偏光板的制造方法技术

本发明专利技术涉及偏光板的制造方法。根据本发明专利技术的实施方案的偏光板的制造方法包括：将包括树脂基材和形成在所述树脂基材的一侧上的聚乙烯醇系树脂层的层压体拉伸、染色，从而在所述树脂基材上制造偏光膜；在所述偏光膜的与所述树脂基材相对的一侧上层压第一保护膜；和剥离所述树脂基材，然后在所述偏光膜的已剥离所述树脂基材的一侧上层压第二保护膜。所述第一保护膜和第二保护膜中至少一个的层压通过含水量为10%以下的粘接剂来进行。

【技术实现步骤摘要】
专利技术背景 本申请根据35U. S. C. Sectionll9要求2013年3月19日提交的日本专利申请 2013-56412号的优先权，将其引入于此以作参考。
本专利技术涉及。
技术介绍
偏光膜设置于作为典型图像显示装置的液晶显示装置的液晶元件的两侧，该设置 可归因于所述装置的图像形成方式。例如，下述方法已提出一种偏光膜的制造方法（例如， 日本专利申请特开号2001-343521)。拉伸含有树脂基材和聚乙烯醇（PVA)系树脂层的层压 体，然后进行染色处理以使所述偏光膜可形成在所述树脂基材上。根据这种方法，形成厚度 小的偏光膜。因此，近年来由于该方法有助于使图像显示装置变薄，其已引起人们的注意。 顺便提及，该偏光膜与保护膜一起层压典型地用作偏光板。然而，存在下述情形： 采用通过使用树脂基材制造的偏光膜的偏光板的光学特性不足。
技术实现思路
根据本专利技术的实施方案，提供一种光学特性优良的。 根据本专利技术的实施方案的包括：将包括树脂基材和形成在树脂 基材的一侧上的聚乙烯醇系树脂层的层压体拉伸、染色，从而在树脂基材上制造偏光膜；在 所述偏光膜的与所述树脂基材相对的一侧上层压第一保护膜；和剥离树脂基材，然后在所 述偏光膜的已剥离所述树脂基材的一侧上层压第二保护膜。第一保护膜和第二保护膜中至 少一个的层压通过含水量为10%以下的粘接剂来进行。 在本专利技术的一个实施方案中，第一保护膜的层压通过水系粘接剂来进行。 根据本专利技术的另一实施方案的包括：将包括树脂基材和形成在 树脂基材的一侧上的聚乙烯醇系树脂层的层压体拉伸、染色，从而在树脂基材上制造偏光 膜；和剥离树脂基材，然后在所述偏光膜的已剥离所述树脂基材的一侧上层压保护膜。保护 膜的层压通过含水量为10%以下的粘接剂来进行。 在本专利技术的一个实施方案中，所述粘接剂包括活性能量射线固化型粘接剂。 根据本专利技术的另一方面，提供一种偏光板。所述偏光板通过如上所述的制造方法 获得。 【附图说明】 图1A至1C是各自示出本专利技术的的实例的示意图。 【具体实施方式】 在下文，描述本专利技术的优选的实施方案。然而，本专利技术不局限于这些实施方案。 本专利技术涉及一种，其包括将包括树脂基材和形成在树脂基材的 一侧上的聚乙烯醇系树脂层的层压体拉伸、染色，从而在树脂基材上制造偏光膜。在本专利技术 中，层压在偏光膜的一侧或两侧的保护膜中的至少一个通过含水量为10%以下的粘接剂来 层压。在一个实施方案中，本专利技术的包括：将包括树脂基材和形成在树脂 基材的一侧上的聚乙烯醇系树脂层的层压体拉伸、染色，从而在树脂基材上制造偏光膜；在 所述偏光膜的与所述树脂基材相对的一侧上层压第一保护膜；和剥离树脂基材，然后在所 述偏光膜的已剥离所述树脂基材的一侧上层压第二保护膜层（为了方便起见，以下简称 第一实施方案）。在另一实施方案中，本专利技术的包括：将包括树脂基材 和形成在树脂基材的一侧上的聚乙烯醇系树脂层的层压体拉伸、染色，从而在树脂基材上 制造偏光膜；和剥离树脂基材，然后在所述偏光膜的已剥离所述树脂基材的一侧上层压保 护膜（以下简称第二实施方案）。应注意，为了方便起见，第二实施方案中的保护膜有 时称为第二保护膜，因为从例如层压位置的观点，所述保护膜对应于第一实施方案中的 第二保护膜。如上所述，在本专利技术中，第一保护膜和第二保护膜中至少一个可通过含水量为 10%以下的粘接剂来层压。在下文将具体描述每个步骤。为简单起见，依次描述第一实施方 案的各个步骤，并且对于第二实施方案，只描述与第一实施方案的步骤不同的部分。 〈第一实施方案〉 A.偏光膜的制造步骤 A-1.层压体 图1A至1C是各自示出本专利技术的的实例的示意图。如图1A所 示，层压体10含有树脂基材11和聚乙烯醇系树脂层12。层压体10典型地通过在长条状树 脂基材11上形成聚乙烯醇系树脂层12来制造。任何合适的方法均可用作形成所述聚乙烯 醇系树脂层12的方法。聚乙烯醇系树脂（以下简称〃PVA系树脂〃）层12优选通过在树脂 基材11上施涂含有PVA系树脂的涂布液并干燥所述液体而形成。 作为树脂基材的形成材料，可使用任何合适的热塑性树脂。