一种适用于金属及非金属基材的高发射率高温陶瓷涂层制造技术

本发明专利技术涉及一种适用于金属及非金属基材的高发射率高温陶瓷涂层，涂层的成分包括氧化铈、氧化铝、Cr2O3、碳化硅、氧化铁、膨润土、可溶性硅酸盐。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术涉及一种适用于金属及非金属基材的高发射率高温陶瓷涂层，涂层的成分包括氧化铈、氧化铝、Cr2O3、碳化硅、氧化铁、膨润土、可溶性硅酸盐。【专利说明】一种适用于金属及非金属基材的高发射率高温陶瓷涂层
本专利技术涉及一种适用于金属及非金属基材的高发射率高温陶瓷涂层。
技术介绍
现有技术中，用于石油、石化、电力、冶金及建材等行业的工业锅炉和窑炉的高温 辐射金属基材受热面、向火侧表面的涂料存在的不足之处在于抗沾污结渣、耐高温腐蚀、耐 磨损能力较差，发射率较低。
技术实现思路
本专利技术的专利技术目的在于提供一种适用于金属及非金属基材的高发射率高温陶瓷 涂层，发射率高、抗沾污结渣、耐高温腐蚀、耐磨损能力强。 实现本专利技术目的技术方案： 一种适用于金属及非金属基材的高发射率高温陶瓷涂层，其特征在于：涂料的成分包 括氧化铈、氧化铝、Cr203、碳化硅、氧化铁、膨润土、可溶性硅酸盐。 涂层的成分还包括氧化镧、氧化镝。 涂层各成分所占的重量份数为，氧化铈15-20、氧化铝3-5、Cr20 3 5-10、碳化硅 15-20、氧化铁3-5、膨润土 15-20、可溶性硅酸盐40-50、氧化镧1-3、氧化镝1-3。 优选地，氧化错、氧化铺、Cr203、碳化娃、氧化铁、氧化镧、氧化镝、膨润土、可溶性 硅酸盐的粒度为100纳米-300纳米。 优选地，涂料各成分所占的重量份数为，氧化铈19、氧化铝4、Cr203 8、碳化硅17、 氧化铁4、膨润土 18、可溶性硅酸盐45、氧化镧2、氧化镝2。 优选地，金属粉选用三氧化二铁，可溶性硅酸盐选用硅酸铝。 本专利技术具有的有益效果： 本专利技术涂层成分中氧化铈与氧化铝复合，在较宽的波段内具有稳定的高发射率，具有 抗沾污结渣特性，同时，氧化铈等稀土氧化物有利于陶瓷相的紧密和与基材的结合。本专利技术 涂层成分中氧化镧、氧化镝保证涂层在高温状态下的光、电、磁特性稳定。 本专利技术涂层成分中的氧化铝、氧化铈、Cr203、碳化硅、氧化铁、氧化镧、氧化镝粒度 为100纳米-300纳米，采用纳米微粒子技术，改变了结合机理及表面力学特性，使涂层与基 材以机械、物理及化学的方式紧密结合，且涂层外表面具有更低的表面能，进一步提高抗沾 污结渣、耐高温腐蚀、耐磨损等综合特性。本专利技术涂层成分中采用多种无机粘结剂优化组 合，针对不同基材、应用环境，确保涂层浸湿性、促进相间反应、高温不粉化脱落。 本专利技术使用温度范围300-1800°C，具体性能指标如下： 【权利要求】1. 一种适用于金属及非金属基材的高发射率高温陶瓷涂层，其特征在于：涂料的成分 包括氧化铈、氧化铝、Cr 203、碳化硅、氧化铁、膨润土、可溶性硅酸盐。2. 根据权利要求1所述的适用于金属及非金属基材的高发射率高温陶瓷涂层，其特征 在于：涂层的成分还包括氧化镧、氧化镝。3. 根据权利要求2所述的适用于金属及非金属基材的高发射率高温陶瓷涂层，其特 征在于：涂层各成分所占的重量份数为，氧化铈15-20、氧化铝3-5、Cr 203 5-10、碳化硅 15-20、氧化铁3-5、膨润土 15-20、可溶性硅酸盐40-50、氧化镧1-3、氧化镝1-3。4. 根据权利要求3所述的适用于金属及非金属基材的高发射率高温陶瓷涂层，其特征 在于：氧化铝、氧化铈、Cr20 3、碳化硅、氧化铁、氧化镧、氧化镝、膨润土、可溶性硅酸盐的粒 度为100纳米-300纳米。5. 根据权利要求1至4任何一项所述的适用于金属及非金属基材的高发射率高温陶瓷 涂层，其特征在于：层料各成分所占的重量份数为，氧化铈19、氧化铝4、Cr 203 8、碳化硅17、 氧化铁4、膨润土 18、可溶性硅酸盐45、氧化镧2、氧化镝2。6. 根据权利要求1至4任何一项所述的适用于金属及非金属基材的高发射率高温陶瓷 涂层，其特征在于：金属粉选用三氧化二铁，可溶性硅酸盐选用硅酸铝。【文档编号】C04B35/16GK104108940SQ201310131435【公开日】2014年10月22日 申请日期:2013年4月17日 优先权日:2013年4月17日 【专利技术者】刘晓刚 申请人:哈尔滨华电金能电力技术有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种适用于金属及非金属基材的高发射率高温陶瓷涂层，其特征在于：涂料的成分包括氧化铈、氧化铝、Cr2O3 、碳化硅、氧化铁、膨润土、可溶性硅酸盐。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘晓刚，
申请(专利权)人：哈尔滨华电金能电力技术有限公司，
类型：发明
国别省市：黑龙江;23