System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 光学防伪元件和光学防伪产品制造技术_技高网

光学防伪元件和光学防伪产品制造技术

技术编号:40308060 阅读:4 留言:0更新日期:2024-02-07 20:52
本发明专利技术提供了一种光学防伪元件和光学防伪产品,包括基材和多个反射面镜片段;反射面镜片段按预设规律设置在基材的一侧表面,多个反射面镜片段间隔设置形成间隙,反射面镜片段和/或间隙提供宏观图像的像素,从而形成宏观的动感图像、立体图像。本发明专利技术解决了现有技术中光学防伪元件存在成品率低的问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及防伪领域,具体而言,涉及一种光学防伪元件和光学防伪产品


技术介绍

1、具有微透镜阵列的光学防伪元件具有独特的视觉效果和易识别性,所以被广泛应用于钞票、信用卡、护照和有价证券等高安全产品以及其它高附加值产品中。

2、cn200480040733、cn200680026431公开了在基材的两个表面上分别带有微透镜阵列和微图文阵列的防伪元件,其中微图文阵列位于微透镜阵列的焦平面附近,通过微透镜阵列对微图文阵列的莫尔放大作用来再现具有一定景深或呈现动态效果的图案。

3、专利cn200480040733中所公开的光学微结构防伪元件中,微透镜阵列和微图文阵列分别位于各自的平面内,因此在制作过程中,首先需要对微图文阵列和微透镜阵列分别进行原版制备,然后在生产中在薄膜基材的两侧上分别对微图文阵列和微透镜阵列进行批量复制。这种结构的防伪元件的缺陷在于:(1)该结构要求微透镜阵列、微图文阵列均为周期性排列,在制作原版时其周期误差在亚微米级,因此制作难度高;(2)在生产过程中,需要在基材的两个表面上依次进行加工,因此工艺流程复杂;(3)在生产过程中,需要解决微透镜阵列和微图文阵列的对位问题,因此工艺可控性低;(4)由于生产过程中无法保证微图文阵列和微透镜阵列的严格对位,所以一些防伪效果无法达到预期甚至无法实现。

4、也就是说,现有技术中光学防伪元件存在成品率低的问题。


技术实现思路

1、本专利技术的主要目的在于提供一种光学防伪元件和光学防伪产品,以解决现有技术中光学防伪元件存在成品率低的问题。

2、为了实现上述目的,根据本专利技术的一个方面,提供了一种光学防伪元件,包括:基材;多个反射面镜片段,反射面镜片段按预设规律设置在基材的一侧表面,多个反射面镜片段间隔设置形成间隙,反射面镜片段和/或间隙提供宏观图像的像素,从而形成宏观的动感图像、立体图像。

3、进一步地,反射面镜片段的厚度小于等于1微米。

4、进一步地,间隙至少在平面内的某一维度上贯通,在垂直于该维度方向的另一维度内,间隙的宽度大于1微米且小于100微米。

5、进一步地,反射面镜片段远离基材的一侧表面为平面或曲面。

6、进一步地,反射面镜片段的纵剖面包括圆形、椭圆形、多边形、锯齿形、抛物线形、正弦形中的至少一种;和/或反射面镜片段呈周期性或非周期性排列;和/或反射面镜片段为二维结构或三维结构。

7、进一步地,至少一部分反射面镜片段上具有结构层,结构层同形覆盖在反射面镜片段远离基材的一侧的表面,并在反射光方向提供预设颜色的光。

8、进一步地,结构层包括:微结构层,微结构层具有多个微结构,多个微结构同形覆盖在反射面镜片段远离基材的一侧的表面上;镀层,镀层设置在微结构层远离反射面镜片段的一侧。

9、进一步地,微结构包括边壁陡直的微结构、亚微米结构中的至少一种。

10、进一步地,微结构包括亚微米结构时,亚微米结构为一维结构或二维结构。

11、进一步地,镀层包括单层镀层或多层镀层;优选地,镀层包括金属镀层和介质镀层叠置形成的镀层、单层金属镀层、单层介质镀层、多层金属镀层、多层介质镀层中的一种;优选地,介质镀层包括低折射率介质层、高折射率介质层中的一种。

12、进一步地,结构层提供结构色。

13、进一步地,间隙内填充微浮雕结构,微浮雕结构形成具有第二光学特征的图像。

14、进一步地,微浮雕结构包括亚波长光栅,亚波长光栅的周期大于0.2微米且小于0.7微米,优选地,亚波长光栅为一维结构或二维结构。

15、进一步地,微浮雕结构远离基材的一侧表面设置有镀膜。

16、进一步地,镀膜包括单层镀膜或多层镀膜;优选地,镀膜包括单层金属镀膜、单层介质镀膜、多层金属镀膜、多层介质镀膜、金属镀膜和介质镀膜堆叠形成的镀膜中的一种;优选地,介质镀膜包括低折射率介质膜、高折射率介质膜中的一种。

17、进一步地,微浮雕结构提供光学反射、衍射图像,即形成动感、立体的图像;和/或微浮雕结构包括衍射光栅、闪耀光栅、随机散射结构中的至少一种。

18、进一步地,衍射光栅的周期大于0.5微米且小于5微米;和/或闪耀光栅的周期大于3微米且小于30微米。

19、进一步地,反射面镜片段还包括具有衍射光变特征、干涉光变特征、微纳结构特征、印刷特征、部分金属化特征、荧光特征、用于机读的磁、光、电、放射性特征的结构中的至少一种;和/或基材包括由聚对苯二甲酸二醇酯、聚氯乙烯、聚乙烯、聚碳酸酯、聚丙烯、金属、玻璃、纸张中的一种材料形成的有色薄膜或无色薄膜中的一种。

