用于电子器件外壳的再循环过滤器制造技术

提供一种用于电子器件外壳中的过滤组件。所述过滤组件包括高度可渗透的罩层，所述罩层限定狭长外壳，所述狭长外壳具有在第一端的入口和封闭的第二端，其中静电过滤介质被安置在所述狭长外壳内。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利说明】 本申请是在2013年8月10日作为一份PCT国际专利申请以唐纳森公司 (Donaldson Company, Inc.)(-家美国国家公司，作为所有指定国家的申请人），以及 美国公民 Stanley Β· Miller, III、美国公民 AllenN. Nicklay、美国公民 Christopher J. Fischer、以及美国公民Daniel LTuma(作为所有指定国家的申请人和专利技术人）的名义 而提交的，并且本申请要求于2012年8月10日提交的美国临时专利申请号61/681，618以 及在2013年3月14日提交的美国专利申请号13/831,458的优先权，这些专利申请的内容 通过引用以其全文结合在此。
本专利技术针对用于电子器件外壳中的过滤器。具体地，本专利技术针对用于去除在电子 器件外壳的内部循环的污染物的过滤器。
技术介绍
在电子器件外壳（例如硬盘驱动器外壳）内的污染物可能减少在该外壳内的部件 的效能和寿命。污染物可以包括化学品和微粒，并且可以从外部源进入硬盘驱动器外壳，或 者在制造或使用过程中在该外壳内产生。这些污染物可能逐渐损害该驱动器，从而导致驱 动器性能的恶化以及甚至该驱动器的完全失效。因此，数据存储系统如硬盘驱动器典型地 包括一个或多个过滤器，这些过滤器能够去除或防止在该磁盘驱动器外壳内的空气中的微 粒和/或化学污染物的进入。一种此类的过滤器是再循环过滤器，将该再循环过滤器总体 上这样放置，使其可以从在磁盘驱动器内的一个或多个磁盘的旋转造成的空气流路径过滤 掉污染物。尽管现有再循环过滤器可以去除许多污染物，但对于去除某些污染物，尤其是大 的微粒污染物方面的改进的性能存在着需要。
技术实现思路
本专利技术部分针对用于电子器件外壳中的过滤组件。这些过滤组件被设计为去除在 该电子器件外壳内循环的微粒污染物。具体地，这些过滤组件被构造并安排成通过捕获这 些颗粒并且防止它们释放回到该电子器件外壳中来有效减少微粒污染物水平。典型地，这 些过滤组件用一种介质几何结构进行构造，该介质几何结构有助于捕获颗粒，并且避免将 颗粒反射出这些过滤组件。 在不同的实施例中，这些过滤组件进一步包括被进一步设计为促进捕获微粒污染 物的介质构型。这些介质构型包括例如具有一种静电介质的构造，该静电介质覆盖在该过 滤组件的内部上的罩层（scrim)材料的全部或一部分。无意受一种特定的工作机理束缚， 据信该静电帮助防止颗粒撞击该介质并且然后反弹（经常被称为反射），这在其他情况下 可以在暴露的罩层材料上发生。该静电还可以进一步帮助捕获颗粒以防止它们通过该电子 器件外壳继续循环。 在一个示例实施例中，该过滤组件包括一种介质结构，该介质结构包括开放的前 端、封闭的后端、以及在该开放的前端与封闭的后端之间的内部凹陷。可渗透的过滤介质形 成该凹陷的至少一部分。该凹陷典型地是相对深的，在一些情况下与该过滤组件的宽度一 样深或比其更深。因此，该凹陷在一些实施例中可以是（例如）圆锥形或柱形。这种具有 内部凹陷的再循环过滤器结构通过具有大的开放的前表面面积，同时具有甚至更大的包括 过滤介质的内部表面面积，促进微粒污染物的捕获和截留。该内部介质表面通常相对于空 气流动方向成角度，以便颗粒以锐角撞击该介质，这样使得它们可以在初始接触点处被该 介质截留或被充分减速以被更深地截留在该过滤组件内部。 在一些实现方式中，该内部凹陷的表面面积的至少50 %与该开口成小于或等于 45度的角度。在一些示例实现方式中，该内部凹陷的表面面积的至少75%与该开口成小于 或等于45度的角度。任选地该内部凹陷的表面面积的至少50%与该开口成小于或等于30 度的角度。在一些示例实施例中，该内部凹陷的表面面积的至少75%与该开口成小于或等 于30度的角度。 