【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种制备光学防伪元件的方法,该方法包括:在基材(1)上形成起伏结构层(2),该起伏结构层(2)包括至少第一区域(A)和第二区域(B),其中所述第一区域(A)中的起伏结构层的深宽比大于所述第二区域(B)中的起伏结构层的深宽比;在所述起伏结构层(2)上形成镀层(3);在所述镀层(3)上形成感光胶层(4);在所述感光胶层(4)一侧以合适的曝光剂量进行曝光,以使得所述第一区域(A)和所述第二区域(B)其中一个区域上的所述感光胶层(4)在后续显影步骤中的溶解度大于另一个区域上的所述感光胶层(4)的溶解度;用所述显影液进行显影,直到所述一个区域上的所述感光胶层(4)完全溶于所述显影液而所述另一个区域上的所述感光胶层(4)仍然存在为止;以及去除未被所述感光胶层(4)保护的所述镀层(3)。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:胡春华,吴远启,周赟,张宝利,蔡翔,董林茂,
申请(专利权)人:中钞特种防伪科技有限公司,中国印钞造币总公司,
类型:发明
国别省市:北京;11
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