清洁装置、清洁方法及成像装置制造方法及图纸

确定单元31确定通过使用成像光学系统21由成像单元22生成的成像的图像中的异物的图像区域。设置单元32基于确定结果来设置被喷射到异物的空气的压力、喷射时间、喷射方向、通过组合以上各项获得的喷射模式等等。异物去除处理单元33基于所述设置单元32的设置由空气喷射调整单元331来调整空气喷射，并且从空气喷射单元332向成像光学系统21喷射，从而去除附着到成像光学系统21上的异物。根据异物的附着条件来喷射空气，从而可以最优地去除附着到成像光学系统的异物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种清洁装置，包括：确定单元，配置来确定附着到成像光学系统上的异物的附着条件；设置单元，配置来基于所述确定单元的确定结果来设置异物去除操作；以及异物去除处理单元，配置来基于所述设置单元的设置来执行所述异物去除操作。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：大场英史，纪平彻，
申请(专利权)人：索尼公司，
类型：发明
国别省市：日本;JP