一种触摸屏金属图形的制作方法技术

本发明专利技术公开一种触摸屏金属图形的制作方法，包含以下步骤：a)清洗干净已做好ITO图形的玻璃板；b)涂胶，在ITO上表面涂布光刻胶层，光刻胶层呈倒梯形状；c)预固化；d)曝光；e)显影；f)镀金属，采用真空磁控溅射方式在玻璃板、ITO与光刻胶层上溅镀金属层；g)脱膜，采用脱膜液对光刻胶层进行溶解，去除光刻胶层上的金属，得到需要的金属图形；改变传统的对金属图形的制作步骤，采用先涂胶、后镀金属的方式，由于光刻胶层呈倒梯形，使得溅镀完金属层后在光刻胶层的边沿留出脱膜空间，采用脱膜液对光刻胶层进行溶解的方式去除光刻胶层上的金属，能够将金属杂质一同去除，不会残留在ITO上，从而提高了产品的合格率，同时省去了蚀刻步骤，简化了制作工艺。

【技术实现步骤摘要】
一种触摸屏金属图形的制作方法
本专利技术涉及触摸屏制造领域，具体是一种触摸屏金属图形的制作方法。
技术介绍
触摸屏是一种显著改善人机操作界面的输入设备，具有直观、简单、快捷的优点，在许多电子产品中已经获得了广泛的应用，尤其在智能手机、平板电脑等领域的发展最为迅速，目前电容式触摸屏通常采用黄光工艺来制作金属图形，从而形成ITO的导电搭桥，一般包括清洗、镀金属、正梯形胶涂胶、曝光、显影、预固化、蚀刻与脱膜的步骤，在镀金属环节，由于磁控溅射的溅射靶上往往混有金属杂质，那么在ITO上镀金属时就很容易混入不是MoAlMo的金属杂质，在蚀刻时，蚀刻液只能去除MoAlMo的金属层，对于其它的金属杂质不能去除，导致出现金属残留的问题，影响产品的合格率。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种触摸屏金属图形的制作方法，该方法能够在制作金属图形时去除在镀金属时混入的金属杂质，避免出现金属残留的问题，提高产品的合格率。本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是：一种触摸屏金属图形的制作方法，包含以下步骤：a)清洗已做好ITO图形的玻璃板，去除玻璃板表面的污物；b)涂胶，在ITO的上表面涂布光刻胶层，光刻胶层呈倒梯形状；c)预固化，对光刻胶层进行加热预固化处理；d)曝光，采用UV光源通过光罩使光罩上的图形转移至光刻胶层；e)显影，采用显影液对曝光后的光刻胶层进行显影，将光罩图形保留下来；f)镀金属，采用真空磁控溅射方式在玻璃板、ITO与光刻胶层上溅镀金属层；g)脱膜，采用脱膜液对光刻胶层进行溶解，去除光刻胶层上的金属，得到需要的金属图形。本专利技术的有益效果是，改变传统的对金属图形的制作步骤，采用先涂胶、后镀金属的方式，由于光刻胶层呈倒梯形，使得溅镀完金属层后在光刻胶层的边沿留出脱膜空间，采用脱膜液对光刻胶层进行溶解的方式去除光刻胶层上的金属，即使在镀金属时混入了金属杂质，也能够随着光刻胶的溶解被一齐去除，不会残留在ITO上，从而提高了产品的合格率，同时省去了蚀刻步骤，简化了制作工艺。附图说明下面结合附图和实施例对本专利技术进一步说明：图1是本专利技术的示意图；图2是本专利技术的脱膜步骤示意图；图3是本专利技术的制作结果示意图。具体实施方式如图1所示，本专利技术提供一种触摸屏金属图形的制作方法，包含以下步骤：a)清洗干净已做好ITO2图形的玻璃板1，可采用转动毛刷刷洗、清洗液冲洗、纯水洗涤等常用的清洗方式去除玻璃板1表面的污物；b)涂胶，在ITO2的上表面涂布光刻胶层3，光刻胶层3呈倒梯形状，可以根据具体需要通过辊涂装置涂布正性光刻胶或是负性光刻胶；c)预固化，对光刻胶层3进行加热预固化处理，加热温度100℃，加热时间1min，通过加热的方式将光刻胶层3中的溶剂大部分挥发掉从而提高显影的可控性，预固化的温度与时间可采用目前对光刻胶预固化的传统工艺方式；d)曝光，采用UV光源通过光罩使光罩上的图形转移至光刻胶层3；e)显影，采用显影液对曝光后的光刻胶层3进行显影，将光罩图形保留下来；f)镀金属，采用真空磁控溅射方式在玻璃板1、ITO2与光刻胶层3上溅镀MoAlMo金属，从而形成附着在光刻胶层3上的金属层4a以及附着在玻璃板1与ITO2上的金属层4b，所述金属层的厚度小于光刻胶层，镀金属过程采用目前传统的溅镀工艺即可；g)脱膜，结合图2所示，采用脱膜液对光刻胶层3进行溶解，去除光刻胶层3上的MoAlMo金属（即金属层4a），脱膜液可采用常用的二甲基乙酰胺与二甘醇丁醚构成的混合溶液，结合图3所示，得到需要的MoAlMo金属图形（即金属层4b）。改变传统的对金属图形的制作步骤，采用先涂胶、后镀金属的方式，由于光刻胶层呈倒梯形，使得溅镀完MoAlMo金属层后在光刻胶层的边沿留出脱膜空间，采用脱膜液对光刻胶层进行溶解的方式去除光刻胶层上的MoAlMo金属，即使在镀金属时混入了金属杂质，也能够随着光刻胶的溶解被一齐去除，不会残留在ITO上，从而提高了产品的合格率，同时省去了蚀刻步骤，简化了制作工艺。以上所述，仅是本专利技术的较佳实施例而已，并非对本专利技术作任何形式上的限制；任何熟悉本领域的技术人员，在不脱离本专利技术技术方案范围情况下，都可利用上述揭示的方法和
技术实现思路
对本专利技术技术方案做出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例。因此，凡是未脱离本专利技术技术方案的内容，依据本专利技术的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同替换、等效变化及修饰，均仍属于本专利技术技术方案保护的范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种触摸屏金属图形的制作方法，其特征在于，所述方法包含以下步骤：a)清洗已做好ITO图形的玻璃板(1)，去除玻璃板(1)表面的污物；b)涂胶，在ITO(2)的上表面涂布光刻胶层(3)，光刻胶层(3)呈倒梯形状；c)预固化，对光刻胶层(3)进行加热预固化处理；d)曝光，采用UV光源通过光罩使光罩上的图形转移至光刻胶层(3)；e)显影，采用显影液对曝光后的光刻胶层(3)进行显影，将光罩图形保留下来；f)镀金属，采用真空磁控溅射方式在玻璃板(1)、ITO(2)与光刻胶层(3)上溅镀金属层；g)脱膜，采用脱膜液对光刻胶层(3)进行溶解，去除光刻胶层(3)上的金属，得到需要的金属图形。

【技术特征摘要】
1.一种触摸屏金属图形的制作方法，其特征在于，所述方法包含以下步骤：a)清洗已做好ITO图形的玻璃板(1)，去除玻璃板(1)表面的污物；b)涂胶，在ITO(2)的上表面涂布光刻胶层(3)，光刻胶层(3)呈倒梯形状；c)预固化，对光刻胶层(3)进行加热预固化处理；d)曝光，采用UV光源通过光罩...

【专利技术属性】
技术研发人员：彭寿，茆令文，鲍兆臣，张少波，曹绪文，蔡丰豪，
申请(专利权)人：蚌埠玻璃工业设计研究院，安徽方兴科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34