一种用于激光印字机直接制版的胶印版材及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种用于激光印字机直接制版的胶印版材及其制备方法，该版材有两层结构，一层为基体层是改性胶片，另一层为图文接受固定层，是以专用涂料在基体层上一次涂布、一次成膜而获得。在大气中常压状态下采用电晕放电等离子体处理胶片，之后，涂布专用涂料成膜。此种版材可用于激光印字机直接制版，也可用复印机直接制版，印刷中不仅可用ＰＳ版润版液，而且可以仅用清水做润版液。耐印力可达１００００～１５０００印。（*该技术在2014年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及。目前绝大多数胶印机用的版材是PS版或氧化锌版，其制版工艺顺序分别如下氧化锌版为①用激光印字机出纸样，②拼版，③静电制版，④修版，⑤烤版，⑥出印版；PS版为①用激光印字机或激光照排机出阳图软片，②显影、定影，③拼版，④晒版，⑤显影、定影，⑥出印版；出印版后即可上印刷机挂版印刷。其共同缺点是工艺流程长，设备多，投资大。而直接印版是当代印刷领域的一个重要课题。日本专利JP-A-60181457、JP-A-61148097以及中国专利CN1062694A(申请号92100285·8)公开了这种版材及制备方法，但其方案均为三层结构具有支持体1，图像固定层2。(位于中间)，图像接受层3。就耐印力而言，即使三者中较高的中国专利也只有2000～5000印。本专利技术的目的是提供一种具有两层结构的用于激光印字机直接制版的胶印版材，即将计算机编辑好的图文，通过激光印字机直接印在该版上，即成为印版，直接上印刷机挂版印刷，从而大大缩短制版工艺，减少投资，而且具有高耐印力。本专利技术具体方案如下直接印版具有两层结构，一层为基体层，是经等离子体处理的聚酯胶片，另一层为图文接受固定层，是以一种专用涂料在基体层上一次涂布，一次成膜而获得的。聚酯胶片为市购70～100μ的原聚酯薄膜，具有耐高温，印刷中不变形的特点。本专利技术的制备工艺方法为在大气中常压状态下采用电晕放电等离子体处理聚酯片基，放电间隙电压为10～25千伏，等离子体电源频率为10～35千赫兹，处理时间4～10秒，聚酯胶片匀速通过等离子体区；然后，表面均匀涂布专用涂料，涂布量为100～200g/m2(湿基)，之后在130℃～150℃下干燥处理4～5分钟即得成品；专用涂料重量百分含量为二氧化钛8～9％，，聚乙烯醇4～6％，硫酸铬钾0.2～0.4％，聚羧酸盐0.4～0.6％，三羟甲基三聚氰胺0.6～0.8％，盐酸0.4～0.6％，水83～86％。经电晕等离子体改性处理的胶片，表面物理、化学结构及性能发生变化，表面活化能增加，使涂层能牢固地附着其上。本专利技术的优点在于图文接受固定层在基体层上附着牢固，具有极强的亲水、保水能力，并且不溶于水；用于激光印字机直接制版时，炭粉附着牢固，印刷中不脱落，图文再现好。只有两层结构，制备工艺简便；不仅可用于激光印字机直接制版，也可以用复印机直接制版；另具独道之处是印刷中不仅可用PS版润版液，而且可以仅用清水做润版液；同时制好的版可重复使用多次；可以与专用粘合剂配合而用于大胶印机；可用专用修版膏进行修版；耐印力可达10000～15000印。实施例聚酯胶片厚度80～90μ。在大气中常压状态下，采用电晕放电等离子体处理，条件如下表所示 上述三种处理后的聚酯胶片分别以如下表所列两种涂料、及工艺条件涂布处理 终产品均可用作激光印字机直接制版胶印版材，其耐印力均在10000～15000印。涂料所用原料均为市购产品。二氧化钛粒径小于30μ。权利要求1.一种用于激光印字机直接制版的胶印版材，具有两层结构，一层为基体层，一层为图文接受固定层，其特征在于基体层是经等离子体处理的聚酯胶片，图文接受固定层是以一种专用涂料在基体层上一次涂布、一次成膜获得的，此专用涂料由下列物质组成二氧化钛、聚乙烯醇、硫酸铬钾、聚羧酸盐、三羟甲基三聚氰胺、盐酸和水。2.一种制备权利要求1所述产品的方法，其特征在于在大气中常压状态下，采用电晕放电等离子体处理，放电间隙电压为10～25千伏，等离子体电源频率为10～35千赫兹，处理时间4～10秒，聚酯胶片匀速通过等离子体区，然后，表面均匀涂布专用涂料，涂布量为100～200g/m2(湿基)，之后在130℃～150℃下干燥处理4～5分钟，即得成品；专用涂料重量百分含量为二氧化钛8～9％，聚乙烯醇4～6％，硫酸铬钾0.2～0.4％，聚羧酸盐0.4～0.6％，三羟甲基三聚氰胺0.6～0.8％，盐酸0.4～0.6％，水83～86％。3.根据权利要求1或2所述的产品，其特征在于专用于激光印字机直接制版的胶印版材。全文摘要本专利技术涉及，该版材有两层结构，一层为基体层是改性胶片，另一层为图文接受固定层，是以专用涂料在基体层上一次涂布、一次成膜而获得。在大气中常压状态下采用电晕放电等离子体处理胶片，之后，涂布专用涂料成膜。此种版材可用于激光印字机直接制版，也可用复印机直接制版，印刷中不仅可用PS版润版液，而且可以仅用清水做润版液。耐印力可达10000～15000印。文档编号B41N1/00GK1133241SQ941169公开日1996年10月16日 申请日期1994年10月20日 优先权日1994年10月20日专利技术者葛袁静, 张广秋, 王东宝, 乔治山, 张迅, 向阳 申请人:北京印刷学院本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于激光印字机直接制版的胶印版材，具有两层结构，一层为基体层，一层为图文接受固定层，其特征在于：基体层是经等离子体处理的聚酯胶片，图文接受固定层是以一种专用涂料在基体层上一次涂布、一次成膜获得的，此专用涂料由下列物质组成：二氧化钛、聚乙烯醇、硫酸铬钾、聚羧酸盐、三羟甲基三聚氰胺、盐酸和水。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：葛袁静，张广秋，王东宝，乔治山，张迅，向阳，
申请(专利权)人：北京印刷学院，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]