掩模板及光配向方法技术

本发明专利技术提供了一种光配向方法，包括以下步骤，提供上层面板与下层面板；提供掩模板以遮挡所述上层面板与所述下层面板，并设置所述掩膜板的透光区域；利用掩模板以第一入射方向发出紫外线曝光所述上层面板的上层配向膜与下层面板的下层配向膜；调整所述掩膜板的透光区域；利用掩模板以第二入射方向发出紫外线曝光所述上层面板的上层配向膜与下层面板的下层配向膜。本发明专利技术还公开一种掩膜板。本发明专利技术的掩模板只需一块掩模板进行次曝光就可以完成整个液晶显示装置中配向膜的制程，可有效减少曝光次数、简化制造过程。

【技术实现步骤摘要】
掩模板及光配向方法
本专利技术涉及液晶
，尤其涉及一种掩模板及采用该掩膜板对液晶显示装置进行配向的光配向方法。
技术介绍
液晶显示器制造过程中最为广泛运用的配向技术是磨刷配向(Rubbingalignment)法。磨刷配向法可以提供液晶分子较强的配向能力，但是在磨刷的过程中，由于利用绒布接触式的摩擦，因此会产生静电和颗粒(particle)的污染，而这些污染往往直接造成液晶元件的损坏。现有一种光配向法，利用线性偏极的紫外光照射在具有感光剂的高分子聚合物配向膜上，使得高分子聚合物具有配向能力。其优点为可避免玻璃基板表面的污染、可以进行小面积的配向、透过光罩可作图形的配向，利用入射光的角度与照射时间的长短，可以控制液晶单元的参数，如预倾角、表面定向强度等。但是通过光配向法在一个像素内的多个区域形成多个同配向方向域，从而提高液晶显示的侧可视度时。在制造过程中，需要设置多个光罩，并相应采用不同方向的入射光进行多次照射配向，制造过程繁琐，制造成本较高。
技术实现思路
提供一种掩模板及采用该掩膜板对液晶显示装置进行配向的光配向方法。一种光配向方法，包括以下步骤，提供上层面板与下层面板；提供掩模本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光配向方法，其特征在于，包括以下步骤，提供上层面板与下层面板；提供掩模板以遮挡所述上层面板与所述下层面板，并设置所述掩膜板的透光区域；利用掩模板以第一入射方向发出紫外线曝光所述上层面板的上层配向膜与下层面板的下层配向膜；调整所述掩膜板的透光区域；利用掩模板以第二入射方向发出紫外线曝光所述上层面板的上层配向膜与下层面板的下层配向膜。

【技术特征摘要】
1.一种光配向方法，其特征在于，包括以下步骤，提供上层面板与下层面板，将所述下层面板的高灰阶子像素分为相邻且沿像素长边排布的第一高灰阶子像素区域与第二高灰阶子像素区域；将所述下层面板的低灰阶子像素分为相邻且沿像素长边排布的第一低灰阶子像素区域与第二低灰阶子像素区域；将所述上层面板的高灰阶子像素分为相邻且沿像素短边排布的第一高灰阶子像素区域与第二高灰阶子像素区域；将所述上层面板的低灰阶子像素分为相邻且沿像素短边排布的第一低灰阶子像素区域与第二低灰阶子像素区域；将所述上层面板与下层面板相互垂直设置；提供掩模板以遮挡所述上层面板与所述下层面板，并设置所述掩膜板的透光区域，所述掩模板的第一透光区域开启并对应所述下层面板的第一高灰阶子像素区域设置；所述掩模板的第一挡板遮挡所述掩模板的第一开口的第二透光区域；所述掩模板的第三透光区域开启并对应所述下层面板的第一低灰阶子像素区域设置；所述掩模板的第二挡板遮挡所述掩模板的第二开口的第四透光区域；所述掩模板的第五透光区域开启并对应所述上层面板的第一高灰阶子像素区域设置；所述掩模板的第三挡板遮挡所述掩模板的第三开口的第六透光区域；所述掩模板的第七透光区域开启并对应所述上层面板的第一低灰阶子像素区域设置；所述掩模板的第四挡板遮挡所述掩模板的第四开口的第八透光区域；利用掩模板以第一入射方向发出紫外线同时曝光所述上层面板的上层配向膜与下层面板的下层配向膜；调整所述掩膜板的透光区域；利用掩模板以第二入射方向发出紫外线同时曝光所述上层面板的上层配向膜与下层面板的下层配向膜。2.如权利要求1所述的光配向方法，其特征在于，当利用掩模板以第一入射方向发出紫外线曝光所述上层面板的上层配向膜与下层面板的下层配向膜时，紫外线以第一入射方向通过掩模板的第一透光区域、第三透光区域入射至所述下层面板；紫外线以第一入射方向通过掩模板的第五透光区域、第七透光区域入射...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙杰，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44