四极质谱计的离子源制造技术

技术编号:11437498 阅读:106 留言:0更新日期:2015-05-08 15:36
本发明专利技术公开了一种四极质谱计的离子源,包括长方体状的电离箱,电离箱侧壁形成贯通的入光孔,另一相对侧壁形成原子入射孔,底部的电离底板中形成电离孔,电离箱下方的萃取板、基板上分别形成与电离孔同轴的萃取孔、基板孔,萃取板上下端面分别设置有与电离底板、基板相接触的陶瓷绝缘柱,形成入射孔的入射板通过两根支撑柱与基板下端面相连,所述的支撑柱穿过聚焦板的导向孔,聚焦板中心孔处设置有聚焦管,聚焦板下端面与入射板上端面之间设置有入射板绝缘柱,聚焦管、入射孔均与电离孔同轴。本发明专利技术能够直接将激光电离后的离子聚焦、萃取和加速引入质量分析仪中,从而实时调整激光参数,来提高原子光谱试验的可控性和试验效率。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种四极质谱计的离子源,包括长方体状的电离箱(1),其特征在于:电离箱(1)相对侧壁形成贯通的入光孔(2),另一相对侧壁形成原子入射孔(18),底部的电离底板(16)中形成电离孔(3),电离箱(1)下方的萃取板(5)、基板(7)上分别形成与电离孔(3)同轴的萃取孔(6)、基板孔(8),萃取板(5)上下端面分别设置有与电离底板(16)、基板(7)相接触的陶瓷绝缘柱(4),形成入射孔(13)的入射板(12)通过两根支撑柱(9)与基板(7)下端面相连,所述的支撑柱(9)穿过聚焦板(10)的导向孔(15),聚焦板(10)中心孔处设置有聚焦管(11),聚焦板(10)下端面与入射板(12)上端面之间设置有入射板绝缘柱(17),聚焦管(11)、入射孔(13)均与电离孔(3)同轴。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:刘海勇张晓卫高鹏
申请(专利权)人:核工业理化工程研究院
类型:发明
国别省市:天津;12

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