本发明专利技术实施例提供的一种摩擦取向装置，涉及显示技术领域，可及时消除摩擦取向装置在对待取向基板进行摩擦取向时表面绒毛上积累的静电荷，有效防止基板上发生ESD现象，提高基板摩擦取向后的产品良率。该摩擦取向装置包括：用于承载待取向基板的载台；位于所述载台上方的摩擦辊；所述摩擦辊包括：辊轴、贴附在所述辊轴上的摩擦布；所述辊轴可沿自身轴线方向转动，所述摩擦布表面有用于摩擦待取向基板的摩擦绒毛；所述摩擦取向装置还包括：静电消除单元；其中，所述静电消除单元与所述摩擦布表面的至少部分区域的摩擦绒毛相接触。用于摩擦取向装置的制备。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种摩擦取向装置。
技术介绍
LCD(Liquid Crystal Display，液晶显示装置)是通过电场来控制液晶分子取向，使不同像素单元内的透射率发生变化来实现显示的，因此，需要通过摩擦(Rubbing)工艺对设置在阵列基板和彩膜基板表面的有机(通常为聚酰亚胺，polyimide，简称PI)膜材进行摩擦取向，从而在有机膜材表面形成具有预倾角排列的沟槽，以使得液晶分子能够顺着特定的沟槽方向整齐排列，从而形成液晶取向膜。其中，进行摩擦工艺的装置(即摩擦取向装置)的主要组件为由辊轴以及套设在棍轴表面的摩擦布(Rubbing Cloth)构成的摩擦棍(Rubbing Roller);摩擦布采用尼龙、纤维以及棉等材料构成，其表面有绒毛。当辊轴进行转动时，摩擦布表面的绒毛能够在有机膜材表面形成上述的具有预倾角排列的沟槽。然而，在进行上述摩擦工艺前，由于IXD中的阵列基板经过了生产、测试、以及运送等诸多工艺环节，因此难免会在基板上积累一定的静电荷。这样一来，在进行摩擦工艺时，静电荷极易积累到摩擦布表面的绒毛上，并随着绒毛在基板表面上进行的不断转动而产生静电放电(Electrical Static Discharge，简称ESD)现象，击穿阵列基板中的微细元件的中间绝缘层，从而造成阵列基板通电时出现短路(Short)、断路(Open)现象，降低了IXD产品的良率。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种摩擦取向装置，在对基板进行摩擦取向的同时，可及时消除摩擦取向装置在对待取向基板进行摩擦取向时表面绒毛上积累的静电荷，有效防止基板上发生ESD现象，提尚了基板的广品良率。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案:本专利技术实施例提供了一种摩擦取向装置，所述摩擦取向装置包括:用于承载待取向基板的载台；位于所述载台上方的摩擦辊；所述摩擦辊包括:辊轴、贴附在所述辊轴上的摩擦布；所述辊轴可沿自身轴线方向转动，所述摩擦布表面设置有用于摩擦待取向基板的摩擦绒毛；所述摩擦取向装置还包括:静电消除单元；其中，所述静电消除单元与所述摩擦布表面的至少部分区域的摩擦绒毛相接触。一种可选的方式，所述静电消除单元包括:导体件、与所述导体件相连的接地连接线；其中，所述导体件与所述摩擦布表面的至少部分区域的摩擦绒毛相接触；所述接地连接线用于释放与所述导体件相接触的所述摩擦绒毛上积累的静电荷。另一种可选的方式，所述静电消除单元包括:导体件；其中，所述导体件与所述摩擦布表面的至少部分区域的摩擦绒毛相接触，且所述导体件带有与所述摩擦绒毛上积累的静电荷等量的相反电荷。在上述基础上优选的，所述导体件包括:金属辊；其中，所述金属辊可沿自身轴线方向转动，且所述金属辊的轴线方向平行于所述辊轴的轴线方向。进一步优选的，所述摩擦辊的辊轴转速数值为第一数值；所述金属辊的转速数值为第二数值，且所述第二数值与所述第一数值的差值为所述第一数值的O?10%。进一步优选的，所述金属辊位于所述摩擦辊的正上方。进一步优选的，所述金属辊的轴向长度大于或等于所述摩擦布沿所述辊轴的轴向方向的长度。进一步优选的，所述金属辊的截面直径小于或等于所述辊轴的截面直径。基于此，通过本专利技术实施例提供的上述摩擦取向装置，在辊轴转动过程中，静电消除单元可与套设在辊轴外的摩擦布表面的至少部分区域的摩擦绒毛相接触，因此可以将摩擦绒毛上积累的待取向基板中的静电荷消除，具体可通过接地或电荷中和的方式消除静电荷，有效防止基板上发生ESD现象，从而提尚了基板的广品良率。