空间任意位置抛物面天线的拟合方法技术

空间任意位置抛物面天线的拟合方法，涉及大型射电望远镜、大型雷达等抛物面天线的拟合技术领域，首先，确定待拟合抛物面的两个特征点，即顶点和焦点，并以这两个特征点为参考点、以一定边长创建正方体，以正方体顶点构造一系列的辅助特征点；然后以顶点周围的辅助特征点和焦点周围的特征点构造假定的理想抛物面，计算测量点相对于假定理想抛物面的距离极差；通过比较、判定和重新设定特征点来逐步逼近理想特征点，实现被测抛物面的最小区域拟合，得到被测抛物面的方程、位置和姿态。本发明专利技术的拟合方法可以实现精确、稳定空间任意位置抛物面天线的最小区域评价和拟合。

【技术实现步骤摘要】
空间任意位置抛物面天线的拟合方法
本专利技术涉及大型射电望远镜、大型雷达等抛物面天线的拟合技术，具体涉及一种空间任意位置抛物面天线的拟合方法。
技术介绍
空间抛物面主要应用在抛物面天线中，尤其在大型抛物面天线中应用较多，比如：大型射电望远镜、大型雷达天线等军事信息装备中。在抛物面天线加工生产过程中直接影响其电性能优劣的主要原因就是——面形误差，即实际加工生产抛物面形状与设计抛物面形状之间的误差。目前，较多的是对加工后的天线表面数据采用做最小二乘法进行二次曲面拟合，即找出一个与变形后抛物面法向距离最小的抛物面作为最佳拟合抛物面，从而进行误差评定。这种对一般二次曲面方程进行简化实现抛物面拟合的方法不能实现误差和转角比较大的抛物面的精确拟合。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种基于几何优化搜索逼近的空间任意位置抛物面天线的最小区域拟合方法，以实现被测抛物面的最小区域拟合，解决现有的拟合方法不能实现误差和转角比较大的抛物面的精确拟合问题。为实现上述目的，本专利技术的技术方案为：空间任意位置抛物面天线的拟合方法，包括如下步骤：（1）、对抛物面上所有测量点坐标求平均值，得到被拟合抛物面的初始参本文档来自技高网...

【技术保护点】
空间任意位置抛物面天线的拟合方法，其特征在于：包括如下步骤：（1）、对抛物面上所有测量点坐标求平均值，得到被拟合抛物面的初始参考焦点，在接近抛物面顶点的位置任选一个测量点作为初始参考顶点；（2）、以步骤（1）的初始参考焦点和初始参考顶点所在的直线为抛物面的对称轴，经坐标变换使初始参考顶点和所述的对称轴分别与测量坐标系的坐标原点和坐标轴重合，然后计算各个测量点到以初始参考顶点和初始参考焦点构造的抛物面的法向距离，得到最大距离与最小距离之差，即为极差值；（3）、分别以步骤（1）的初始参考焦点和初始参考顶点为中心基准点，以为边长设置两个正方体以构造辅助点，将两个正方体的顶点作为辅助点，则得到8个辅助...

【技术特征摘要】
1.空间任意位置抛物面天线的拟合方法，其特征在于：包括如下步骤：（1）、对抛物面上所有测量点坐标求平均值，得到被拟合抛物面的初始参考焦点，在接近抛物面顶点的位置任选一个测量点作为初始参考顶点；（2）、以步骤（1）的初始参考焦点和初始参考顶点所在的直线为抛物面的对称轴，经坐标变换使初始参考顶点和所述的对称轴分别与测量坐标系的坐标原点和坐标轴重合，然后计算各个测量点到以初始参考顶点和初始参考焦点构造的抛物面的法向距离，得到最大距离与最小距离之差，即为极差值；（3）、分别以步骤（1）的初始参考焦点和初始参考顶点为中心基准点，以为边长设置两个正方体以构造辅助点，将两个正方体的顶点作为辅助点，则得到8个辅助焦点和8个辅助顶点，进而可构造出64...

【专利技术属性】
技术研发人员：雷贤卿，涂鲜萍，王海洋，崔静伟，
申请(专利权)人：河南科技大学，
类型：发明
国别省市：河南;41