20、根据本专利技术的另一方面,提供了一种光学防伪产品,光学防伪产品包括上述的光学防伪元件。

21、应用本专利技术的技术方案,光学防伪元件包括基材和多个反射面镜片段;反射面镜片段按预设规律设置在基材的一侧表面,多个反射面镜片段间隔设置形成间隙,反射面镜片段或间隙或反射面镜片段和间隙共同提供宏观图像的像素,从而形成宏观的动感图像、立体图像。

22、通过在基材的一侧表面设置多个反射面镜片段,能够使到达光学防伪元件上的入射光线被反射面镜片段反射进入人眼,而间隔设置的反射面镜片段形成的间隙对光线的反射作用较弱,从而使反射面镜片段和间隙提供的像素在观察时具有亮暗的光学特征差异。而将反射面镜片段按预设规律设置,使得观察到亮暗差异的像素形成预设的宏观图像,提供防伪信息。本专利技术的光学防伪元件可用于钞票、信用卡、护照和有价证券等高安全产品以及其它高附加值产品中。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种光学防伪元件,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的光学防伪元件,其特征在于,

3.根据权利要求1所述的光学防伪元件,其特征在于,所述间隙(5)至少在平面内的某一维度上贯通,在垂直于所述某一维度的另一维度内,所述间隙(5)的宽度大于1微米且小于100微米。

4.根据权利要求1所述的光学防伪元件,其特征在于,至少一部分所述反射面镜片段(2)上具有结构层(30),所述结构层(30)同形覆盖在所述反射面镜片段(2)远离所述基材(1)的一侧的表面,并在反射光方向提供预设颜色的光。

5.根据权利要求4所述的光学防伪元件,其特征在于,所述结构层(30)包括:

6.根据权利要求5所述的光学防伪元件,其特征在于,所述微结构包括边壁陡直的微结构、亚微米结构中的至少一种。

7.根据权利要求6所述的光学防伪元件,其特征在于,所述微结构包括亚微米结构时,所述亚微米结构为一维结构或二维结构。

8.根据权利要求5所述的光学防伪元件,其特征在于,所述镀层(32)包括单层镀层或多层镀层;优选地,所述镀层(32)包括金属镀层和介质镀层叠置形成的镀层、单层金属镀层、单层介质镀层、多层金属镀层、多层介质镀层中的一种;优选地,所述介质镀层包括低折射率介质层、高折射率介质层中的一种。

9.根据权利要求4所述的光学防伪元件,其特征在于,所述结构层(30)提供结构色。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的光学防伪元件,其特征在于,所述间隙(5)内填充微浮雕结构(40),所述微浮雕结构(40)形成具有第二光学特征的图像。

11.根据权利要求10所述的光学防伪元件,其特征在于,所述微浮雕结构(40)包括亚波长光栅,所述亚波长光栅的周期大于0.2微米且小于0.7微米,优选地,所述亚波长光栅为一维结构或二维结构。

12.根据权利要求10所述的光学防伪元件,其特征在于,所述微浮雕结构(40)远离所述基材(1)的一侧表面设置有镀膜(41)。

13.根据权利要求12所述的光学防伪元件,其特征在于,所述镀膜(41)包括单层镀膜或多层镀膜;优选地,所述镀膜(41)包括单层金属镀膜、单层介质镀膜、多层金属镀膜、多层介质镀膜、金属镀膜和介质镀膜堆叠形成的镀膜中的一种;优选地,所述介质镀膜包括低折射率介质膜、高折射率介质膜中的一种。

14.根据权利要求10所述的光学防伪元件,其特征在于,

15.根据权利要求14所述的光学防伪元件,其特征在于,

16.根据权利要求1所述的光学防伪元件,其特征在于,

17.一种光学防伪产品,其特征在于,所述光学防伪产品包括权利要求1至16中任一项所述的光学防伪元件。

...

【技术特征摘要】

1.一种光学防伪元件,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的光学防伪元件,其特征在于,

3.根据权利要求1所述的光学防伪元件,其特征在于,所述间隙(5)至少在平面内的某一维度上贯通,在垂直于所述某一维度的另一维度内,所述间隙(5)的宽度大于1微米且小于100微米。

4.根据权利要求1所述的光学防伪元件,其特征在于,至少一部分所述反射面镜片段(2)上具有结构层(30),所述结构层(30)同形覆盖在所述反射面镜片段(2)远离所述基材(1)的一侧的表面,并在反射光方向提供预设颜色的光。

5.根据权利要求4所述的光学防伪元件,其特征在于,所述结构层(30)包括:

6.根据权利要求5所述的光学防伪元件,其特征在于,所述微结构包括边壁陡直的微结构、亚微米结构中的至少一种。

7.根据权利要求6所述的光学防伪元件,其特征在于,所述微结构包括亚微米结构时,所述亚微米结构为一维结构或二维结构。

8.根据权利要求5所述的光学防伪元件,其特征在于,所述镀层(32)包括单层镀层或多层镀层;优选地,所述镀层(32)包括金属镀层和介质镀层叠置形成的镀层、单层金属镀层、单层介质镀层、多层金属镀层、多层介质镀层中的一种;优选地,所述介质镀层包括低折射率介质层、高折射率介质层中的一种。

9.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员:崔海波孙凯
申请(专利权)人:中钞特种防伪科技有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1