曝光装置、曝光方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种曝光装置、曝光方法以及器件制造方法。在晶片载台(WST)在Y轴方向上直线移动的期间，由多点AF系统(90)检测在X轴方向以既定间隔设定的多个检测点的晶片(W)表面的面位置信息，由沿X轴方向排列成一列的多个对准系统(AL1、AL21～AL24)分别检测晶片上彼此不同位置的标记，由周边曝光系统(51)使晶片的缺照射的一部分曝光。据此，与无关系地进行标记检测动作、面位置信息(焦点信息)的检测动作、以及周边曝光动作的场合相比较，能提升生产率。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开一种以及器件制造方法。在晶片载台(WST)在Y轴方向上直线移动的期间，由多点AF系统(90)检测在X轴方向以既定间隔设定的多个检测点的晶片(W)表面的面位置信息，由沿X轴方向排列成一列的多个对准系统(AL1、AL21～AL24)分别检测晶片上彼此不同位置的标记，由周边曝光系统(51)使晶片的缺照射的一部分曝光。据此，与无关系地进行标记检测动作、面位置信息(焦点信息)的检测动作、以及周边曝光动作的场合相比较，能提升生产率。【专利说明】本专利技术是申请号为200880019589.2，申请日为2008年12月29日，专利技术名称为“曝光装置、移动体驱动系统、图案形成装置、以及曝光方法”的分案申请。
本专利技术关于曝光装置、移动体驱动系统、图案形成装置及曝光方法、以及器件制造方法，详言之，关于制造半导体元件、液晶显示元件等电子器件时在光刻工序中所使用的曝光装置，适合用于该曝光装置、使用编码器系统测量移动体位置的移动体驱动系统，具备该移动体驱动系统的图案形成装置，及在光刻工序中所使用的曝光方法，以及使用前述曝光装置或曝光方法的器件制造方法。
技术介绍
以往，在制造半导体元件(集成电路等)、液晶显示元件等电子器件(微型器件)的光刻工序中，主要使用步进重复方式的投影曝光装置(所谓步进机)、步进扫描方式的投影曝光装置(所谓扫描步进机(也称扫描机))等。 以此种曝光装置进行晶片的曝光时，会在晶片周边部产生不会被曝光的部分(即，无法用作为产品(芯片)的区域)。但该不被曝光的部分(区域)的存在，在用以将形成有图案的晶片表面进行平坦化而所使用的化学机械研磨(CMP)工序中是一问题。因此，先前也在晶片周边部中进行一种使从有效曝光区域突出一部分的照射(shot)区域(以下，称「周边照射」)中、无法用作为器件的部分曝光的周边曝光(例如，参照专利文献I)。 然而，在进行此种不同于使标线片图案转印形成至晶片上的曝光的周边曝光时，生产率会降低该周边曝光所需时间相当的量。 另一方面，作为提升生产率的手法，提出了各种双晶片载台型的曝光装置，在双晶片载台型的曝光装置中，设置多台用以保持晶片的晶片载台，例如设置2台，采用使用该2个晶片载台同时并行处理不同动作的处理手法。最近，也提出了采用了液浸曝光法的双晶片载台型的曝光装置(例如，参照专利文献2)。 可是，器件规则(实用最小线宽)日渐微细化，随此，曝光装置被要求更高精度的重迭性能。因此，预计晶片对准的主流的增强型全晶片对准(EGA)的取样照射数也将进一步增加，即使是双晶片载台型的曝光装置也有生产率降低的担心。 又，步进机、扫描机等的曝光装置中，例如保持晶片的载台的位置测量，一般是使用激光干涉仪来进行的。然而，随着半导体元件的高集成化而使图案微细化，由此所要求的性能也日渐严格，时至今日，因激光干涉仪的光束路上的环境气氛的温度变化及/或温度梯度的影响所产生的空气波动造成的测量值短期变动渐渐无法忽视。 因此，最近受到注目的是比干涉仪不易受空气波动影响的高分辨率的编码器，而专利技术人等也提出了一种将该编码器用于晶片载台等的位置测量的曝光装置(例如，参照专利文献3等)。 然而，与上述专利文献3的实施形态中所记载的曝光装置同样地，在晶片载台上面设置标尺(光栅)的情形，由于编码器读头的数量多，因此其配置几乎无自由度、且布局(layout)非常困难。 日本特开2006- 278820号公报 美国专利第7，161，659号说明书 国际公开第2007/097379号小册子
技术实现思路
本专利技术第I观点的第I曝光装置，用曝光光束使物体曝光，其具备:移动体，保持该物体并沿着包含彼此正交的第I轴及第2轴的既定平面移动；测量系统，从进行该曝光的曝光位置在与该第I轴平行的方向离开而配置，进行对该物体的既定测量；以及周边曝光系统，在与该第I轴平行的方向与该测量系统分离而配置，使该物体周边的照射区域的至少一部分曝光。 据此，在保持物体的移动体沿与既定平面内的第I轴平行的方向移动期间，物体的周边照射区域的至少一部分被周边曝光系统曝光。如此，能与物体(移动体)从测量系统朝向曝光位置的移动、或物体(移动体)往其相反方向的移动(例如，移动体从曝光位置往物体更换位置的移动)并行地进行周边曝光，不同于独立进行周边曝光的情形，几乎不会使生产率降低。 本专利技术第2观点的第2曝光装置，用曝光光束使物体曝光，其具备:移动体，能保持物体并在包含彼此正交的第I轴及第2轴的既定平面内移动；以及周边曝光系统，设在进行该曝光的曝光位置、与在平行于该第I轴的方向与该曝光位置分离而配置的该物体的更换位置之间，使该物体上与进行该曝光的区域不同的周边区域的至少一部分曝光；与从该曝光位置及该更换位置的一方至另一方的该移动体的移动动作并行地，进行该周边区域的曝光动作的至少一部分。 根据此曝光装置，与前述移动体从曝光位置、及前述更换位置的一方往另一方的移动动作并行地，进行使用周边曝光系统的周边区域的曝光动作的至少一部分。因此，不同于独立进行周边曝光的情形，几乎不会使生产率降低。 本专利技术第3观点的第3曝光装置，用能量束使物体曝光以在该物体上形成图案，其具备:第I移动体，保持物体并在包含彼此正交的第I轴及第2轴的既定平面内移动；第2移动体，保持物体并在该平面内与该第I移动体独立地移动；标记检测系统，其具有关于与该第2轴平行的方向位置不同的多个检测区域，检测该第I及第2移动体上分别装载的该物体上的标记；以及控制装置，与对保持于该第I及第2移动体的一方的物体的曝光并行地，一边使该第I及第2移动体的另一方移动于与该第I轴平行的方向、一边由该标记检测系统检测该另一方移动体所保持的物体上的不同的多个标记并测量其位置信息。 据此，通过控制装置，与对第I及第2移动体的一方所保持的物体进行曝光并行地，一边将第I及第2移动体的另一方移动于与第I轴平行的方向、一边对该另一方的移动体所保持的物体上的不同的多个标记由标记检测系统加以检测并测量其位置信息。因此，能与一方移动体所保持的物体的曝光并行地，在另一方的移动体从标记检测系统的多个检测区域的附近位置(例如进行移动体所保持的物体的更换的位置附近)朝向曝光位置在第I轴方向上移动的期间，检测另一方移动体所保持的物体上的多个标记、例如所有标记的位置信息。其结果，能实现生产率的提升与重迭精度的提升。 本专利技术第4观点的第4曝光装置，用能量束使物体曝光以在该物体上形成图案，其具备:第I移动体，保持物体并在包含彼此正交的第I轴及第2轴的既定平面内移动；第2移动体，保持物体并在该平面内与该第I移动体独立地移动；平面马达，在该平面内驱动该第I及第2移动体；以及控制装置，控制该平面马达，并在该第I移动体所保持的物体的曝光结束时，使该第I移动体沿着位于进行该曝光的曝光位置的与该第2轴平行方向的一侧的第I返回路径，移动至进行该第I移动体上物体的更换的第I更换位置，且在该第2移动体所保持的物体的曝光结束时，使该第2移动体沿着位于该曝光位置的与该第2轴平行方向的另一侧的第2返回路径，移动至进行该第2移动体上物体的更换的第2更换位置。 此场合，第I更换位置与第2更换位置可以相同、也可以不同。 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光装置，通过投影光学系统与液体用能量束使物体曝光，其具备：分别保持物体的第1、第2移动体；局部液浸装置，包含在与上述第1、第2移动体对向配置的下面侧具有回收口的嘴单元，通过上述嘴单元将液体供应至上述投影光学系统下，且从通过上述供应的液体而形成于上述投影光学系统下的液浸区域通过上述回收口回收液体；底盘，其配置上述第1、第2移动体的表面配置成与上述投影光学系统的光轴正交且与包含彼此正交的第1、第2方向的既定平面大致平行；驱动系统，包含于上述底盘设有定子且于上述第1、第2移动体设有可动子的平面马达，将上述第1、第2移动体分别从通过上述投影光学系统与上述液浸区域的液体进行上述物体的曝光的曝光位置与进行分别保持于上述第1、第2移动体的物体的更换的更换位置的一方移动至另一方，上述更换位置在上述第1方向与上述曝光位置不同；测量系统，测量上述第1、第2移动体的位置信息；以及控制装置，根据以上述测量系统测量的位置信息控制上述平面马达对上述第1、第2移动体的驱动，以对与上述投影光学系统对向配置的上述第1、第2移动体中的一方使上述第1、第2移动体中的另一方接近的方式相对移动，且使已接近的上述第1、第2移动体相对上述嘴单元移动以取代上述一方移动体而成为上述另一方移动体与上述投影光学系统对向配置；通过已接近的上述第1、第2移动体相对上述嘴单元的移动，上述液浸区域一边被维持于上述投影光学系统下、一边从上述一方移动体移动至另一方移动体；上述第1移动体在上述第2方向从一侧被连接缆线，且上述第2移动体在上述第2方向从另一侧被连接缆线；上述控制装置，控制上述平面马达对上述第1、第2移动体的驱动，以使上述第1移动体与上述第2移动体通过彼此不同的返回路径从上述曝光位置移动至上述更换位置；上述第1移动体通过相对上述曝光位置位于上述第2方向的一侧的返回路径，上述第2移动体通过相对上述曝光位置位于上述第2方向的另一侧的返回路径。...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：柴崎祐一，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：日本;JP