【附图说明】为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的一种摩擦取向装置的剖面结构示意图一；图2a为本专利技术实施例提供的一种摩擦取向装置的剖面结构示意图二 ；图2b为本专利技术实施例提供的一种摩擦取向装置的剖面结构示意图三；图3为本专利技术实施例提供的一种摩擦取向装置的立体结构示意图。附图标记:01-摩擦取向装置；10_载台；11_传输滚轮；20_摩擦辊；21_辊轴；22_摩擦布；221-摩擦绒毛；30_静电消除单元；31_导体件；310_金属辊；32_接地连接线；40_支撑架；02-待取向基板。【具体实施方式】下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。需要指出的是，除非另有定义，本专利技术实施例中所使用的所有术语(包括技术和科学术语)具有与本专利技术所属领域的普通技术人员共同理解的相同含义。还应当理解，诸如在通常字典里定义的那些术语应当被解释为具有与它们在相关技术的上下文中的含义相一致的含义，而不应用理想化或极度形式化的意义来解释，除非这里明确地这样定义。并且，本专利技术专利申请说明书以及权利要求书中所使用的术语“上”、“下”以及“两侦广等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。本专利技术实施例提供了一种摩擦取向装置01，如图1所示，该摩擦取向装置01包括:用于承载待取向基板02的载台10 ;位于载台10上方的摩擦辊20 ;该摩擦辊20具体包括:辊轴21、贴附在辊轴21上的摩擦布22 ;辊轴21可沿自身轴线方向转动，摩擦布22表面有用于摩擦待取向基板02的摩擦绒毛221 ;该摩擦取向装置01还包括:静电消除单元30 ;其中，静电消除单元30与摩擦布22表面的至少部分区域的摩擦绒毛221相接触。需要说明的是，第一、在摩擦辊20的辊轴21转动过程中，静电消除单元30可与其保持相对静止，即，静电消除单元30采用与辊轴21同方向、且同转速的方式进行转动；或者，上述二者也可以保持有相对转动，即，在棍轴21转动时静电消除单元30静止不动，或者静电消除单元30与辊轴21采用反方向的转动方式；本专利技术对此不作限定，只要使得在上述辊轴21转动的同时，保持静电消除单元30与摩擦布22表面的至少部分区域的摩擦绒毛221相接触即可。第二、图1中仅以静电消除单元30的数量为一个，且设置在摩擦辊20的上方为例进行描述，本专利技术对此不作限定，可根据摩擦辊20的长度、轴径等参数灵活设置静电消除单元30的数量，例如其数量可以为多个，并分布在摩擦辊20自身轴线方向的两侧(相对于待取向基板02偏向上方和/或偏向下方均可)。基于此，通过本专利技术实施例提供的上述摩擦取向装置01，在辊轴21转动过程中，静电消除单元30可与套设在辊轴21外的摩擦布22表面的至少部分区域的摩擦绒毛221相接触，因此可以将摩擦绒毛221上积累的待取向基板02中的静电荷转移并消除，有效防止基板上发生ESD现象，从而提尚了基板的广品良率。进一步的，本专利技术实施例提供的上述摩擦取向装置01中的静电消除本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种摩擦取向装置，所述摩擦取向装置包括：用于承载待取向基板的载台；位于所述载台上方的摩擦辊；所述摩擦辊包括：辊轴、贴附在所述辊轴上的摩擦布；所述辊轴可沿自身轴线方向转动，所述摩擦布表面设置有用于摩擦待取向基板的摩擦绒毛；其特征在于，所述摩擦取向装置还包括：静电消除单元；其中，所述静电消除单元与所述摩擦布表面的至少部分区域的摩擦绒毛相接触。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：孙超超，刘华锋，赵生伟，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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