光学膜的制造方法技术

本发明专利技术的目的在于制造局部膜厚变化了的缺陷少的光学膜。在本发明专利技术的光学膜的制造方法中，从挠性支承体的卷绕体(2)将具备制膜面(11)和背面(12)的长条状的支承体(1)退卷，向下游侧连续地运送，将支承体(1)的背面(12)清洗后，在支承体(1)的制膜面(11)上涂布树脂溶液并干燥。在支承体的背面与清洗辊(41)之间供给清洗液，利用清洗辊将清洗液涂布展开在支承体上，由此清洗支承体背面。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学膜的制造方法。详细而言，本专利技术涉及通过溶液制膜法将缺陷少的高品质的光学膜制膜的方法。
技术介绍
高分子膜具有优异的透光性、柔软性且能轻质薄膜化，作为图像显示装置形成用的光学膜(例如，相位差板、偏振片、偏振片保护膜等)而广泛使用。作为高分子膜的制造方法之一，有溶液制膜法(溶剂流延法)。在溶液制膜法中，将在溶剂中使聚合物溶解后的树脂溶液(涂料)涂布在支承体上后，通过加热等将溶剂除去。通过溶液制膜法制膜的膜的膜厚、光学特性的均匀性优异，因此在光学膜的制膜中广泛使用溶液制膜法。在溶液制膜中，存在使用包含不锈钢等金属的环形带、传动辊等无端支承体的方法；使用长条的塑料膜等有端支承体的方法。在无端支承体上制膜时，从支承体剥离涂布后的膜(网)后，进行干燥、拉伸等加工。膜的厚度小时(例如40μm以下时)，存在从支承体剥离后的膜的自支承性低、操作变困难的倾向。因此，无端支承体不适合膜厚小的膜的制膜。另一方面，在塑料膜等有端支承体上制膜时，能在使网密合于支承体上的状态下进行干燥、拉伸等工序。因此，即使是膜厚小而缺乏自支承性的膜，若使用有端支承体，则不会产生操作性的问题，也能够容易地进行拉伸等后加工(例如，专利文献1和专利文献2)。在使用无端支承体、有端支承体的任一个时，都发现了下述问题：在支承体上附着的异物等在制膜时混入膜内，成为光学缺陷。为了防止附着于支承体的异物混入，提出了在溶液制膜前，或在溶液制膜中除去支承体上的异物的方法。作为异物除去方法，已知使用超声波空气的方法(例如专利文献3)、喷吹清洗气体的方法(例如专利文献4)，水洗支承体的方法(例如专利文献5)、与粘合辊接触的方法(例如专利文献6)等。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2009-93074号公报专利文献2：日本特开2007-331368号公报专利文献3：日本特开平10-309553号公报专利文献4：日本特开2009-066982号公报专利文献5：日本特开2007-105662号公报专利文献6：日本特开平9-304621号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题近年来，在显示器不断普及的同时，对光学膜的要求性能也在变高。同时，对显示器的轻质化、薄型化的要求也变高，逐渐使用膜厚比以往小的光学膜。根据本专利技术人的研究，若在树脂膜等的有端支承体上通过溶液制膜法将膜制膜，则有时产生点状的干涉不均这样的缺陷(以下，有时称为“点状不均”)，膜的膜厚越小，则越存在点状不均的发生变显著的倾向。在发生点状不均的部分的膜的膜厚局部变小，推定其是附着于涂布辊的异物带来的影响。因此，本专利技术人为了除去附着于涂布辊的异物，通过使异物除去用刀片(刮刀)与涂布辊接触来进行辊表面的清扫，同时进行利用溶液涂布的制膜，尝试了点状不均的减少。但是，在清扫辊表面的方法中，无法明确地确认点状不均的减少效果。鉴于这样的课题，本专利技术的目的在于，在向支承体上的利用溶液制膜的光学膜的制膜中，减少局部膜厚变小的“点状不均”缺陷的发生，得到高品质的光学膜。解决课题的手段鉴于上述而研究，结果发现：在将支承体抽出后直至涂布涂料之间，对支承体的制膜面和相反侧的面(背面)进行在线清洗，由此点状不均减少。进一步研究的结果是发现，通过利用清洗液使支承体的背面与辊接触同时进行湿式清洗，由此点状不均大幅减少，从而完成了本专利技术。本专利技术涉及光学膜的制造方法。在本专利技术的光学膜的制造方法中，从挠性支承体的卷绕体将长条状的支承体退卷，向下游侧连续地运送(抽出工序)。