【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
一种用于在真空处理过程中使用的组件，所述组件包括：过程室，所述过程室定位有材料蒸发源、溅射源或等离子体源的形式的至少一个过程部件；以及用于被处理的对象的接纳位置，所述组件还包括：用于监视和/或控制所述过程室内的真空处理过程的气体分析装置，所述气体分析装置包括用于基于小型质谱仪或小型等离子体源设计来分析气体的测量装置，所述测量装置包括用于被分析的气体的接纳区域，在所述接纳区域中，气体能够被调节以允许对气体的分析；以及用于安装所述气体分析装置使得所述接纳区域与完全在所述过程室内的过程部件相邻的安装装置。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：马蒂纳斯·奥德罗尼斯，
申请(专利权)人：诺瓦工厂有限公司，
类型：发明
国别省市：立陶宛;LT
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