一种基板位置校准装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种基板位置校准装置，包括可升降式载台及其伺服电机、相对设于载台上方的阴影框及位于载台下方的支撑系统，所述支撑系统包括一水平支架和垂直设于支架上穿过载台的至少一个支撑杆，所述阴影框的下方固定有至少一对校准滚轮；所述载台为凸型的双层结构，上层载台的尺寸与基板一致，上下两层的宽度差均一且大于校准滚轮的直径。本实用新型专利技术所提供的基板位置校准装置能够在基板镀膜过程中对其进行自动位置校正，弥补了真空高温腔体中玻璃基板位置校正缺失的空白。

【技术实现步骤摘要】
一种基板位置校准装置
本技术涉及一种位置校准装置，特别涉及可改善基板成膜均匀性的位置校准 装直。
技术介绍
在TFT-IXD制造过程中，玻璃需要多次往返于各相对独立的生产设备之间，由机 械手完成对每张玻璃的传送转换，在这一过程中，由于误差原因和不同生产设备的差异所 在，致使每张玻璃在进入不同反应或传送单元时的位置都有差异，这就给产品造成工艺性 不良埋下隐患。尤其是玻璃基板在反应腔体镀膜的过程中，由于设备结构特点和工艺要求 提出沉积设计（Deposition design)这一概念，即膜层边缘与玻璃边缘的距离差，这一参 数对后续的掩膜及刻蚀都有决定性的影响。如果这一距离差过大或者四周的距离差偏差严 重，将直接影响边缘的面板成膜的均匀性，直接导致产品发生不良。 目前决定玻璃沉积设计的关键部件是成膜设备中的阴影框（Shadow frame)，它的 作用是在玻璃镀膜过程中其边缘与膜层边缘保持固定距离差，同时也防止玻璃边缘在高频 电压作用下发生尖端放电现象。目前这一空余量值在5-6_(膜层边缘到玻璃边缘）。 实际操作的问题在于，现有的阴影框只起到对玻璃的遮盖作用，是否能够让玻璃 四周的空余量都固定的决定因素完全取决于负责传送作用的机械手臂移动误差和玻璃自 身。这就使沉积设计要求完全处于被动，而且更为严重的是当玻璃位置偏移严重而导致阴 影框无法盖住玻璃时，就会导致电弧效应（Arcing)，使执行镀膜的玻璃和设备自身造成损 坏。 有鉴于此，特提出本技术。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种可用于基板传送过程中对其位置进行校准的装 置，该装置避免了真空高温腔体中基板位置校正缺失的现象。 为实现上述目的，本技术采用如下技术方案： -种基板位置校准装置，包括可升降式载台及其伺服电机、相对设于载台上方的 阴影框及位于载台下方的支撑系统，所述支撑系统包括一水平支架和垂直设于支架上且穿 过载台的至少一个支撑杆，所述阴影框的下方固定有至少一对校准滚轮；所述载台为凸型 的双层结构，上层载台的尺寸与基板一致，上下两层的宽度差均一且大于校准滚轮的直径。 其中，所述校准滚轮的个数为2?16个，成对均匀设置在阴影框四周。 本技术所述的位置校准装置，所述校准滚轮的直径与上层载台的厚度比为 0· 8-1. 2:1，优选 1:1。 其中，所述校准滚轮通过弹性结构固定至阴影框。 本技术所述的位置校准装置，所述校准滚轮为陶瓷校准滚轮。 本技术所述的位置校准装置，所述的支撑杆的数量为8-16个，优选12个。 本技术所述的位置校准装置，所述载台上设有供支撑杆穿过的T型凹槽，载 台上升至与支撑杆齐平后带动其继续上升至校准滚轮下方。 本技术所述的位置校准装置，所述阴影框遮盖基板边缘的宽度为2-4_。 本技术所述的位置校准装置，所述阴影框为与所述载台一同升降的活动结 构。 采用上述技术方案，本技术得到了一种全新结构的基板位置校准装置，该装 置结构简单，且能够准确快速地实现基板的位置校准，避免避免玻璃基板由于校正缺失导 致玻璃基板发生破碎或者出现工艺不良等情况。 【附图说明】 图1为本技术所述位置校准装置的侧视图及其相应的俯视图； 图2为支撑杆支撑基板的状态示意图； 图3为载台上升支撑基板的状态示意图； 图4为基板位置校准的状态示意图； 图5为位置校准前偏离的基板及校准装置的俯视图； 其中，1为载台；1-1为上层载台；1-2为下层载台；2为伺服电机；3为阴影框；4-1 为支架；4-2为支撑杆；5为校准滚轮；6为基板。 【具体实施方式】 本技术根据现有设备工作流程及结构特点设计出如图1所示的基板位置校 正装置。该装置能够在基板镀膜过程中对其进行自动位置校正，弥补了真空高温腔体中玻 璃基板位置校正缺失的空白。 本技术提供了一种基板位置校准装置，包括可升降式载台及其伺服电机、相 对设于载台上方的阴影框及位于载台下方的支撑系统，所述支撑系统包括一水平支架和垂 直设于支架上穿过载台的至少一个支撑杆，所述阴影框的下方固定有至少一对校准滚轮； 所述载台为凸型的双层结构，上层载台的尺寸与基板一致，上下两层的宽度差均一且大于 校准滚轮的直径。 其中，校准滚轮的使用个数、类型及分布位置不受限制，可由实际条件来调整（要 求必须成对设置以提供对基板的作用力实现位置校准），本技术中，优选所述校准滚轮 的个数为2?16个，成对均匀设置在阴影框四周的下方，优选至少为4个，分别设置在四个 角上，以实现更直接快速的位置校准效果。 本技术所述的位置校准装置，所述校准滚轮的直径与上层载台的厚度比为 0· 8-1. 2:1，优选 1 :1。 上述校准滚轮的直径直接决定阴影框与载台之间的缝隙大小，直径越大、缝隙越 大。 其中，所述校准滚轮通过弹性结构固定至阴影框。如阴影框下部的校准滚轮的固 定架可以安置具有弹簧等的弹性结构，以保证阴影框与载台相对位置偏离较严重时还能正 常发挥校正作用。 本技术所述的校准滚轮可采用绝缘、耐高温、耐磨的惰性材料制备而成，包括 但并不局限于陶瓷材料，此外还可以根据实际需要使用不同材料，优选陶瓷。 本技术中，校准滚轮还有另外的作用，即决定阴影框与载台的距离高度 (Gap)，该距离过大会导致等离子体（plasma)渗入玻璃基板边缘，导致玻璃出现镀膜颜色 异常，距离过小又会使阴影框将玻璃基板压碎，根据实际玻璃基板的厚度本技术将此 间隙（Gap)控制在0· 8-L 0mm范围内。 本技术所述的位置校准装置，所述的支撑杆的数量为8-16个，优选12个，均 匀对称设置于所要承载的基板对称轴的两边，以使基板的重量分散均匀，实现更好的支撑 效果，具体的位置设置为本领域技术人员所掌握。 本技术所述的位置校准装置，所述载台上设有供支撑杆穿过的T型凹槽，载 台上升至与支撑杆齐平后带动其继续上升至校准滚轮下方。 即本技术所述的支撑杆为可移动式，与载台保持相对运动，当载台上升到上 表面凹槽与T型支撑杆高度一致时就可以带动支撑杆一起上升。支撑杆的作用只是负责当 载台下降时将基板支起让基板与载台分离形成缝隙，方便机械手臂伸进缝隙对玻璃基板进 行取送。 此外，所述的支撑杆也可以为固定式，如其形状设计为等径的柱状体，载台可直接 上升至高度大于支撑杆，以实现对基板的支撑及后续的位置校准。 本技术所述的位置校准装置，所述阴影框遮盖基板边缘的宽度为2-4_。本实 用新型在降低了基板边缘发生电弧效应概率的同时可将膜层边缘与玻璃基板边缘的空余 量缩短到更小，保证了沉积设计（Deposition design)和基板边缘膜层的均勻性，有效的提 商了广品良率。 本技术所述的位置校准装置，所述阴影框为与可载台一同升降的活动结构， 也可根据实际需求将阴影框固定。 本技术中，被校正的承载物（基板）可以是多种类型，如玻璃基板、硅片等。 本技术所述位置自动校准装置不仅可用于某些特定工作环境（如高温真 空），还可用于普通条件下的设备本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板位置校准装置，包括可升降式载台及其伺服电机、相对设于载台上方的阴影框及位于载台下方的支撑系统，所述支撑系统包括一水平支架和垂直设于支架上且穿过载台的至少一个支撑杆，其特征在于：所述阴影框的下方固定有至少一对校准滚轮；所述载台为凸型的双层结构，上层载台的尺寸与基板一致，上下两层的宽度差均一且大于校准滚轮的直径。

【技术特征摘要】
1. 一种基板位置校准装置，包括可升降式载台及其伺服电机、相对设于载台上方的阴 影框及位于载台下方的支撑系统，所述支撑系统包括一水平支架和垂直设于支架上且穿过 载台的至少一个支撑杆，其特征在于：所述阴影框的下方固定有至少一对校准滚轮；所述 载台为凸型的双层结构，上层载台的尺寸与基板一致，上下两层的宽度差均一且大于校准 滚轮的直径。2. 根据权利要求1所述的位置校准装置，其特征在于：所述校准滚轮的个数为2?16 个，成对均匀设置在阴影框四周。3. 根据权利要求1所述的位置校准装置，其特征在于：所述校准滚轮的直径与上层载 台的厚度比为0.8-1. 2:1。4. 根据权利要求1所述的位置校准装置，其特征在于：所述校准滚轮通过弹...

【专利技术属性】
技术研发人员：艾青南，张贺攀，王超，孟健，
申请(专利权)人：北京京东方光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11