本发明专利技术提供了一种校准方法及其校准装置，校准方法包括以下步骤：查找校准点；对找到的校准点进行校准，所述的查找校准点的步骤包括：以一个固定频率间隔扫描测量信号，生成基准曲线；连接所述的基准曲线上的两点，生成校准直线；计算所述的基准曲线上的点到所述的校准直线的竖直距离与一个校准参数的大小关系；根据上述的大小关系，产生校准点。本发明专利技术所述的校准方法及其校准装置，不仅能够找到所有的超出指标点，保证仪器的测量指标，而且这种方法不用取过多的校准点，就能保证仪器指标，因此在保证同样的指标的前提下，会比现有技术使用较少的校准时间。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供了一种校准方法及其校准装置，校准方法包括以下步骤：查找校准点；对找到的校准点进行校准，所述的查找校准点的步骤包括：以一个固定频率间隔扫描测量信号，生成基准曲线；连接所述的基准曲线上的两点，生成校准直线；计算所述的基准曲线上的点到所述的校准直线的竖直距离与一个校准参数的大小关系；根据上述的大小关系，产生校准点。本专利技术所述的校准方法及其校准装置，不仅能够找到所有的超出指标点，保证仪器的测量指标，而且这种方法不用取过多的校准点，就能保证仪器指标，因此在保证同样的指标的前提下，会比现有技术使用较少的校准时间。【专利说明】校准方法及其校准装置
本专利技术涉及校准方法及其装置，特别涉及测量仪器的校准方法及其装置。
技术介绍
因为很多测量仪器的信号都会受到频率的影响，所以在相同的硬件配置下，不同频率就会得到不同的测量结果，为了保证仪器的测量指标，就需要在频率上进行校准。校准方法主要包括两个步骤，首先是查找校准点，然后是对找到的校准点进行校准，具体的校准方案根据校准项目而定。其中准确的查找校准点，对于校准的效果和速度都起到了关键的作用。现有技术中通常采用的查找校准点的方法是等间隔取点法，例如校准25M-6G频率范围内的AM调制功能，等间隔取点法就是从25M开始每隔50M取一个校准点，共取将近120个校准点，然后在这些校准点上分别进行校准。虽然对于这个频率范围，50M已经是较小的频率间隔了，但是在这50M的间隔内还是会存在超出指标的点，如图1所示，图中P1、P2是50M间隔的校准点，P3是超出指标的点。可见校准间隔取的无论有多小都有可能会遗漏掉超出指标的点，而如果没有对超出指标点进行校准，就不能很好的反应硬件特性，从而影响仪器的测量指标。
技术实现思路
为了解决现有技术中存在的问题，本专利技术提出了能够准确的找到校准点，不遗漏超出指标点的校准方法及其校准装置。本专利技术提供了一种校准方法，该方法包括以下步骤:查找校准点；对找到的校准点进行校准，所述的查找校准点的步骤包括:以一个固定频率间隔扫描测量信号，生成基准曲线；连接所述的基准曲线上的两点，生成校准直线；计算所述的基准曲线上的点到所述的校准直线的竖直距离与一个校准参数的大小关系；根据上述的大小关系，产生校准点。在本专利技术所述的校准方法中，所述的连接所述的基准曲线上的两点，生成校准直线，计算所述的基准曲线上的点到所述的校准直线的竖直距离与一个校准参数的大小关系的步骤还可以是指，连接所述的基准曲线的起点和终点，生成第一校准直线；按照从所述基准曲线的起点到终点的顺序，依次计算所述的基准曲线上的点到所述的第一校准直线的竖直距离与所述的校准参数的大小关系。在本专利技术所述的校准方法中，所述的根据所述的大小关系，产生校准点的步骤还可以包括，根据所述的大小关系，产生一个校准中间点；连接所述的校准中间点与所述基准曲线的终点，生成第二校准直线；按照从所述校准中间点到所述终点的顺序，依次计算所述的基准曲线上的点到所述的第二校准直线的竖直距离与所述的校准参数的大小关系。在本专利技术所述的校准方法中，所述的根据所述的大小关系，产生校准点的步骤还可以是指，当所述基准曲线在所述的校准中间点与所述的终点之间的点到该校准中间点对应的校准直线的竖直距离大于所述的校准参数时，判定基准曲线上的该点是一个新的校准中间点。在本专利技术所述的校准方法中，所述的根据所述的大小关系，产生校准点的步骤还可以是指，当所述基准曲线在所述的校准中间点与所述的终点之间的所有点到该校准中间点对应的校准直线的竖直距离都小于所述的校准参数时，判定该校准中间点是一个校准点。在本专利技术所述的校准方法中，所述的根据所述的大小关系，产生校准点的步骤还可以是指，将新找到的校准点作为所述基准曲线的终点。本专利技术还提供了一种校准装置，包括一个查找校准点模块，用于查找校准点；一个校准模块，用于对查找到的校准点进行校准，所述的查找校准点模块包括:一个基准曲线生成模块，用于以一个固定频率间隔扫描测量信号，生成基准曲线；一个校准直线生成模块，用于连接所述的基准曲线上的两点，生成校准直线；一个计算模块，用于计算所述的基准曲线上的点到所述的校准直线的竖直距离与一个校准参数的大小关系；一个校准点生成模块，用于根据上述的大小关系，产生校准点。在本专利技术所述的校准装置中，所述的校准直线生成模块，还可以用于连接所述的基准曲线的起点和终点，生成第一校准直线；所述的计算模块，还可以用于按照从所述基准曲线的起点到终点的顺序，依次计算所述的基准曲线上的点到所述的第一校准直线的竖直距离与所述的校准参数的大小关系。在本专利技术所述的校准装置中，所述的校准点生成模块，还可以用于根据所述的大小关系，产生一个校准中间点；所述的校准直线生成模块，还可以用于连接所述的校准中间点与所述终点，生成第二校准直线；所述的计算模块，还可以用于按照从所述校准中间点到所述终点的顺序，依次计算所述的基准曲线上的点到所述的第二校准直线的竖直距离与所述的校准参数的大小关系。在本专利技术所述的校准装置中，当所述基准曲线在所述的校准中间点与所述的终点之间的点到该校准中间点对应的校准直线的竖直距离大于所述的校准参数时，所述的校准点生成模块，还可以判定基准曲线上的该点是一个新的校准中间点。在本专利技术所述的校准装置中，当所述基准曲线在所述的校准中间点与所述的终点之间的所有点到该校准中间点对应的校准直线的竖直距离都小于所述的校准参数时，所述的校准点生成模块，还可以判定该校准中间点是一个校准点。在本专利技术所述的校准装置中，所述的校准点生成模块，还可以用于将新找到的校准点作为所述基准曲线的终点。本专利技术所述的校准方法及其校准装置，不仅能够找到所有的超出指标点，保证仪器的测量指标，而且这种方法不用取过多的校准点，就能保证仪器指标，因此在保证同样的指标的前提下，会比现有技术使用较少的校准时间。【专利附图】【附图说明】图1是现有技术的校准方法遗漏超出指标点的示意图。图2是本专利技术实施例中所述的校准方法的流程图。图3是本专利技术实施例中所述的查找校准点的方法的流程图。图4a_4f是本专利技术实施例中所述的查找校准点的实现过程的示意图。图5是本专利技术实施例中校准装置的示意图。图6是本专利技术实施例中查找校准点模块的示意图。【具体实施方式】下面结合附图介绍本专利技术的一较佳实施例。参考图2，为了解决现有技术中存在的问题，本专利技术提出了一种可以准确找到校准点，不遗漏超出指标点的校准方法，该方法包括以下步骤，201:查找校准点；202:对找到的校准点进行校准，参考图3，本专利技术的创新在于查找校准点的方法，该查找校准点方法的包括以下步骤:301:以一个固定频率间隔扫描测量信号，生成基准曲线；302:连接基准曲线上的两点，生成校准直线；303:计算基准曲线上的点到所述的校准直线的竖直距离与一个校准参数的大小关系;304:根据上述的大小关系，产生校准点。下面结合附图详细介绍上述每一步骤的具体实现方法。参考图4a，首先以一个固定的频率间隔扫描测量信号，生成一条基准曲线L，例如在射频信号源中，如果是校准幅度，则基准曲线L是幅度-频率曲线，如果是校准调制深度，则基准曲线是调制深度与频率的曲线。作为另外的举例说明，本专利技术还可以用于信号发生器、示波器、频谱仪等测量仪器，基准曲本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种校准方法，该方法包括以下步骤：查找校准点；对找到的校准点进行校准，其特征在于，所述的查找校准点的步骤包括：以一个固定频率间隔扫描测量信号，生成基准曲线；连接所述的基准曲线上的两点，生成校准直线；计算所述的基准曲线上的点到所述的校准直线的竖直距离与一个校准参数的大小关系；根据上述的大小关系，产生校准点。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：梁斌，王悦，王铁军，李维森，
申请(专利权)人：北京普源精电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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