一种正交错位光纤光栅的刻写装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种正交错位光栅的刻写装置，其结构包括：紫外光源、准直聚焦透镜、掩模板、平面镜镜组、分光镜、电机控制系统组成，其中平面镜镜组由第一平面镜、第二平面镜和第三平面镜组成，电机控制系统主要由旋转电机和前进电机组成。本实用新型专利技术可以刻写短周期的布拉格型正交错位光纤光栅和长周期正交错位光纤光栅，利用刻写的正交错位光纤光栅能够产生涡旋光束和对光束的偏振控制。该实用新型专利技术的结构明晰，稳定性高，制作简单。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及刻写光纤光栅的
，特别涉及一种正交错位光纤光栅的刻写装置，采用掩模板法单面曝光刻写的正交错位光纤光栅。
技术介绍
涡旋光束的特性在于在光束横截面上相位具有空间非均匀分布，光束携带了一定的轨道角动量分布，其中心点位相具有奇异性。此光束在高数值孔径透镜聚焦下能产生特殊的场分布，在量子通信和微结构操控等领域有广泛应用。采用单面曝光技术将光纤刻写成正交错位型光栅，从而在光纤中激发出涡旋光束。随着光纤通信和光纤传感技术的快速发展,人们对全光纤型光波调制器件的功能及性能提出了更高要求,手征光纤光栅因其具有圆偏振选择特性而备受关注，采用单面曝光技术将光纤刻写成长周期正交错位型光栅，从而实现对光束的偏振控制。目前国内外报道涡旋光束的产生大都在自由空间中产生，即使利用特殊结构的光纤产生的涡旋光束，其特殊结构的制作对机械加工要求也较高，在一般情况下也难以实现，本刻写装置结构简单。并且刻写好后的光栅可以根据输入光的形式，有多种实现涡旋光的输出，灵活方便。r>
技术实现思路
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【技术保护点】
一种正交错位光纤光栅的刻写装置，其特征在于：包括：紫外光源(101)、第一准直聚焦透镜(102)、第二准直聚焦透镜(108)、第一掩模板(103)、第二掩模板(109)、分光镜(102)、平面镜组、电机控制系统，其中平面镜组包括第一平面反射镜(106)、第二平面反射镜(107)和第三平面镜(114)，电机控制系统包括旋转电机(110)跟前进电机(111)；紫外光源(101)产生的紫外光，经过分光镜(102)分为两束，一束直接通过第一准直聚焦透镜(103)后，后照射到掩模板(104)上，形成衍射能够产生±1级衍射，衍射光形成的干涉光对被刻写的光纤(105)进行曝光，另一束光经过平面镜组后经第二准...

【技术特征摘要】
1.一种正交错位光纤光栅的刻写装置，其特征在于：包括：紫外光源(101)、第一准
直聚焦透镜(102)、第二准直聚焦透镜(108)、第一掩模板(103)、第二掩模板(109)、
分光镜(102)、平面镜组、电机控制系统，其中平面镜组包括第一平面反射镜(106)、第二
平面反射镜(107)和第三平面镜(114)，电机控制系统包括旋转电机(110)跟前进电机(111)；
紫外光源(101)产生的紫外光，经过分光镜(102)分为两束，一束直接通过第一准直
聚焦透镜(103)后，后照射到掩模板(104)上，形成衍射能够产生±1级衍射，衍射光
形成的干涉光对被刻写的光纤(105)进行曝光，另一束光经过平面镜组后经第二准直聚焦
透镜(108)垂直照射到第二掩模板(109)上，后对光纤(105)在另一位置处进行曝光。
2.根据权利要求1所述的一种正交错位光纤光栅的刻写装置，其特征在于：紫外光源
(101)为氩离子激光器或准分子激光器。

【专利技术属性】
技术研发人员：张晓强，王安廷，许立新，顾春，
申请(专利权)人：中国科学技术大学，
类型：新型
国别省市：安徽;34