足跟缓冲垫制造技术

本实用新型专利技术提供了一种足跟缓冲垫，包括：足底垫体、足侧护墙体、缓冲带；足侧护墙体由足底垫体的边缘向上延伸形成；足底垫体的上表面与足侧护墙体的内侧面平滑连接且构成一整体的足跟接触面；足底垫体的下表面向下延伸出网格状分布的多条第一凸起边条；第一凸起边条所围成的空隙内设置有由足底垫体的下表面向下延伸出的第二凸起边条；第二凸起边条侧面的端部连接至第一凸起边条；第一凸起边条上设置有穿孔，缓冲带由足底垫体的一侧延伸出，穿过多个穿孔后，延伸至足底垫体的另一侧；缓冲带具有宽度和厚度。本实用新型专利技术结构合理，为人体足跟提供了多级缓冲，并且提供该多级缓冲的部件结构自身具有较大的强度，适合于穿着于袜子或者鞋内。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术提供了一种足跟缓冲垫，包括：足底垫体、足侧护墙体、缓冲带；足侧护墙体由足底垫体的边缘向上延伸形成；足底垫体的上表面与足侧护墙体的内侧面平滑连接且构成一整体的足跟接触面；足底垫体的下表面向下延伸出网格状分布的多条第一凸起边条；第一凸起边条所围成的空隙内设置有由足底垫体的下表面向下延伸出的第二凸起边条；第二凸起边条侧面的端部连接至第一凸起边条；第一凸起边条上设置有穿孔，缓冲带由足底垫体的一侧延伸出，穿过多个穿孔后，延伸至足底垫体的另一侧；缓冲带具有宽度和厚度。本技术结构合理，为人体足跟提供了多级缓冲，并且提供该多级缓冲的部件结构自身具有较大的强度，适合于穿着于袜子或者鞋内。【专利说明】足跟缓冲垫
本技术涉及足跟支撑物，具体地，涉及足跟缓冲垫。
技术介绍
足跟在人体行走或者站立过程中会承受较大的压力，尤其是在激烈跑步或跳跃时足跟反复承受压力易积累疲劳，导致酸痛或者组织的损伤。现有技术中的足跟垫存在不能提供合理的缓冲的不足之处。
技术实现思路
针对现有技术中的缺陷，本技术的目的是提供一种足跟缓冲垫。 根据本技术提供的一种足跟缓冲垫，包括:足底垫体、足侧护墙体 足侧护墙体由足底垫体的边缘向上延伸形成； 足底垫体的上表面与足侧护墙体的内侧面平滑连接且构成一整体的足跟接触面； 足底垫体的下表面向下延伸出网格状分布的多条第一凸起边条； 第一凸起边条所围成的空隙内设置有由足底垫体的下表面向下延伸出的第二凸起边条； 第二凸起边条侧面的端部连接至第一凸起边条。 优选地，还包括缓冲带； 第一凸起边条上设置有穿孔，缓冲带由足底垫体的一侧延伸出，穿过多个穿孔后，延伸至足底垫体的另一侧； 缓冲带具有宽度和厚度。 优选地，所述多条第一凸起边条所形成的网格为方格，方格内形成方形空隙； 在方形空隙内，设置有两条相互垂直且横截面呈十字形的相连的第二凸起边条； 第一凸起边条构成方格的依次连接的侧壁a、侧壁b、侧壁C、侧壁d这四个侧壁；侧壁a、侧壁b、侧壁C、侧壁d的中央区域上均设置有穿孔； 相邻的侧壁的穿孔穿有同一条缓冲带； 多条缓冲带呈网格状分布。 优选地，第二凸起边条底面的端部位于缓冲带的上侧，且当足底垫体受力向下凸出时，第二凸起边条底面的端部能够紧抵架在缓冲带的上表面。 优选地，足侧护墙体包括两个具有最大高度的斜后侧顶点A、斜后侧顶点B，位于斜后侧顶点A与斜后侧顶点B之间的足侧护墙体的顶面边缘呈弧形下凹形成凹陷处； 由斜后侧顶点A以及斜后侧顶点B向前，足侧护墙体的高度逐渐降低且一直延伸到足底垫体的前缘； 足侧护墙体高于所述凹陷处最低点之上的部分包括护墙内侧高部、护墙外侧高部这两个部分，护墙内侧高部与护墙外侧高部之间相互内倾。 优选地，由斜后侧顶点A以及斜后侧顶点B向前，足侧护墙体的高度以固定的曲率逐渐降低且一直延伸到足底垫体的前缘。 优选地，足侧护墙体靠近足底垫体前缘处的部分略向外倾形成喇叭口。 优选地，侧壁上设置有相连通的且均贯穿侧壁厚度的倒V字形槽和弧形槽，倒V字形槽槽壁的顶部与弧形槽的槽口相连接； 侧壁上还设置有贯穿侧壁厚度的缓冲通孔，倒V字形槽的两侧分别设置有缓冲通孔，缓冲通孔沿与倒V字形槽槽壁平行的方向延伸。 优选地，第一凸起边条延伸至足侧护墙体的外侧面。 与现有技术相比，本技术具有如下的有益效果: 本技术结构合理，为人体足跟提供了多级缓冲，并且提供该多级缓冲的部件结构自身具有较大的强度，适合于穿着于袜子或者鞋内。 【专利附图】【附图说明】 通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本技术的其它特征、目的和优点将会变得更明显: 图1为本技术提供的足跟缓冲垫的立体结构示意图； 图2为本技术提供的足跟缓冲垫的足底垫体的下表面的结构示意图； 图3为图2中第一凸起边条所形成网格结构中一个网格单元的具体结构示意图； 图4为侧壁的结构示意图。 图中: I为足底垫体； 8为方形空隙； 15为凹陷处； 2为足侧护墙体；9为侧壁a ；16为足底垫体的前缘； 3为缓冲带；10为侧壁b;17为护墙内侧高部； 4为第一凸起边条；11为侧壁c ;18为护墙外侧高部； 5为空隙；12为侧壁d;19为倒V字形槽； 6为第二凸起边条；13为斜后侧顶点A ； 20为弧形槽； 7为穿孔；14为斜后侧顶点B ； 21为缓冲通孔。 【具体实施方式】 下面结合具体实施例对本技术进行详细说明。以下实施例将有助于本领域的技术人员进一步理解本技术，但不以任何形式限制本技术。应当指出的是，对本领域的普通技术人员来说，在不脱离本技术构思的前提下，还可以做出若干变形和改进。这些都属于本技术的保护范围。 如图1所示，根据本技术提供的足跟缓冲垫，包括:足底垫体、足侧护墙体，足底垫体、足侧护墙体优选地均采用弹性材料制成； 足侧护墙体由足底垫体的边缘向上延伸形成，以贴合并保护足部的左、右、后侧； 足底垫体的上表面与足侧护墙体的内侧面平滑连接且构成一整体的足跟接触面； 足侧护墙体包括两个具有最大高度的斜后侧顶点A、斜后侧顶点B,位于斜后侧顶点A与斜后侧顶点B之间的足侧护墙体的顶面边缘呈弧形下凹形成凹陷处，足侧护墙体高于所述凹陷处最低点之上的部分包括护墙内侧高部、护墙外侧高部这两个部分，护墙内侧高部与护墙外侧高部之间相互内倾，足侧护墙体靠近足底垫体前缘处的部分略向外倾形成喇叭口，以方便穿着并且对足部产生一定的夹紧作用； 由斜后侧顶点A以及斜后侧顶点B向前，足侧护墙体的高度逐渐降低且一直延伸到足底垫体的前缘，优选地，由斜后侧顶点A以及斜后侧顶点B向前，足侧护墙体的高度以固定的曲率逐渐降低且一直延伸到足底垫体的前缘。 如图2所示，足底垫体的下表面向下延伸出网格状分布的多条第一凸起边条；第一凸起边条具有厚度且采用弹性材料制成，优选地，第一凸起边条的弹性大于足底垫体的弹性，足底垫体的弹性大于足侧护墙体的弹性。 第一凸起边条所围成的空隙内设置有由足底垫体的下表面向下延伸出的第二凸起边条；第二凸起边条侧面的端部连接至第一凸起边条；第二凸起边条用于防止第一凸起边条过分拉伸导致撕裂，也起到防止第一凸起边条被过于向空隙中央挤压的作用。第一凸起边条延伸至足侧护墙体的外侧面。 如图3所示，足跟缓冲垫还包括缓冲带，缓冲带具有宽度和厚度；图3中为了清楚地体现缓冲带的走向，因此没有将缓冲带的宽度表现出。 第一凸起边条上设置有穿孔，缓冲带由足底垫体的一侧延伸出，穿过多个穿孔后，延伸至足底垫体的另一侧；部分或者全部缓冲带之间可以彼此独立或者相互连接，优选地，全部缓冲带为一整体网状结构以提供缓冲。 所述多条第一凸起边条所形成的网格为方格，方格内形成方形空隙；在方形空隙内，设置有两条相互垂直且横截面呈十字形的相连的第二凸起边条；第一凸起边条构成方格的依次连接的侧壁a、侧壁b、侧壁C、侧壁d这四个侧壁；侧壁a、侧壁b、侧壁C、侧壁d的中央区域上均设置有穿孔；相邻的侧壁的穿孔穿有同一条缓冲带；多条缓冲带呈网格状分布。 第二凸起边条底面的端部位于缓冲带的上侧，且当足底垫体受力向下凸出时，第二凸本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种足跟缓冲垫，其特征在于，包括：足底垫体、足侧护墙体；足侧护墙体由足底垫体的边缘向上延伸形成；足底垫体的上表面与足侧护墙体的内侧面平滑连接且构成一整体的足跟接触面；足底垫体的下表面向下延伸出网格状分布的多条第一凸起边条；第一凸起边条所围成的空隙内设置有由足底垫体的下表面向下延伸出的第二凸起边条；第二凸起边条侧面的端部连接至第一凸起边条。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：戴志杰，
申请(专利权)人：戴志杰，
类型：新型
国别省市：上海;31