微机电显示单元及其制作方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种微机电显示单元及其制作方法、显示装置，该微机电显示单元包括第一电极、可发生形变的第二电极以及所述第一电极与所述第二电极之间的支撑结构，所述支撑结构包括与所述第二电极相接触的顶面、与第一电极相接触的底面以及与所述顶面和所述底面均相交的侧面，其中，所述顶面在所述底面的投影位于所述底面内，且所述侧面为斜坡状。本发明专利技术通过将两电极之间的支撑结构的侧面制作为斜坡状，在微机电显示单元呈暗态时，第二电极也可与支撑结构相紧贴，从而减小两电极之间的间隙，进而改善由于“关”态时两电极之间的间隙造成的漏光现象。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示领域，尤其涉及一种微机电显示单元及其制作方法、显示装置。
技术介绍
目前，微机电开关(MEMS：Micro-Electro-Mechanical Systems)技术受到广泛关注，微机电是将微电子技术与机械工程融合到一起的一种工业技术，它的操作范围在微米范围内。传统的微机电开关结构如图1所示，主要由基板3’、第一电极4’、支撑结构2’、第二电极1’以及两电极之间的空腔构成，其中，第一电极4’具有光吸收率，可吸收部分可见光，第二电极1’为可发生形变的反射层，根据2D＝Nλ可知(D为空腔的长度，λ为入射光的波长)，当入射光穿透第一电极进入空腔中时，入射光所有光谱中只有符合上面公式的波长的光才能产生建设性干涉而输出，此时人眼才能观测到光线，即当前为“开“态(如图1所示)，而当对第一电极4’施加一电压，第二电极1’发生形变与第一电极4’接触，此时D的长度可以为零，此时入射的可见光要么被吸收要么被反射，或者透过的为非可见光，此时人眼r>不能观测到光线，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种微机电显示单元，包括第一电极、可发生形变的第二电极以及所述第一电极与所述第二电极之间的支撑结构，其特征在于，所述支撑结构包括与所述第二电极相接触的顶面、与第一电极相接触的底面以及与所述顶面和所述底面均相交的侧面，其中，所述顶面在所述底面的投影位于所述底面内，且所述侧面为斜坡状。

【技术特征摘要】
1.一种微机电显示单元，包括第一电极、可发生形变的第二电极
以及所述第一电极与所述第二电极之间的支撑结构，其特征在于，所
述支撑结构包括与所述第二电极相接触的顶面、与第一电极相接触的
底面以及与所述顶面和所述底面均相交的侧面，其中，所述顶面在所
述底面的投影位于所述底面内，且所述侧面为斜坡状。
2.根据权利要求1所述的微机电显示单元，其特征在于，所述支
撑结构为不透明结构。
3.根据权利要求1所述的微机电显示单元，其特征在于，所述侧
面为平面。
4.根据权利要求1-3任一所述的微机电显示单元，其特征在于，
所述侧面与所述底面间的夹角为30度～50度。
5.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-4任一所述的
微机电显示单元。
6.一种微机电显示单元的制作方法，其特征在于，包括：
在基板上制作第一电极；
在所述第一电极上制作支撑结构，所述支撑结构包括与第一电极
相接触的底面、与所述底面相对的顶面以及与所述顶面和所述底面均
相交的侧面，所述顶面在所述底面的投影位于所述底面内，且所述侧
面...

【专利技术属性】
技术研发人员：李田生，谢振宇，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11