20包括上导辊21、以及下导辊22，所述上导辊相对设置，所述下导辊22位于所述相对设置的上导辊21的下方，并靠近所在清洗槽10的槽底设置。从而，腐蚀箔在上导辊21和下导辊22的导引下进入到清洗槽中，从管道30出水口 32流出的去离子对腐蚀箔进行清洗。优选地，任一所述清洗槽中的管道30的进水口 31和出水口 32位于相应下导辊22的两侧，以便于对腐蚀箔进行清洗。此外，本技术的腐蚀箔清洗节水装置100还包括水泵，该水泵为管道30中的去离子水提供流动的动力。综上所示，本技术的腐蚀箔清洗节水装置解决了生产过程中大量使用去离子水的弊病，还使腐蚀箔的清洗效率得到很大的提高，同时大大减少了废水的排放量。对于本领域技术人员而言，显然本技术不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本技术的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本技术。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本技术的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本技术内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。【主权项】1.一种腐蚀箔清洗节水装置，其特征在于，所述腐蚀箔清洗节水装置包括:多个并排设置的清洗槽、以及与每个清洗槽相配合的导辊组件； 所述相邻的上、下游清洗槽之间通过管道相连通，所述管道一端的端口与所述下游清洗槽底的开口相连通，所述管道的另一端的端口靠近所述上游清洗槽的槽口设置，所述管道中水流的流向与所述腐蚀箔的运行方向相反； 任一所述导辊组件包括上导辊、以及下导辊，所述上导辊相对设置，所述下导辊位于所述相对设置的上导辊的下方，并靠近所在清洗槽的槽底设置。2.根据权利要求1所述的腐蚀箔清洗节水装置，其特征在于，所述相邻的上、下游清洗槽之间的管道具有进水口和出水口，所述出水口靠近相应清洗槽的槽口设置，所述进水口与相应清洗槽的槽底的开口向连通。3.根据权利要求2所述的腐蚀箔清洗节水装置，其特征在于，所述进水口靠近所在清洗槽的上游侧，所述出水口靠近所述清洗槽的下游侧。4.根据权利要求2所述的腐蚀箔清洗节水装置，其特征在于，任一所述清洗槽中的管道的进水口和出水口位于相应下导辊的两侧。5.根据权利要求1所述的腐蚀箔清洗节水装置，其特征在于，所述腐蚀箔清洗节水装置还包括水泵。【专利摘要】本技术提供一种腐蚀箔清洗节水装置，其包括：多个并排设置的清洗槽、以及与每个清洗槽相配合的导辊组件；所述相邻的上、下游清洗槽之间通过管道相连通，所述管道一端的端口与所述下游清洗槽底的开口相连通，所述管道的另一端的端口靠近所述上游清洗槽的槽口设置，所述管道中水流的流向与所述腐蚀箔的运行方向相反本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种腐蚀箔清洗节水装置，其特征在于，所述腐蚀箔清洗节水装置包括：多个并排设置的清洗槽、以及与每个清洗槽相配合的导辊组件；所述相邻的上、下游清洗槽之间通过管道相连通，所述管道一端的端口与所述下游清洗槽底的开口相连通，所述管道的另一端的端口靠近所述上游清洗槽的槽口设置，所述管道中水流的流向与所述腐蚀箔的运行方向相反；任一所述导辊组件包括上导辊、以及下导辊，所述上导辊相对设置，所述下导辊位于所述相对设置的上导辊的下方，并靠近所在清洗槽的槽底设置。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：徐建华，
申请(专利权)人：吴江飞乐天和电子材料有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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