支承体具有作为制膜面的第一主面和作为制膜面的背面的第二主面。在本专利技术的制造方法中，将支承体的第二主面清洗(清洗工序)，其后，在支承体的第一主面上涂布树脂溶液并干燥(制膜工序)，得到光学膜。在清洗工序中，在支承体的背面与清洗辊之间供给清洗液，利用清洗辊将清洗液涂布展开在支承体上，由此进行清洗。清洗辊优选在表面具有凹凸图案，其中，优选使用凹凸图案的凸部与辊的圆周方向非平行地延伸存在的清洗辊。认为：像这样，在本专利技术中，通过隔着清洗液使清洗辊与支承体的背面接触来进行湿式清洗，由此附着于支承体的背面的异物被除去，点状不均减少。作为在本专利技术中使用的清洗辊的例子，可举出凹版辊、线棒辊等。另外，作为清洗液，优选使用沸点比水低的高挥发性液体。专利技术效果根据本专利技术的制造方法，能得到膜的膜厚局部变小的“点状不均”缺陷的发生被抑制的高品质的光学膜。一般而言，在支承体上制膜的膜的厚度越小，则越易发生点状不均，特别是在膜厚为40μm以下时存在该影响变严重的倾向。与此相对，根据本专利技术的制造方法，即使在支承体上制膜后的膜的干燥后的膜厚为40μm以下时，也能减少点状不均的发生。附图说明图1是表示光学膜制膜装置的一个实施方式的示意图。图2是用于说明凹版辊的表面形状的示意俯视图。图3A是用于说明线棒辊的表面形状的示意俯视图。图3B是图3A的线棒辊的B1-B2线的剖面图。具体实施方式图1是表示本专利技术的光学膜的制造中使用的制膜装置的一个实施方式的示意图。在图1所示的制膜装置100中，长条状的支承体的卷绕体2设置于抽出部10。从卷绕体2退卷的支承体1从抽出部10向制膜装置的下游侧连续地运送，经过导辊51、52、53，向设置于导辊53的下游侧的清洗部40运送(抽出工序)。在清洗部40，清洗支承体1的背面(清洗工序)。将清洗后的支承体1进一步向下游侧运送，经过导辊54，向制膜部60运送，进行制膜(制膜工序)。[支承体]支承体1只要具有挠性即可，优选使用机械强度、热稳定性、阻水性、各向同性等优异的支承体。支承体具有第一主面、第二主面，在第一主面上将光学膜制膜。以下，在本说明书中，将第一主面称为“制膜面”，将作为其相反侧的面的第二主面称为“背面”。作为支承体，使用例如树脂膜、金属箔、纸、布和它们的层叠体等。其中，由于表面平滑性优异且来自支承体本身的异物的产生少，因此优选使用树脂膜。作为构成支承体膜的树脂材料，可举出聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯类；二乙酰纤维素、三乙酰纤维素等纤维素系聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物；聚苯乙烯、丙烯腈-苯乙烯共聚物等苯乙烯系聚合物；聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物等聚烯烃；聚降冰片烯等环状聚烯烃；尼龙、芳香族聚酰胺等酰胺系聚合物；聚碳酸酯；氯本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学膜的制造方法，其具有：抽出工序，从挠性支承体的卷绕体将具备第一主面和第二主面的长条状的支承体退卷，并向下游侧连续地运送；清洗工序，将所述支承体的第二主面清洗；和制膜工序，在所述支承体的第一主面上涂布树脂溶液并干燥，在所述清洗工序中，在所述支承体的第二主面与清洗辊之间供给清洗液，利用所述清洗辊将所述清洗液涂布展开在支承体上，由此进行所述支承体的清洗。

【技术特征摘要】
2013.09.04 JP 2013-1829991.一种光学膜的制造方法，其具有：
抽出工序，从挠性支承体的卷绕体将具备第一主面和第二主面的长条
状的支承体退卷，并向下游侧连续地运送；
清洗工序，将所述支承体的第二主面清洗；和
制膜工序，在所述支承体的第一主面上涂布树脂溶液并干燥，
在所述清洗工序中，在所述支承体的第二主面与清洗辊之间供给清洗
液，利用所述清洗辊将所述清洗液涂布展开在支承体上，由此进行所述支
承体的清洗。...

【专利技术属性】
技术研发人员：铃木畅，森拓也，林大辅，村冈敦史，村上奈穗，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP