一种光学元件亚表面缺陷检测方法及检测系统技术方案
【技术实现步骤摘要】
一种光学元件亚表面缺陷检测方法及检测系统
本专利技术涉及光程延时技术、光子纳米喷射技术、光学相干层析成像技术和光学元件亚表面缺陷检测技术，尤其是涉及一种快速、高分辨的光学元件亚表面缺陷检测方法及检测系统。
技术介绍
随着高能量、高功率激光系统和高分辨、高对比度空间光学成像系统的不断发展，光学元件的制造正朝着超精密、超光滑加工方向发展，既要提高光学元件的面型精度，降低光学元件的表面粗糙度，又要消除或减少光学元件亚表面缺陷。目前，检测光学元件亚表面损伤的方法主要分有损检测和无损检测。常用的有损检测技术包括截面显微法、角度抛光法、逐层抛光刻蚀法、球锪孔法、锥体锪孔法、磁流变抛光斑点技术、恒定化学刻蚀速率法等。这些方法的实质是通过物理或化学方法暴露不同深度损伤的横切面或横截面，结合光学显微镜、扫描近场显微镜，电子显微镜等获取亚表面缺陷的显微结构信息。这些检测方法尽管是最为直接、有效的，而且被光学加工行业普遍采用，但是依然存在测量效率偏低，测量信息不全面，有损测量造成试件破坏或失效引入的加工成本增加，引入新的亚表面损伤导致测量误差等明显缺陷。无损检测技术主要利用表面粗糙度、...
【技术保护点】
一种光学元件亚表面缺陷检测方法，其特征在于，包括以下步骤：1)光纤耦合器对输入的宽带光源进行分路；2)一路低相干光输入参考臂，被零光程参考面反射，形成参考光；3)另一路低相干光输入样品臂，进行光程延时处理，通过光纤探头阵列形成具有不同光程延时量的空间多点并行照明，照射在样品的被检测区域上，并接收该区域反射和后向散射的信号光；4)所述信号光和参考光经光纤耦合进行相干迭加并形成光谱信息；5)通过样品或光纤探头阵列的移动获取被检测区域的二维或三维光谱信息；6)根据二维或三维光谱信息重构被检测区域的高分辨图像，显示缺陷的形状和分布。
【技术特征摘要】
1.一种光学元件亚表面缺陷检测方法，其特征在于，包括以下步骤：1)光纤耦合器对输入的宽带光源进行分路；2)一路低相干光输入参考臂，被零光程参考面反射，形成参考光；3)另一路低相干光输入样品臂，进行光程延时处理，通过光纤探头阵列形成具有不同光程延时量的空间多点并行照明，照射在样品的被检测区域上，并接收该区域反射和后向散射的信号光，所述光程延时处理为：改变光纤耦合器样品臂输出端与各光纤探头间的自由空间距离，实现各光纤探头接收的检测信息相对零光程参考面具有不同的光程延时量；4)所述信号光和参考光经光纤耦合进行相干迭加并形成光谱信息；5)通过样品或光纤探头阵列的移动获取被检测区域的二维或三维光谱信息；6)根据二维或三维光谱信息重构被检测区域的高分辨图像，显示缺陷的形状和分布。2.根据权利要求1所述的光学元件亚表面缺陷检测方法，其特征在于，所述步骤3)中，空间多点并行照明为横向尺寸处于衍射极限...
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