【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种用于真空低温条件下的超大面源黑体校准系统。本系统包括转接接口、折转光学系统、成像镜组、调焦镜组、红外面阵探测器、信号处理单元；待测面源黑体与所述折转光学系统位于同一真空舱内，所述成像镜组通过所述转接接口与所述真空舱连接；所述折转光学系统位于待测面源黑体之前，用于将待测面源黑体的红外光线反射入所述成像镜组输入端口，所述成像镜组输出光线经所述调焦镜组输入所述红外面阵探测器，其输出端经AD信号卡与所述信号处理单元连接。本专利技术能够实现真空低温条件下超大面源黑体校准的系统，填补了此项技术空白。【专利说明】 用于真空低温条件下的超大面源黑体校准系统
本专利技术属于红外辐射测量及校准
，涉及在真空低温条件下的超大面源黑体性能指标校准系统的设计。
技术介绍
目前，随着技术的发展，红外成像器的应用已经扩展至临近空间及外太空，这些系统包括空间侦察系统、临近空间预警系统、外太空红外导引打击系统、星载红外遥感系统等，这些空间应用的红外成像器在研制、生产、试验过程中，必须根据系统的工作环境，在地面真空低温环境中利用面源黑体对红外成像器进...
【技术保护点】
一种用于真空低温条件下的超大面源黑体校准系统，其特征在于包括转接接口、折转光学系统、成像镜组、调焦镜组、红外面阵探测器、信号处理单元；待测面源黑体与所述折转光学系统位于同一真空舱内，所述成像镜组通过所述转接接口与所述真空舱连接；所述折转光学系统位于待测面源黑体之前，用于将待测面源黑体的红外光线反射入所述成像镜组输入端口，所述成像镜组输出光线经所述调焦镜组输入所述红外面阵探测器，其输出端经AD信号卡与所述信号处理单元连接。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张玉国，魏建强，孙红胜，杨旺林，刘亚平，
申请(专利权)人：北京振兴计量测试研究所，
类型：发明
国别省市：北京;11
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