X-射线成像空间分布不均匀性的校正方法技术

本发明专利技术公开了X-射线成像空间分布不均匀性的校正方法，首先使平板探测器在位置z1输出一个均匀的图像，然后使平板探测器在位置z2收到一帧强度不均匀分布图像，通过对这一帧强度不均匀分布图像用二次多项式函数进行拟合得到图像校正系数，这样将平板探测器移动到任何一个待矫正的位置z，通过二次多项式函数及图像校正系数即可得到位置z上的均匀图像。因而，就可以将X-射线所成的像的不均匀性进行修正，从而达到均匀成像的效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及X-射线成像方法。
技术介绍
通常我们的X-射线成像方法是将X-射线源产生的射线直接照射到被探测的物体、然后透射在探测器表面上而生成的像。如果不考虑量子噪声，理想状态是当一个X-射线源直接照射到远离射线源的平板探测器上时，X-射线强度在平板表面的分布是近似均匀的，因此平板探测器接受到该X-射线所成的像是从一个简单的点光源照射所成的像。但是，实际的X-射线成像，是将射线源放在距离平板探测器相对比较近的范围内，以保证有足够的射线强度穿透物体进行投影 成像。这时X-射线投影在平板探测器表面的强度分布就会不是均匀了。这种不均匀性由两方面造成的:一方面是在近距离情况下，由于平板探测器表面接收单元距离射线源不同所形成(射线强度与该距离平方成反比)；另一方面是由于X-射线强度本身随着射线离开焦点的角度变化而变化的，这称为Heel效应。Heel效应是由于靠近阳极这一侧的部分射线会被阳极靶材料所吸收，因此靠近阳极这一侧的射线强度要低于靠近阴极一侧的射线强度。例如，对于一个43cmX43cm的平板探测器放置于I米处(如图1所示)。阴极端的X射线相对强度是105%，而阳极端的X射线相对强度只有70%。两边的射线强度差35%。这些射线强度的不均匀性，对实际应用带来困扰。例如，X-射线所成的像就会出现图像亮暗不均匀。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题就是提供一种，将X-射线所成的像的不均匀性进行修正，从而达到均匀成像的效果。为解决上述技术问题，本专利技术采用如下技术方案:，至少包括如下步骤:将平板探测器放在位置Z1并正对X-射线源，调节平板探测器每一个像素单元的灵敏度，使得输出的信号形成一个均匀的图像；将平板探测器移动到位置Z2且仍然正对X-射线源，这时平板探测器就会收到一帧强度不均匀分布图像；将位置Z2上这一帧强度不均匀分布图像沿X、Y轴采集信号，并将该信号用二次多项式函数进行拟合得到图像校正系数；将平板探测器移动到任何一个待矫正的位置ζ，通过二次多项式函数及图像校正系数得到位置ζ上的均匀图像。优选的，位置Z1为平板探测器距离X-射线源足够远的位置zmax?L，这里L是平板的尺度，位置Z2为平板探测器所需成像最近的距离位置Zmin。进一步的，位置ζ上的均匀图像本文档来自技高网...

【技术保护点】
X‑射线成像空间分布不均匀性的校正方法，其特征在于至少包括如下步骤： 将平板探测器放在位置z1并正对X‑射线源，调节平板探测器每一个像素单元的灵敏度，使得输出的信号形成一个均匀的图像； 将平板探测器移动到位置z2且仍然正对X‑射线源，这时平板探测器就会收到一帧强度不均匀分布图像； 将位置z2上这一帧强度不均匀分布图像沿X、Y轴采集信号，并将该信号用二次多项式函数进行拟合得到图像校正系数； 将平板探测器移动到任何一个待矫正的位置z，通过二次多项式函数及图像校正系数得到位置z上的均匀图像。

【技术特征摘要】
1.X-射线成像空间分布不均匀性的校正方法，其特征在于至少包括如下步骤: 将平板探测器放在位置Z1并正对X-射线源，调节平板探测器每一个像素单元的灵敏度，使得输出的信号形成一个均匀的图像； 将平板探测器移动到位置Z2且仍然正对X-射线源，这时平板探测器就会收到一帧强度不均匀分布图像； 将位置Z2上这一帧强度不均匀分布图像沿x、y轴采集信号，并将该信号用二次多项式函数进行拟合得到图像校正系数； 将平板探测器移动到任何一个待矫正的位置Ζ，通过二次多项式函数及图像校正系数得到位置Z上的均匀图像。2.根据权利要求1所述的X-射线成像空间分布不均匀性的校正方法，其特征在于--位置Z1为平板探测器距离X-射线源足够远的位置zmax?L，这里L是平板的尺度，位置Z...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈建峰，
申请(专利权)人：浙江康源医疗器械有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33