光拾取器制造技术

本发明专利技术提供一种光拾取器，在从跟踪线圈中产生的电磁力的作用中心到可动部的支承中心的距离在一侧和另一侧不同的结构中，也能够减小可动部的倾斜。在透镜支架(2)的一个侧面的靠跟踪方向的中央配置一对第一跟踪线圈(4a、4b)，与其相对地在靠外侧配置一对第一磁铁(11a、11b)。在透镜支架的另一个侧面的靠跟踪方向的外侧配置一对第二跟踪线圈(4c、4d)，与其相对地在靠中央配置一对第二磁铁(11c、11d)。第一跟踪线圈中产生的上下方向的电磁力(F)大于第二跟踪线圈中产生的上下线圈的电磁力(f)，电磁力(F)的作用中心与支承中心的距离(K)小于电磁力(f)的作用中心与支承中心的距离(k)。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种在聚焦方向和跟踪方向上对使光在光盘的记录面上聚光的物镜进行驱动的光拾取器，其特征在于，包括：透镜支架，其保持所述物镜，经由支承部件安装在固定部上；一对第一跟踪线圈，其配置在该透镜支架的与跟踪方向平行的一个侧面的靠跟踪方向的中央；一对第二跟踪线圈，其配置在所述透镜支架的与跟踪方向平行的另一个侧面的靠跟踪方向的外侧；一对第一磁铁，其与所述第一跟踪线圈相对地靠所述透镜支架的跟踪方向的外侧配置；和一对第二磁铁，其与所述第二跟踪线圈相对地靠所述透镜支架的跟踪方向的中央配置，将从所述物镜沿着其光轴去住所述光盘的方向作为上方向时，所述第一跟踪线圈中产生的上下方向的电磁力的作用中心与作为所述支承部件的刚性平衡中心的支承中心的距离K，小于所述第二跟踪线圈中产生的上下方向的电磁力的作用中心与所述支承中心的距离k，所述第一跟踪线圈中产生的上下方向的电磁力F大于所述第二跟踪线圈中产生的上下方向的电磁力f。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：山崎达也，木村胜彦，水野隆一郎，
申请(专利权)人：日立乐金光科技株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP