能检测邻面去釉的无托槽矫治器临床模板制造技术

能检测邻面去釉的无托槽矫治器临床模板，包括模板本体，模板本体的牙列与患者牙列一致；其特征在于：模板本体上设有去釉检测插片和去釉说明信息，去釉说明信息设置于矫治器对应的待去釉牙位上；去釉检测插片的位置与厚度与去釉说明信息一一对应。本实用新型专利技术的优点在于：1、去釉信息说明直接标在待去釉的牙位上，避免了临床医生再根据文字说明去寻找需要做邻面去釉的牙位，阅读更加直观，与患者口内的对应关系一致；2、出现去釉位置或去釉量等错误，矫治器模板就无法戴入患者口内，避免了去釉出差的可能，保证了医疗方案的正确实施。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种无拖槽矫治器。
技术介绍
牙齿正畸能够矫正牙齿、解除错牙颁畸形。正畸治疗主要通过各种矫正装置来调整面部骨骼、牙齿及颁面部的神经及肌肉之间的协调性，也就是调整上下颁骨之间，上下牙齿之间、牙齿与颁骨之间和联系它们的神经及肌肉之间不正常的关系，其最终矫治目标是达到口颁系统的平衡、稳定和美观。错牙颁畸形的矫治主要依靠在口腔内部或外部戴用矫治器，对牙齿、牙槽骨及颁骨施加适当的“生物力”，使其产生生理性移动，从而矫治错牙颁畸形。错牙颁矫正时常遇到的问题则是牙列拥挤问题，而邻面去釉则是解除牙列拥挤的方法之一。牙邻面釉质的厚度为0.75—1.25mm之间，一般每邻面的去釉量为0.25mm，最多不超过0.4mm,结合釉质的厚度和邻面的解剖形态去釉。通常，前牙特别是下前牙去釉量最少，去釉完成后要恢复良好的形态和接触点，并打磨抛光和涂氟防龋，最后完成的病例可能需要少量的调合，以利稳定。目前通常邻面去釉流程是:矫治方案设计时，医生制定好邻面去釉方案说明，并将文档发送给临床医生，临床医生对照去釉方案说明去釉，去釉完成后再给患者带上矫治器进行粘贴附件。这种邻面去釉的方法存在以下缺点:1.临床医生在进行去釉操作时需要边阅读文档边进行去釉的手工操作，影响效率，增加出差率。2.目前的矫治器无法检测去釉位置和去釉量，如果去釉位置或去釉量错误，依然可以配到到患者口内，错误不能被及时发现，影响整个医疗方案。
技术实现思路
为了克服现有邻面去釉方案不直观，即使操作错误或不到位也无法检验的缺点，本技术提供了一种能够直观地表达邻面去釉方案、并且能够及时检查出去釉是否错误或不到位的无托槽隐形矫治器临床模板。能检测邻面去釉的无托槽矫治器临床模板，包括模板本体，模板本体的牙列与患者牙列一致；模板本体上设有去釉检测插片和去釉说明信息，去釉说明信息设置于矫治器对应的待去釉牙位上；去釉检测插片的位置与厚度与去釉说明信息一一对应。进一步，去釉说明信息设置于待去釉牙位的外表面。进一步，去釉说明信息印于标识块上，标识块固定于模板本体的待去釉牙位的外表面；去釉信息说明包含去釉厚度。本技术在矫治器上增设去釉检测插片，去釉检测插片的厚度与去釉信息说明标出的去釉厚度相同，去釉信息说明标识的去釉厚度为医生临床经验或者通过计算得到牙齿与牙齿之间去釉后的间隙距离。所以在将矫治器带上时，如果能戴上，说明牙齿与牙齿之间去釉后的间隙足够，如果不能带上，说明牙齿与牙齿之间去釉后的间隙不足。本技术的优点在于:1、去釉信息说明直接标在待去釉的牙位上，避免了临床医生再根据文字说明去寻找需要做邻面去釉的牙位，阅读更加直观，与患者口内的对应关系一致。2、出现去釉位置或去釉量等错误，矫治器模板就无法戴入患者口内，避免了去釉出差的可能，保证了医疗方案的正确实施。