【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】一种，其中曝光装置，包括：基台；晶圆载物台组，晶圆载物台组包括若干晶圆载物台，若干晶圆载物台依次在基台上的第一位置和第二位置之间循环移动；对准检测单元，进行晶圆的对准；圆筒形掩模板系统，装载圆筒形掩膜板，并使所述圆筒形掩膜板绕中心轴旋转；光学投影单元，将透过圆筒形掩膜板的光投射到晶圆载物台上晶圆的曝光区；当晶圆载物台从第一位置移动到第二位置，然后沿扫描方向的单方向扫描时，圆筒形掩膜板绕中心轴旋转，透过圆筒形掩膜板的光投射到晶圆上，对晶圆上的沿扫描方向排列的某一列曝光区进行曝光。进行曝光时，晶圆载物台不需要改变扫描方向，从而节省了曝光时间，提高了曝光效率。【专利说明】[大步骤:更换载物台(81:886)上晶圆的步板上的图案转移到晶圆上的步骤。上述三丨勺步骤，因此现实生产中如何提高曝光装置量，出现了各种具有双载物台的曝光装置，作和曝光动作。3七叫6)的曝光装置的结构示意图，包括:第；准检测单元103，用于检测晶圆上对准标說掩模板108 ；光学投影单兀104，位于掩模:投射到第一载物台101或第二载物台102子掩模板载物台107上方，用于提供曝光光:物台101...
【技术保护点】
一种圆筒形掩模板系统，其特征在于，包括：基座，固定于基座一侧的轴柄；第一轴承和第二轴承，第一轴承位于轴柄上靠近基座一端，第二轴承位于轴柄上远离基座一端，所述第一轴承和第二轴承均包括轴承外圈、轴承内圈和位于轴承外圈和轴承内圈之间的滚动体，第一轴承和第二轴承的轴承内圈固定于轴柄上；圆筒形掩模板，所述圆筒形掩模板为中空的圆柱，所述圆筒形掩模板包括位于中间的图像区域和位于图像区域的两边的非图像区域，所述图像区域上具有掩模板对准标记，圆筒形掩模板套在第一轴承和第二轴承的轴承外圈上，圆筒形掩模板的非图像区域的内表面与第一轴承和第二轴承的轴承外圈相接触，当第一轴承和第二轴承绕轴柄旋转时，...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：伍强，刘畅，郝静安，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造上海有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31
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