在某些实现方式中，该过滤组件的内部凹陷具有至少I. 0的最大深度与该开放的 前面的最大直径的比率，但这个最大深度与最大直径的比率可以改变，并且常常高于1.0， 如高于I. 25、1. 5、1. 75 ;或例如2. 0。该过滤组件的内部凹陷可以具有的内表面面积为该开 放的前面处的面积的至少2倍、在其他实现方式中该开放的前面处的面积的至少3倍、并且 在其他实现方式中该开放的前面处的面积的至少4倍、在一些实现方式中该开放面的面积 的至少4倍、或在某些实施例中该开放的前面处的面积的至少5或6倍。 在一些实施例中，该可渗透的罩层材料包括织造或非织造材料，如聚丙烯纤维。该 罩层材料在一些实施例中可以具有，例如，在0. 5英寸水的情况下约100ft. /min.与在0. 5 英寸水的情况下约800ft. /min之间的渗透率。在某些实施例中，该罩层材料具有在0. 5英 寸水的情况下约250ft. /min.与在0. 5英寸水的情况下约600ft. /min之间的渗透率。该 罩层材料在一些示例实现方式中具有在0. 5英寸水的情况下约300ft. /min.与在0. 5英寸 水的情况下约500ft. /min之间的渗透率。将理解的是合适的罩层材料可以具有，例如，在 0. 5英寸水的情况下大于100ft. /min、在0. 5英寸水的情况下大于250ft. /min、或在0. 5英 寸水的情况下大于300ft. /min的渗透率。合适的罩层材料可以具有，例如，在一些实施例 中在0. 5英寸水的情况下小于约800ft. /min.、在一些实施例中在0. 5英寸水的情况下小于 约600ft. /min、或在一些实施例中在0. 5英寸水的情况下小于500ft. /min.的渗透率。 该静电材料可以包含各种纤维，并且任选地是一种包含聚丙烯和丙烯酸纤维的混 合纤维介质。该静电材料具有，例如，在0.5英寸水的情况下约250ft./min.与在0.5英 寸水的情况下约750ft. /min之间的渗透率。该静电材料在一些实施例中可以具有对于20 至30微米的微粒污染物的约20%至约99. 99%的过滤效率。合适的静电材料可以，例如， 具有对于20至30微米的微粒污染物的大于20%、对于20至30微米的微粒污染物的大于 40%、或对于20至30微米的微粒污染物的大于60%的过滤效率。该静电材料在一些示例 实现方式中可以具有对于20至30微米的微粒污染物的小于99. 99%、对于20至30微米的 微粒污染物的小于80%、或对于20至30微米的微粒污染物的小于60%的过滤效率。 本专利技术的以上概述并非旨在说明本专利技术所讨论的每个实施例。这是附图以及随后 的详细说明的目的所在。【附图说明】 将参照以下附图更充分地解释本专利技术。 图1是磁盘驱动器组件的简化透视图，该磁盘驱动器组件的顶部展示为已去除。 图2是根据本专利技术的实现方式构造且安排的一种过滤组件的透视图。 图3是根据图2中示出的本专利技术的实现方式构造且安排的一种过滤组件的侧面正 视图。 图4是根据图2中示出的本专利技术的实现方式构造且安排的一种过滤组件的正面正 视图。 图5A是沿线3-3'截取的图3的过滤组件的截面视图。 图5B是在图5A中以截面示出的过滤组件的一部分的细节，示出了这些介质层。 图6是含有根据本专利技术的一个示例实现方式构造且安排的过滤组件的磁盘驱动 器组件的部分俯视图。 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于电子器件外壳中的过滤组件，所述过滤组件包括：介质结构，所述介质结构包括开放的前面、封闭的背面、以及在所述开放的前面与封闭的背面之间的内部凹陷；形成所述介质结构的至少一部分的罩层材料；以及安置在所述过滤组件的内部凹陷内的静电材料，所述静电材料至少部分覆盖所述罩层。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：S·B·米勒三世，A·N·尼克雷，C·J·费希尔，D·L·图玛，
申请(专利权)人：唐纳森公司，
类型：发明
国别省市：美国;US