【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种光学系统,其主要但非专门用于在等离子体处理过程中易损坏的真空系统。但是,本专利技术更普遍地适用于一些物理、化学处理过程或其它处理过程(包括涉及带电粒子和中性粒子及光子(尤其是X射线)的真空处理过程),在这种处理过程中,处理过程产生的碎屑可能撞击窗体,而这种窗体的透光性很重要。在本专利技术的背景下,”光”包括紫外和红外波长以及可见光波长,并且对”光学”和”透明”等术语应做相应的解释。
技术介绍
通常,在这些情况下,当窗体变得太脏时,需要更换窗体,或者综合使用窗体更换、旋转和气帘。在美国专利US7501145中,在脉冲激光沉积(PLD)过程中,在处理室内监测穿过窗体射入的激光功率,以调节碰撞在透明度变得越来越差的窗体上的激光能量,从而向待溅射处理的靶材提供相同的能量。这种方式的一个缺点是,最终的窗体透射能量损失过多,无法补偿。在沉积速率较高的系统中,这会以更快的速度发生。在WO/2005/0075700和US4784491中,使用 ...
【技术保护点】
一种用于向处理区域透射光和/或从处理区域反射光的自清洁光学系统,该系统包括液池和能够绕非竖直轴线持续转动的透射或反射光学部件,所述光学部件的下部持续转动穿过液池,从而当所述光学部件从液池中出来时,在该光学部件上会残留液体覆层,该液体覆层在所述光学部件的至少一部分处形成基本均匀的薄膜,光透过该薄膜,或者从该薄膜反射。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.06.14 IE S2012/02771.一种用于向处理区域透射光和/或从处理区域反射光的自清洁光学系
统,该系统包括液池和能够绕非竖直轴线持续转动的透射或反射光学部件,
所述光学部件的下部持续转动穿过液池,从而当所述光学部件从液池中出来
时,在该光学部件上会残留液体覆层,该液体覆层在所述光学部件的至少一
部分处形成基本均匀的薄膜,光透过该薄膜,或者从该薄膜反射。
2.如权利要求1所述的光学系统,其中,所述光学部件容纳于真空外
罩中,真空外罩具有开口,该开口与真空室中的配合开口之间能够以真空密
封的方式连接,处理过程在真空室中发生,其中,真空外罩的外壁具有透明
窗体,光在其光路上穿过该窗体到达具有所述基本均匀的薄膜的所述光学部
件的所述一部分,或从所述光学部件的所述一部分传来并透过该窗体。
3.如权利要求1所述的光学系统,其中,所述光学部件形成真空外罩
的外壁,真空外罩具有开口,该开口与真空室中的配合开口之间能够以真空
密封的方式连接,处理过程在真空室中发生。
4.如权利要求1所述的光学系统,其中,所述光学部件是圆形对称的,
并且旋转轴线穿过该光学部件的对称中心。
5.如权利要求4所述的光学系统,其中,所述光学部件的中心安装到
转轴上,该转轴使所述光学部件旋转。
6.如权利要求1所述的光学系统,其中,所述光学部件通过该光学部
件的边缘被转动。
7.如权利要求1...
【专利技术属性】
技术研发人员:F奥赖利,K费伊,P谢里登,
申请(专利权)人:都柏林大学,爱尔兰都柏林国立大学,
类型:发明
国别省市:爱尔兰;IE
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