自冷式移动式镀膜承载盘制造技术

本发明专利技术提供一种自冷式移动式镀膜承载盘，包含：一载盘单元，及一相变化物质。该载盘单元内部形成有一密闭空间。该相变化物质填置于该载盘单元的密闭空间中。该相变化物质能自该载盘单元吸收一热能，以作为至少部分的该相变化物质自一固态熔融成一液态时所需的潜热，且该相变化物质的熔点为介于18℃至95℃间。借由该相变化物质本身于相变过程所需的熔解潜热，以自该载盘单元吸收该热能，能带走于溅镀过程中累积在待镀物上的高温热能，以借此提升散热效果并从而改善镀膜质量。

【技术实现步骤摘要】
自冷式移动式镀膜承载盘
本专利技术涉及一种镀膜承载盘，特别是涉及一种自冷式移动式镀膜承载盘。
技术介绍
目前真空溅镀技术的应用日渐广泛，其中以连续式溅镀设备(In-linesputteringapparatus)因为拥有速度快、产量高、镀覆质量优良等优点，且能大幅地降低生产成本，因此已广泛地应用于大量镀膜的制程中。一般连续式溅镀设备依序包含至少三个区域：一进料腔体区、一镀膜腔体区，及一出料腔体区；其中，一待镀物是被置于一传送单元上的一承载盘上，以于上述腔体区内或跨腔体区间传输，并由该出料腔体区输出一在该待镀物的一表面镀覆有一镀膜的成品。然而，于连续式溅镀过程中，由于该镀膜腔体区内部是使用高能的离子体撞击靶材，因而使该镀膜腔体区的内部温度大量升高。特别是为了缩短镀膜时间，此
的相关技术人员还会通过提高靶材输出功率的手段，以增加被溅离靶材外的镀材量。前述做法更容易使镀膜腔体区内的温度进一步增加，以致于该承载盘与该待镀物的温度也相应增加。若该待镀物所吸收到的一高温热能未能及时散去，一旦该待镀物甚或是其上的镀膜无法承受该高温热能因而产生变形时，将导致该待镀物变形并从而损坏该镀膜的质量。参阅图1，为了解决散热问题，如中国台湾第I392756核准公告号专利技术专利案则公开一种溅镀用承载装置1，其包含一用以承载一待镀物(如基板，图未示)的载具11、一承载该载具11的金属托盘12，及一供放置该金属托盘12的导热传送带13。该金属托盘12于面向该载具11的一表面形成有多个锯齿状凸起121。该载具11于面向该金属托盘12的一表面也形成有多个与该金属托盘12的锯齿状凸起121相对应的凹槽111。借由该载具11的凹槽111与该金属托盘12的锯齿状凸起121彼此啮合，使该载具11与该金属托盘12间形成有较大的热接触面积。借此，帮助该待镀物及其上所沉积的一镀膜(图未示)，将溅镀过程中所累积在该载具11、该待镀物与该镀膜上的一高温热能传导至该金属托盘12，并经由该导热传送带13带走该金属托盘12的高温热能。虽然该金属托盘12与该导热传送带13能够借由其本身的热传导系数高的特点以带走该高温热能。然而，由于该金属托盘12及该导热传送带13本身的热容(heatcapacity)仍嫌不足，以致于该金属托盘12与该导热传送带13能自该载具11汇出的热能有限，因而限缩了散热效果。经上述说明可知，如何进一步地提升溅镀用承载装置的热容，以有效地带走溅镀过程中累积在待镀物与镀膜上的高温热能并从而提升镀膜质量，是此
的相关技术人员所待突破的难题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种自冷式移动式承载盘。本专利技术的自冷式移动式承载盘，包含：一载盘单元，及一相变化物质。该载盘单元内部形成有一密闭空间。该相变化物质填置于该载盘单元的密闭空间中。在本专利技术中，该相变化物质能自该载盘单元吸收一热能，以作为至少部分的该相变化物质自一固态熔融成一液态时所需的潜热(latentheat)，且该相变化物质的熔点为介于18℃至95℃间。本专利技术的自冷式移动式镀膜承载盘，该相变化物质是选自一有机类材料与一无机类材料其中一者。本专利技术的自冷式移动式镀膜承载盘，该有机类材料是一烃类，且该烃类是选自C16至C50的一烷类。本专利技术的自冷式移动式镀膜承载盘，该无机类材料是选自一含有一结晶水合盐的组成物，或一熔解盐。本专利技术的自冷式移动式镀膜承载盘，该载盘单元的密闭空间需大于或等于该相变化物质于该液态时所占有的体积。本专利技术的自冷式移动式镀膜承载盘，该相变化物质于该固态时是占有该密闭空间的80％至90％。本专利技术的自冷式移动式镀膜承载盘，该载盘单元包括一基座，及一封板，该基座具有一基壁与一围绕该基壁的一周缘以定义出一凹槽的围壁，该封板盖设于该围壁的一表面以封闭该凹槽并定义出该密闭空间。本专利技术的自冷式移动式镀膜承载盘，该载盘单元还包括一第一密封环，该围壁的表面形成有一第一环形止漏槽，该封板盖设于该围壁的表面时，将该第一密封环夹制于该第一环形止漏槽内。本专利技术的自冷式移动式镀膜承载盘，该载盘单元还包括多个锁固件，及多个第二密封环，该基座的基壁具有多个自该基壁的一表面朝该封板凸伸而出的凸柱，每一凸柱具有一锁固孔，及一围绕该锁固孔的第二环形止漏槽，所述锁固件是贯穿该封板，以分别对应锁固于所述锁固孔，使该封板与该基座结合，且该封板将所述第二密封环分别对应夹制于所述第二环形止漏槽内。本专利技术的自冷式移动式镀膜承载盘，该基座还具有一背向该基座的表面的承载面，且该承载面自其两相反侧缘背向该基座的表面凸伸出有两个限位条。本专利技术的有益效果在于，借由该相变化物质本身于相变过程所需的熔解潜热，以自该载盘单元吸收该热能，能带走于溅镀过程中累积在待镀物上的高温热能，以借此提升散热效果并从而改善镀膜质量。附图说明本专利技术的其他特征及功效，将于参照图式的实施方式中清楚地呈现，其中：图1是一立体分解图，说明由中国台湾第I392756核准公告号专利技术专利案所公开的一种溅镀用承载装置；图2是一立体组合图，说明本专利技术自冷式移动式镀膜承载盘的一实施例；图3是一立体分解图，说明本专利技术该实施例的一载盘单元，及其细部构件；图4是一沿图2的直线Ⅳ-Ⅳ所取得的剖视图，说明该载盘单元的细部构件及其细部连结关系；图5是一温度对时间曲线图，说明采用本专利技术该实施例模拟在一溅镀过程中一待镀物的一顶面、一底面、该载盘单元及一相变化物质的温度变化；图6是一温度对时间曲线图，说明采用一金属载盘模拟在该溅镀过程中该待镀物的顶面、底面、该金属载盘的一顶面与一底面的温度变化。具体实施方式参阅图2、图3与图4，本专利技术自冷式移动式承载盘的一实施例，是被放置于一连续式真空镀膜系统(图未示，如溅镀系统)的一输送单元上，以通过该输送单元令该实施例于该连续式真空镀膜系统的多个真空腔体间移动。本专利技术该实施例包含：一载盘单元2，及一相变化物质3(于图2与图3中是未显示出该相变化物质3)。该载盘单元2包括一基座21、一封板22，及一第一密封环23。该基座21具有一基壁211与一围绕该基壁211的一周缘以定义出一凹槽的围壁212。该封板22盖设于该围壁212的一表面以封闭该凹槽并定义出一密闭空间20。该相变化物质3则填置于该密闭空间20中。该围壁212的表面形成有一第一环形止漏槽213。该封板22盖设于该围壁212的表面时，将该第一密封环23夹制于该第一环形止漏槽213内。在本专利技术该实施例中，该载盘单元2的基座21与封板22是由铝合金(Alalloy)所构成，且该相变化物质3能自该载盘单元2吸收一热能，以作为至少部分的该相变化物质3自一固态熔融成一液态时所需的潜热。较佳地，该相变化物质3的熔点为介于18℃至95℃间。此处值得说明的是，为了避免该相变化物质3于熔化时体积膨胀造成该载盘单元2变形。因此，该载盘单元2的密闭空间20需大于或等于该相变化物质3于该液态时所占有的体积。此处需补充说明的是，该相变化物质3于一吸热过程中的一储热能力(heatstoragecapacity)，是介于134kJ/kg至250kJ/kg间，且该吸热过程包括一自该固态熔化为该液态的相变(phasetransition)。该相变化物质3是选自一有机类材料(organicmaterial)与一无机(inorg本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种自冷式移动式镀膜承载盘，其特征在于其包含：一载盘单元，内部形成有一密闭空间；及一相变化物质，填置于该载盘单元的密闭空间中；其中，该相变化物质能自该载盘单元吸收一热能，以作为至少部分的该相变化物质自一固态熔融成一液态时所需的潜热，且该相变化物质的熔点为介于18℃至95℃间。

【技术特征摘要】
1.一种自冷式移动式镀膜承载盘，其特征在于其包含：一载盘单元，内部形成有一密闭空间，该载盘单元包括一基座、一封板及多个锁固件，该基座具有一基壁与一围绕该基壁的一周缘以定义出一凹槽的围壁，该封板盖设于该围壁的一表面以封闭该凹槽并定义出该密闭空间，该基座的基壁具有多个自该基壁的一表面朝该封板凸伸而出的凸柱，每一凸柱具有一锁固孔，所述锁固件是贯穿该封板，以分别对应锁固于所述锁固孔，使该封板与该基座结合；及一相变化物质，填置于该载盘单元的密闭空间中；其中，该相变化物质能自该载盘单元吸收一热能，以作为至少部分的该相变化物质自一固态熔融成一液态时所需的潜热，且该相变化物质的熔点为介于18℃至95℃间。2.如权利要求1所述的自冷式移动式镀膜承载盘，其特征在于：该相变化物质是选自一有机类材料与一无机类材料其中一者。3.如权利要求2所述的自冷式移动式镀膜承载盘，其特征在于：该有机类材料是一烃类，且该烃类是选自C16至C50的一烷类。4.如权利要求2所述的自冷式移动式镀膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶崇宇，苏晖家，叶承朋，张倧伟，黄一原，黄琬榆，卢木森，
申请(专利权)人：凌嘉科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71