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本实用新型公开一种正交错位光栅的刻写装置，其结构包括：紫外光源、准直聚焦透镜、掩模板、平面镜镜组、分光镜、电机控制系统组成，其中平面镜镜组由第一平面镜、第二平面镜和第三平面镜组成，电机控制系统主要由旋转电机和前进电机组成。本实用新型可以刻写...
该专利属于中国科学技术大学所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学技术大学授权不得商用。

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