所述热塑性树脂的实 例包括：酯系树脂，如聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂；环烯烃系树脂，如降冰片烯系树脂； 烯烃系树脂，如聚丙烯；聚酰胺系树脂；聚碳酸酯系树脂；和它们的共聚物树脂。那些之中， 优选降冰片烯系树脂和无定形的聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂。 在一个实施方案中，优选使用无定形的（未结晶的）聚对苯二甲酸乙二醇酯系树 月旨。特别是，特别优选使用非晶的（难结晶化的）聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂。非晶的 聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂的具体实例包括另外含有间苯二酸作为二羧酸组分的共聚 物和另外含有环己烷二甲醇作为二醇组分的共聚物。 当在随后描述的拉伸处理中采用水中拉伸模式时，树脂基材可以吸水，水起到类 似于增塑剂的作用，如此可使所述基材增塑。结果，可显著地减小拉伸应力。因此，可在高 倍率下进行拉伸，树脂基材的可拉伸性可以比在空中拉伸时更优良。结果，可制造光学特性 优良的偏光板。在一个实施方案中，树脂基材的吸水率优选是0. 2%以上，更优选0. 3%以 上。同时，树脂基材的吸水率优选是3.0%以下，更优选1.0%以下。使用这样的树脂基材可 防止例如下述不便：树脂基材的尺寸稳定性在制造过程中显著降低，因而所获得的偏光膜 的外观劣化。此外，使用这样的树脂基材可防止水下拉伸过程中基材的断裂和PVA系树脂 层从树脂基材剥离。应注意，树脂基材的吸水率可通过例如将改性基团引入构成材料来调 整。吸水率是依照JIS K7209测定的值。 树脂基材的玻璃化转变温度（Tg)优选是170°C以下。使用这样的树脂基材可完全 确保层压体的可拉伸性，同时抑制PVA系树脂层的结晶。此外，考虑到水对树脂基材的增塑 和水下拉伸的良好性能，玻璃化转变温度更优选是120°C以下。在一个实施方案中，树脂基 材的玻璃化转变温度优选是60°C以上。使用这样的树脂基材防止不便如在含PVA系树脂的 涂布液的涂布和干燥过程中树脂基材的变形（例如，出现凹凸、松弛或褶皱），从而能够顺 利地制造层压体。此外，使用这样的树脂基材能够在适合的温度（例如，约60°C)下顺利地 拉伸PVA系树脂层。在另一实施方案中，允许小于60°C的玻璃化转变温度，只要树脂基材在 含PVA系树脂的涂布液的涂布和干燥过程中不变形。应注意，树脂基材的玻璃化转变温度 可通过例如将改性基团引入形成材料或加热由结晶材料构成的基材来调整。玻璃化转变温 度（Tg)是依照JIS K7121测定的值。 树脂基材拉伸之前的厚度优选是20 μ m至300 μ m，更优选50 μ m至200 μ m。当厚 度小于20 μ m时，可能难以形成PVA系树脂层。当厚度超过300 μ m时，例如在水下拉伸时， 树脂基材吸水可能需要很长时间，在拉伸时可能需要非常大的载荷。 任何合适的树脂均可用作形成PVA系树脂层的PVA系树脂。树脂的实例包括聚 乙烯醇和乙烯-乙烯醇共聚物。聚乙烯醇是通过使聚乙酸乙烯酯皂化获得的。乙烯-乙 烯醇共聚物是通过使乙烯-醋酸乙烯酯共本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种偏光板的制造方法，其包括：将包括树脂基材和形成在所述树脂基材的一侧上的聚乙烯醇系树脂层的层压体拉伸、染色，从而在所述树脂基材上制造偏光膜；在所述偏光膜的与所述树脂基材相对的一侧上层压第一保护膜；和剥离所述树脂基材，然后在所述偏光膜的已剥离所述树脂基材的一侧上层压第二保护膜；所述第一保护膜和所述第二保护膜中至少一个的层压通过含水量为10%以下的粘接剂来进行。

【技术特征摘要】
2013.03.19 JP 2013-0564121. 一种偏光板的制造方法，其包括： 将包括树脂基材和形成在所述树脂基材的一侧上的聚乙烯醇系树脂层的层压体拉伸、 染色，从而在所述树脂基材上制造偏光膜； 在所述偏光膜的与所述树脂基材相对的一侧上层压第一保护膜；和 剥离所述树脂基材，然后在所述偏光膜的已剥离所述树脂基材的一侧上层压第二保护 膜； 所述第一保护膜和所述第二保护膜中至少一个的层压通过含水量为10%以下的粘接 剂来进行。2. 根据权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员：后藤周作，齐藤武士，品川雅，中野勇树，宫武稔，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP