校正用掩模及校正方法技术

本发明专利技术提供一种校正用掩模及校正方法，能够容易地测定调整曝光装置的曝光位置的图像传感器的分辨率。本发明专利技术的校正用掩模及校正方法中，使光透过具有掩模部、玻璃面部和遮蔽线组的校正用掩模，接受除所述遮蔽线组外的透过的光，并从接受的光的上方转换图像信息，然后根据所述图像信息测定分辨率信息，其中，所述掩模部具有用于取得图像的图像取得窗，所述玻璃面部位于所述掩模部的下方侧，并由利用粘合层粘合在所述图像取得窗附近的玻璃材料构成，所述遮蔽线组为分别设置在所述图像取得窗及所述玻璃面部上的由遮蔽材料构成的遮蔽线。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术提供一种，能够容易地测定调整曝光装置的曝光位置的图像传感器的分辨率。本专利技术的中，使光透过具有掩模部、玻璃面部和遮蔽线组的校正用掩模，接受除所述遮蔽线组外的透过的光，并从接受的光的上方转换图像信息，然后根据所述图像信息测定分辨率信息，其中，所述掩模部具有用于取得图像的图像取得窗，所述玻璃面部位于所述掩模部的下方侧，并由利用粘合层粘合在所述图像取得窗附近的玻璃材料构成，所述遮蔽线组为分别设置在所述图像取得窗及所述玻璃面部上的由遮蔽材料构成的遮蔽线。【专利说明】
本专利技术涉及一种，尤其是涉及一种用于测定在曝光装置的曝光位置控制中使用的图像传感器的分辨率的。
技术介绍
现有技术中公知有如下所述液晶显示装置的滤色片等基板的曝光装置，在使曝光用掩模接近该基板的状态下，一边使该基板和掩模相对地在一定方向上不断移动，一边利用曝光位置调整单元在与移动方向成直角的方向上对基板和曝光掩模的曝光位置进行调整，并对上述曝光掩模照射曝光光线，将曝光图案转印曝光在基板上，在该曝光用掩模上具有使上述基板正确曝光的曝光图案。 另外，在专利文献I中公开一种曝光装置，在该曝光装置中，所述曝光位置调整单元利用由多个受光元件构成的图像传感器(例如，线CCD (Charge Coupled Device ImageSensor)相机)，对预先形成在基板上的黑底(black matrix)等作为基准的已有图案,和掩模上的基准图案同时进行图像辨别，并对检测出的掩模上的基准图案相对于该已有图案的距离的偏离进行修正控制。 专利文献1:日本再公表专利W02007/113933号公报 上述曝光装置中，因线CXDdine (XD)相机的分辨率，对所述修正的精度有所影响。该线CCD相机的分辨率除了因安装在CCD相机的受光元件上的聚光透镜的倍率以外，也会因所述掩模及所述基板和线CCD相机之间所成的角度，产生以下(参照图6(B))误差。 图6是用于说明从上方观察校正用掩模部35的图像传感器部25的位置和校正用掩模部35的特定部分的位置关系的示意图，例如图6(A)所示，校正用掩模部35以图像传感器部25为基准，设置平行遮蔽线的情况下，能够正确测定分辨率。参照图6 (A)进行说明，并能够通过式(I)计算出分辨率信息。 分辨率=d/(P2_Pl)…式(I) 然而，如图6(B)所示，校正用掩模部35以图像传感器部25为基准，以所规定的角度Θ倾斜设置的情况下，虽然可如式(2)那样计算出分辨率信息，但由于不能够测定角度Θ，从而不能够计算出正确的分辨率信息。例如，产生如式(3)中所求得的分辨率误差。 分辨率=d/(P4_P3)…式(2) 分辨率误差=(d-1)Xcos θ/(P4-P3)…式(3) 另一方面，线CCD相机的所述激光透镜的倍率虽然能够事先确认，但所述掩模及所述基板和线CCD相机之间所形成的角度很难实际测量，而需要事先进行确认线CCD相机的分辨率的操作，从而需要进行将曝光用掩模和基板安置在实际的曝光装置上的准备操作。然而，由于基板呈现大型化，曝光掩模配列为多个，线CCD独立对应各曝光掩模的每一个，因此使所述操作繁杂。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术的目的在于提供一种，能够容易测定所述曝光装置中进行曝光位置调整的图像传感器分辨率的校正用掩模，以及使用该校正用掩模的对曝光装置中所述图像传感器的分辨率进行测定的校正方法。 本专利技术的校正用掩模具有:掩模部，其具有用于取得图像的图像取得窗；玻璃面部，其位于所述掩模部的下方侧，并由通过粘合层粘合在所述图像取得窗附近的玻璃材料构成；遮蔽线组，其在所述图像取得窗及所述玻璃面部上分别设置由遮蔽材料构成的遮蔽线。 “校正”是指，对调整曝光装置的曝光位置用的图像传感器的分辨率相关的信息进行的校正。 本专利技术的校正用掩模，优选，在所述遮蔽线组中，使以横向截断所述图像取得窗的方式配置在所述玻璃面部上的、由遮蔽材料构成的至少两个以上的遮蔽线，和以横向截断所述图像取得窗的方式配置在所述掩模部的下方侧的表面的、由遮蔽材料构成的至少两个以上的遮蔽线分别平行设置。本专利技术的校正用掩模，优选，在掩模部的表面上具有多个对准 O 本专利技术的校正用掩模，优选，当配置在所述玻璃面部上的遮蔽线的数量为3个以上时，所述遮蔽线等间隔配置。本专利技术的校正用掩模，优选，当配置在所述掩模部的下方侧的表面上的遮蔽线的数量为3个以上时，所述遮蔽线等间隔配置。 本专利技术的校正方法，用于测定曝光装置的分辨率，所述校正方法是包括如下步骤，使光透过校正用掩模，其中该校正用掩模包括:具有用于取得图像的图像取得窗的掩模部，位于所述掩模部的下方侧，并由通过粘合层粘合在所述图像取得窗附近的玻璃材料构成的玻璃面部，和在所述图像取得窗及所述玻璃面部上分别设置由遮蔽材料构成的遮蔽线的遮蔽线组；接受从除所述遮蔽线组以外的部分透过的光，并根据所接受的光的信息转换为图像信息；根据所述图像信息测定分辨率信息。 根据本专利技术的，不使用作为被曝光对象的基板，能够容易地测定与多个曝光用掩模相对应的独立的图像传感器的分辨率。根据本专利技术的，通过后述的具有多焦点功能的图像传感器经由图像取得窗，对掩模部、玻璃面部和遮蔽线组进行拍摄，由此，各遮蔽线组在图像传感器的多个受光元件上成像，因此，能够从该图像正确地测定后述的图像传感器的分辨率，其中，掩模部具有用于取得图像的图像取得窗，所述玻璃面部位于所述掩模部的下方侧，并由利用粘合层粘合在所述图像取得窗附近的玻璃材料构成，所述遮蔽线组为分别设置在所述图像取得窗及所述玻璃面部上的由遮蔽材料构成的遮蔽线。 【专利附图】【附图说明】 图1是用于说明本专利技术实施方式的校正用掩模部的使用方法的曝光装置100结构的说明用图。 图2是用于说明本专利技术的实施方式的校正用掩模部的结构的图。 图3是本专利技术的实施方式的掩模部35的图像取得窗的放大图。 图4是表示本专利技术的实施方式的掩模部35和玻璃面部40之间关系的图。 图5是详细表不本专利技术的实施方式掩模部35和玻璃面部40之间的结构的图。 图6是表示本专利技术的实施方式的从掩模部35上方观察的图像传感器部25的位置和掩模部35的特定部分的位置关系的图。 图7是表不本专利技术的实施方式的从掩模部35上方观察的对准标志75及掩模部35的特定部分的位置关系的图。 图8是表示本专利技术的实施方式的从掩模部35上方观察的图像传感器部25和掩模部35的特定部分的位置关系的图。 图9是表示本专利技术的实施方式的通过图像传感器部25取得的图像信息的例子的图。 图10是用于说明本专利技术的实施方式的在测量图像传感器部25的分辨率后将校正用掩模部更换为曝光用掩模，并进行曝光的曝光装置200结构的图。 图11是表示本专利技术的实施方式的曝光用掩模部37和基板5的结构的示意图。 图12是用于说明本专利技术实施方式的图像传感器部25的两焦点功能的图。 符号说明 5 基板 10基板搬送部 20图像检测光源部 21遮光部 22曝光窗 23图像取得窗 25图像传感器部 25a光调整板 35掩模部 37掩模部 40玻璃面部 45a?45g遮蔽线 46 遮蔽线 47a?47c遮蔽线 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种校正用掩模，用于曝光装置，其特征在于，具有：掩模部，其具有用于取得图像的图像取得窗；玻璃面部，其位于所述掩模部的下方侧，并由通过粘合层粘合在所述图像取得窗附近的玻璃材料构成；遮蔽线组，其在所述图像取得窗及所述玻璃面部上分别设置由遮蔽材料构成的遮蔽线。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：野村义昭，松本隆德，竹下琢郎，
申请(专利权)人：株式会社V技术，
类型：发明
国别省市：日本;JP