本实用新型专利技术提供了一种薄片类介质输送机构和一种薄片类介质处理装置，涉及电子设备领域。该输送机构包括通道板组件和输送辊组件，通道板组件包括相对设置的固定通道板和可动通道板，两者之间形成输送通道；输送辊组件设置在输送通道上，输送辊组件包括相对设置的第一辊和第二辊，第二辊沿输送通道的高度方向可远离或者靠近第一辊，第二辊始终具有靠近第一辊的运动趋势；第二辊远离第一辊设定距离后驱使可动通道板随第二辊同步移动，令可动通道板远离固定通道板，可动通道板始终具有靠近固定通道板的运动趋势。该处理装置包括所述薄片类介质输送机构。本实用新型专利技术在输送介质时，能够针对不同厚度的介质实时调整施加的压力，对介质的适应性较佳。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及电子设备领域，具体而言，涉及一种薄片类介质输送机构及薄片类介质处理装置。
技术介绍
现有的薄片类介质处理装置，如打印机、扫描仪、纸币处理装置等薄片类介质处理装置通常通过设置薄片类介质输送机构来输送纸张、钞票、存折、护照等薄片类介质，为描述方便以下将薄片类介质简称为介质。如图1所示，现有的薄片类介质输送机构一般包括输送通道I'和输送辊组2 '，其中，输送通道I'用于引导介质的运动方向，包括相对设置的上通道板12 '和下通道板11'，介质在两者之间运动；输送辊组2 '用于驱动介质在输送通道I '内运动，输送辊组2'包括相切设置的第一辊21 '和第二辊22'，第一辊21'和第二辊22 '分别伸入输送通道I'内相切，第二辊22 '以一定的压力压在第一辊21 ;上，介质从两者之间穿过，当第一辊21 '转动时，第一辊21'和第二辊22'与介质之间的摩擦力能够驱动介质沿输送通道中运动。这种薄片类介质输送机构中的第一辊21 '与第二辊22'之间的压力保持不变，对于不同厚度的介质提供的摩擦力相同，同时为了保证较厚的介质能够被可靠输送，因此需要设置较大的压力，在输送较薄的介质时，由于摩擦力较大，容易造成介质褶皱，因此现有的薄片类介质输送机构的介质适应性差。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种薄片类介质输送机构，以解决现有的薄片类介质输送机构的介质适应性差的技术问题。本技术的目的还在于提供一种薄片类介质处理装置，以解决现有的薄片类介质处理装置的输送介质环节中介质适应性差的技术问题。基于上述第一目的，本技术提供了一种薄片类介质输送机构，包括通道板组件和输送辊组件，其中，所述通道板组件包括相对设置的固定通道板和可动通道板，两者之间形成供介质通过的输送通道；所述输送辊组件设置在所述输送通道上，所述输送辊组件包括相对设置的第一辊和第二辊，所述第二辊沿所述输送通道的高度方向可远离或者靠近所述第一辊，且所述第二辊始终具有靠近所述第一辊的运动趋势；所述第二辊远离所述第一辊设定距离后驱使所述可动通道板随所述第二辊同步移动，令所述可动通道板远离所述固定通道板，且所述可动通道板始终具有靠近所述固定通道板的运动趋势。可选的，所述输送辊组件还包括限位件，所述限位件与所述可动通道板连接、位于所述第二辊的移动路径上，限定了所述第二辊相对于所述可动通道板沿所述输送通道的高度方向的移动距离，并可驱使所述可动通道板移动。可选的，所述限位件为簧丝，相对应的，所述可动通道板设置有限位卡台，所述簧丝与所述限位卡台相卡接，且位于所述第二辊的移动路径上。可选的，该机构还包括机架，所述输送辊组件安装在所述机架上；所述输送辊组件还包括弹性组件，所述弹性组件安装在所述机架和所述第二辊之间，令所述第二辊始终具有靠近所述第一辊的运动趋势。可选的，所述弹性组件包括压簧和安装座，其中，所述安装座包括与所述第二辊连接的底座、固接在所述底座上的轴以及设置在所述轴的端部的弹性卡爪，所述轴沿所述输送通道的高度方向延伸，所述机架的顶壁设置有沉头孔，所述弹性卡爪插接在所述沉头孔内；所述压簧套设在所述轴上，其一端与所述底座抵接，另一端与所述顶壁抵接。可选的，所述可动通道板上设置有沿所述输送通道的高度方向延伸的限位套筒，所述第二辊包括设置在所述第二辊的芯轴外周的至少两个分段辊，所述限位套筒上沿所述第二辊的轴向设置有与所述第二辊的芯轴插接的避让槽，所述底座可滑动地插接在所述限位套筒内，且所述底座抵接在所述第二辊的芯轴上。可选的，所述输送辊组件包括沿所述第一辊的轴向间隔排布的多个所述第二辊，相邻的所述第二辊的芯轴由万向联轴器连接，且一个所述第二辊对应地设置有一个所述弹性组件。可选的，该机构还包括机架，所述通道板组件安装在所述机架上；所述通道板组件还包括弹性元件，所述弹性元件安装在所述机架与所述可动通道板之间，令所述可动通道板始终具有靠近所述固定通道板的运动趋势。可选的，所述第一辊位于所述固定通道板的背离所述输送通道的一侧；所述第二辊位于所述可动通道板的背离所述输送通道的一侧，所述第二辊的芯轴与支撑槽插接，且可沿所述支撑槽的长度方向移动；所述支撑槽设置在所述可动通道板上，其长度方向沿所述输送通道的高度方向延伸。基于上述第二目的，本技术提供了一种薄片类介质处理装置，包括所述的薄片类介质输送机构。本技术提供的薄片类介质输送机构，包括用于形成输送通道的通道板组件和用于驱使介质移动的输送辊组件，所述输送辊组件包括相对设置的第一辊和第二辊，所述第二辊沿所述输送通道的高度方向可远离或者靠近所述第一辊，且所述第二辊始终具有靠近所述第一辊的运动趋势；所述通道板组件包括相对设置的固定通道板和可动通道板，所述第二辊远离所述第一辊设定距离后驱使所述可动通道板随所述第二辊同步移动，令所述可动通道板远离所述固定通道板，且所述可动通道板始终具有靠近所述固定通道板的运动趋势。当输送较小厚度的介质时，所述第二辊相对于第一辊在所述设定距离范围内移动，介质仅需克服第二辊靠近第一辊的运动趋势，该运动趋势形成对于介质的压力，此时，介质所承受的压力相对较小，避免摩擦力过大而令介质褶皱等；当输送相对较厚的介质时，所述第二辊相对于第一辊移动至超过所述的设定距离，第二辊驱使可动通道板随之远离固定通道板，介质在克服第二辊靠近第一辊的运动趋势的基础上，还需同时克服可动通道板靠近固定通道板的运动趋势，此时第二辊的运动趋势和可动通道板的运动趋势共同形成对于介质的压力，介质所承受的压力相对较大，避免摩擦力不足而令介质的输送效率低。综上，本技术提供的薄片类介质输送机构，针对不同厚度的介质实时调整施加的压力，对介质的适应性较好。本技术提供的薄片类介质处理装置，安装有本技术的薄片类介质输送机构，具有所述薄片类介质输送机构的上述特点，因此解决了现有的薄片类介质处理装置的介质输送环节的介质适应性差的问题。【附图说明】图1是现有技术中的薄片类介质输送机构的结构示意图；图2是本技术实施例一提供的薄片类介质输送机构的结构剖面图；图3是本技术实施例一提供的薄片类介质输送机构的局部结构分解示意图；图4是本技术实施例一提供的薄片类介质输送机构的局部结构剖面图；图5是本技术实施例一提供的薄片类当前第1页1 2 3 4 本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种薄片类介质输送机构，包括通道板组件和输送辊组件，其中，所述通道板组件包括相对设置的固定通道板和可动通道板，两者之间形成供介质通过的输送通道；所述输送辊组件设置在所述输送通道上，所述输送辊组件包括相对设置的第一辊和第二辊，所述第二辊沿所述输送通道的高度方向可远离或者靠近所述第一辊，且所述第二辊始终具有靠近所述第一辊的运动趋势，其特征在于：所述第二辊远离所述第一辊设定距离后驱使所述可动通道板随所述第二辊同步移动，令所述可动通道板远离所述固定通道板，且所述可动通道板始终具有靠近所述固定通道板的运动趋势。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：贾超，张政民，张诗水，杨民，
申请(专利权)人：山东新北洋信息技术股份有限公司，
类型：新型
国别省市：山东;37
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