当前位置: 首页 > 专利查询>卓向东专利>正文

大磁块挤压两个内凹式挤压小磁块的磁悬浮结构制造技术

技术编号:11401321 阅读:73 留言:0更新日期:2015-05-03 17:14
本发明专利技术的压两个内凹小磁块受大磁块挤压的磁悬浮结构,其中两个充磁方向全部水平相对的大磁块,磁极相对,挤压两个充磁方向水平相对小磁块,小磁块的一个侧面凹陷于大磁块的侧面。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
压两个内凹小磁块受大磁块挤压的磁悬浮结构,其特征是:两个充磁方向全部水平相对的大磁块,磁极相对,挤压两个充磁方向水平相对小磁块,小磁块的一个侧面凹陷于大磁块的侧面。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:不公告发明人
申请(专利权)人:卓向东
类型:发明
国别省市:江苏;32

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1