一种光敏印面印章制造技术

本实用新型专利技术公开了一种光敏印面印章，包括章体和扣于其上的底盖，章体主要包括顶盖、手柄、定位连接件、调节件、弹簧、章体壳、中空轴芯、墨盒盖、墨盒及光敏垫，增加了一个设于所述章体壳与所述墨盒盖之间的锁垫圈，锁垫圈为内部中空的环、其内壁上部设有凹凸相间的环齿、下部设有台阶，台阶的内缘顶部设有环状突起；所述光敏垫侧壁中间设有与锁垫圈的台阶相咬合的凸台，凸台与侧壁相接触的部位设有与锁垫圈的环状突起相配的环状凹槽；所述墨盒盖下部外壁上设有与锁垫圈凹凸相间的环齿相配的齿；因此可减少封边或胶粘工艺，具有防止油墨渗漏及印垫松脱，并能够保持印迹清晰、有效降低光敏垫印章的制作成本的优点。（*该技术在2016年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种光敏印面印章，包括章体和扣于其上的底盖，章体主要包括顶盖、手柄、定位连接件、调节件、弹簧、章体壳、中空轴芯、墨盒盖、墨盒及光敏垫，墨盒盖装于章体壳内，其特征在于：增加了一个设于所述章体壳与所述墨盒盖之间的锁垫圈，锁垫圈为内部中空的环、其内壁上部设有凹凸相间的环齿、内壁下部设有台阶，台阶的内缘顶部设有环状突起；所述光敏垫侧壁中间部位设有与锁垫圈的台阶相咬合的凸台，凸台与其侧壁相接触的部位设有与锁垫圈的环状突起相配的环状凹槽；所述墨盒盖下部的外壁上设有与锁垫圈凹凸相间的环齿相配的齿；所述底盖为四周有壁且有底的圆筒。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：杨湛平，
申请(专利权)人：杨湛平，
类型：实用新型
国别省市：44[]