【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光学清洗剂制备领域，具体涉及一种水性光学清洗、脱膜剂及其制备 和使用方法。
技术介绍
光学镜片行业是目前对镜片表面洁净度和平整度要求较高的一个领域，品质管控 十分严格，很多工件因为灰尘、油污、汗迹、指纹、毛肩、水印等污垢没清洗干净，或者因为硬 化、镀膜、抗指纹、防雾等加膜工序产生的缺陷，出现了大量的不良品，通常不良品只能当做 废品处理，造成极大浪费。过往的技术、产品中，具有以下一个或者多个缺陷：1、大量使用有 机溶剂和高毒性物质，造成污染和使用的不安全性；2、不能同时通用于玻璃清洗和光学塑 料的清洗；3、不能同时用于脱除工件表面的硬化、镀膜、抗指纹、防雾等膜层，而且在脱除膜 层时，也产生了很多缺陷，特别在脱除光学塑料表面的膜层时，比如造成工件表面粗糙、发 白、起雾等问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供，可以洗 净工件表面的各种污垢，也可以用于脱除工件表面的加硬层、镀膜层、抗指纹和防雾涂层， 不含V0C有机挥发性物质，不含高毒性物质，安全、环保。 为实现上述目的，本专利技术采用如下技术方案： 一种水性光学清洗、脱膜剂由以下组分...
【技术保护点】
一种水性光学清洗、脱膜剂，其特征在于：由以下组分组成，按重量百分数计：有机强碱：5‑30%羟基有机碱：0.5‑10%缓蚀剂：5‑20%渗透剂：5‑20%阴离子表面活性剂：5‑10%非离子表面活性剂：5‑10%两性离子表面活性剂：5‑15%螯合剂：1‑5%消泡剂：0‑1%分散剂：5‑15%去离子水：余量。
【技术特征摘要】
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