【附图说明】图1是本技术的示意图。【具体实施方式】如图1所示，能检测邻面去釉的无托槽矫治器临床模板，包括模板本体1，模板本体I的牙列与患者牙列一致；模板本体I上设有去釉检测插片2和去釉说明信息，去釉说明信息设置于矫治器对应的待去釉牙位上；去釉检测插片2的位置与厚度与去釉说明信息——对应。去釉说明信息印于标识块3上，标识块3固定于模板本体I的待去釉牙位的外表面；去釉信息说明包含去釉厚度。本技术在矫治器上增设去釉检测插片2，去釉检测插片2的厚度与去釉信息说明标出的去釉厚度相同，去釉信息说明标识的去釉厚度为医生临床经验或者通过计算得到牙齿与牙齿之间去釉后的间隙距离。所以在将矫治器带上时，如果能戴上，说明牙齿与牙齿之间去釉后的间隙足够，如果不能带上，说明牙齿与牙齿之间去釉后的间隙不足。本技术的优点在于:1、去釉信息说明直接标在待去釉的牙位上，避免了临床医生再根据文字说明去寻找需要做邻面去釉的牙位，阅读更加直观，与患者口内的对应关系一致。2、出现去釉位置或去釉量等错误，矫治器模板就无法戴入患者口内，避免了去釉出差的可能，保证了医疗方案的正确实施。本说明书实施例所述的内容仅仅是对技术构思的实现形式的列举，本技术的保护范围不应当被视为仅限于实施例所陈述的具体形式，本技术的保护范围也及于本领域技术人员根据本技术构思所能够想到的等同技术手段。【主权项】1.能检测邻面去釉的无托槽矫治器临床模板，包括模板本体，模板本体的牙列与患者牙列一致；其特征在于:模板本体上设有去釉检测插片和去釉说明信息，去釉说明信息设置于矫治器对应的待去釉牙位上；去釉检测插片的位置与厚度与去釉说明信息一一对应。2.如权利要求1所述的能检测邻面去釉的无托槽矫治器临床模板，其特征在于:去釉说明信息设置于待去釉牙位的外表面。3.如权利要求2所述的能检测邻面去釉的无托槽矫治器临床模板，其特征在于:去釉说明信息印于标识块上，标识块固定于模板本体的待去釉牙位的外表面；去釉信息说明包含去釉厚度。【专利摘要】能检测邻面去釉的无托槽矫治器临床模板，包括模板本体，模板本体的牙列与患者牙列一致；其特征在于：模板本体上设有去釉检测插片和去釉说明信息，去釉说明信息设置于矫治器对应的待去釉牙位上；去釉检测插片的位置与厚度与去釉说明信息一一对应。本技术的优点在于：1、去釉信息说明直接标在待去釉的牙位上，避免了临床医生再根据文字说明去寻找需要做邻面去釉的牙位，阅读更加直观，与患者口内的对应关系一致；2、出现去釉位置或去釉量等错误，矫治器模板就无法戴入患者口内，避免了去釉出差的可能，保证了医疗方案的正确实施。【IPC分类】A61C7-00, A61C19-04【公开号】CN204542409【申请号】CN201520066139【专利技术人】刘勇 【申请人】杭州一牙数字口腔有限公司【公开日】2015年8月12日【申请日】2015年1月30日本文档来自技高网...

【技术保护点】
能检测邻面去釉的无托槽矫治器临床模板，包括模板本体，模板本体的牙列与患者牙列一致；其特征在于：模板本体上设有去釉检测插片和去釉说明信息，去釉说明信息设置于矫治器对应的待去釉牙位上；去釉检测插片的位置与厚度与去釉说明信息一一对应。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘勇，
申请(专利权)人：杭州一牙数字口腔有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33